1 一种提升良率降低用量的玻璃抛光液及其配方技术
简介：本技术提供了一种提升良率降低用量的玻璃抛光液，该玻璃抛光液的组分及重量成分组成包括：50‑55％的稀土金属氧化物粉，2‑5％的悬浮剂，0.2‑0.5％的蒙脱土，5‑10％的助溶剂，5‑10％的PEG40，其余的为去离子，本技术制备的玻璃抛光液，能有效的降低生产过程中的稀土金属氧化物的用量，提升玻璃抛光加工的良率，对后续清洗工艺降低了难度，使抛光后的玻璃制品，易清洗，将清洗的制程时间缩短一半，本技术的配方技术较为简单直观，物料损耗少，经济效益好，该玻璃抛光液可广泛应用于仪器玻璃、电子5G玻璃、汽车中控玻璃、手表和镜头等产品中。
2 一种用于玻璃抛光机中的抛光液循环过滤设备
简介：本申请涉及一种用于玻璃抛光机中的抛光液循环过滤设备，包括：罐体，用于容纳待过滤的液体；搅拌组件，设置在罐体内，用于对罐体内的液体进行搅拌；一次过滤组件，用于对待过滤液体进行初步过滤；二次过滤组件，用于对待过滤液体进行二次过滤；抽液泵，用于将液体从罐体内输送到二次过滤组件中。本技术的有益效果是：通过由粗到细的分级过滤可以有效缓解滤网的堵塞，且当上一级滤网堵塞时，抛光液会溢流至下一级滤网中，阶梯布置的滤网结构不会使抛光液越过后面的滤网直接流回至罐内，从而减少了抛光液未经过滤直接流回罐内的几率。
3 一种玻璃用抛光液及其应用
简介：本技术提供了一种玻璃用抛光液，属于玻璃表面加工领域。本技术玻璃用抛光液包括以下含量的组分：抛光粉4‑10g/L，分散剂300‑315g/L，氧化腐蚀剂20‑120g/L，碱性腐蚀剂3‑15g/L，酸碱试剂0.1‑1g/L，余量为水；其中酸碱试剂为酸性试剂、碱性试剂中的至少一种，分散剂为聚二甲基硅氧烷。本技术玻璃用抛光液利用机械磨削与化学腐蚀的协同作用来减少传统抛光法产生的表面瑕疵，提升玻璃的表面质量，同时使用聚二甲基硅氧烷作为分散剂，以更好的提高抛光粉的分散性和防沉性，充分发挥抛光粉的机械磨削作用。
4 一种超低色散玻璃镜片用抛光液及其配方技术
简介：本技术提供了一种超低色散玻璃镜片用抛光液及其配方技术，此抛光液包含：氧化锆抛光粉、硅酸锆抛光粉、玻璃抛光促进剂、PH值稳定剂、去离子水，并经混合制备而成，上述各组分的重量份比如下：氧化锆抛光粉15～30份、硅酸锆抛光粉1～5份、抛光促进剂0.5～2份、PH值稳定性剂1～5份、去离子水45～95份。本技术所提供的超低色散玻璃镜片用抛光液PH值稳定在4.0～4.9范围内。本技术所制备的超低色散玻璃镜片用抛光液，制备简单，抛光光洁度好、抛光效率高、使用成本低。
5 一种AG玻璃抛光液及其配方技术
简介：本技术提供了一种AG玻璃抛光液，该AG玻璃抛光液的组分及重量成分组成包括：氢氟酸5‑20％，氟化氢铵2‑15％，混合酸5‑20％，葡萄糖1‑5％，其余为纯水。本技术还提供了一种AG玻璃抛光液的配方技术，该配方技术简单，生产出的抛光液可大幅度提高抛光速度、增加抛光后玻璃表面的均匀性、适当降低粗糙度(Ra)和Rsm，同时还能减少抛光过程粘附在玻璃上的不溶物，提高AG玻璃的光泽度和透过率，并且还具有成本低的优势。
6 一种用于蓝玻璃滤光片的复合抛光液及其配方技术
简介：本技术提供了一种用于蓝玻璃滤光片的复合抛光液及其配方技术，该复合抛光液包括氢氧化铝、氢氧化锆和硅溶胶，以及液碱、表面活性剂、消泡剂和水。其配方技术采用氢氧化铝、氢氧化锆和硅溶胶经过高能球磨、干燥造粒、煅烧、高能球磨、高能分散后，形成分散好的物料，然后添加液碱、表面活性剂、消泡剂和水，制成稳定的复合抛光液体系，本技术所提供的复合抛光液在一步抛光的同时实现粗抛的切削率及精抛的表面质量，工艺简单，节约成本，能够降低清洗剂污水排放，具有很好的环境效益。
7 一种用于玻璃面板抛光的稀土抛光液及利用其抛光的方法
简介：本技术涉及一种用于玻璃面板抛光的稀土抛光液及利用其抛光的方法，属于玻璃表面抛光处理领域。为了解决现有的消泡性能差的问题，提供一种用于玻璃面板抛光的稀土抛光液包括以下成分的质量百分数：稀土磨粉：40％～45％，所述稀土磨粉含有氧化铈、氧化镧、氧化镨和氟元素，且所述氧化铈：氧化镧：氧化镨：氟元素的重量比为66～67：30～32：0.08～0.15：2.5～3.0；消泡剂：1.0％～1.5％；植物油：1.0％～1.5％；余量为水；且利用该抛光液的抛光方法是通过采用上述抛光液对玻璃面板进行抛光处理。本技术能够实现高化学抛光活性和高分散性，且实现有效消泡能力和使用寿命长的效果。
8 用于Ge-As-Se硫系玻璃光学表面加工的化学机械抛光液
简介：本技术提供了一种用于Ge‑As‑Se硫系玻璃光学表面加工的化学机械抛光液，包括：抛光粉、化学腐蚀试剂、酸碱试剂、分散剂和去离子水；抛光粉选用氧化铝、钻石粉或氧化铈；化学腐蚀试剂选用碱性试剂或氧化剂，碱性试剂为氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠、环己胺、三乙胺或乙二胺，氧化剂为双氧水、高锰酸钾、氯化铁、高铁酸钾中的一种；酸碱试剂用于保证抛光液酸碱性稳定，其中酸类选用硫酸、盐酸、草酸、醋酸、柠檬酸中的一种；碱类选用氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠、环己胺、三乙胺、乙二胺中的一种；分散剂选用多聚磷酸盐类物质，用于提高抛光粉在浊液中的分散性。本技术对不同组分的硫系玻璃仅需针对性的调整化学腐蚀试剂的浓度即可，具有普适性。
9 玻璃抛光液及其配方技术和使用其进行抛光处理的方法
简介：本技术提供了玻璃抛光液及其配方技术和使用其进行抛光处理的方法。该玻璃抛光液包括第一浓缩液和第二浓缩液，第一浓缩液包括：40～60重量份的含有氧化铈的抛光粉；1～5重量份的第一分散剂；0.001～0.005重量份的表面活性剂；以及34.995～58.999重量份的水，第二浓缩液包括：40～60重量份的氧化铈抛光粉；0.2～0.5重量份的第二分散剂；0.2～0.5重量份的第三分散剂；以及39～59.6重量份的水，其中，第一分散剂的密度不小于1.5g/cm3，第二分散剂和第三分散剂的密度小于1.5g/cm3。该玻璃抛光液在使用时分散剂不会积累，分散、悬浮效果好，稳定性好，使用寿命长，磨削速率稳定，抛光效果稳定，良率高；表面活性剂也不会发生积累，在抛光过程中不会产生大量泡沫，无需额外添加的消泡剂，磨削速率佳，抛光效果好。
10 一种高铝含碱玻璃抛光液及其配方技术
简介：本技术提供了一种高铝含碱玻璃抛光液及其配方技术，所述高铝含碱玻璃抛光液包括稀土抛光粉和表面活性剂，所述稀土抛光粉包括氧化铈、以及其它任意一种或多种稀土氧化物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于88％，其中，氧化铈在总稀土中的含量大于等于55％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0≤10μm、D10≤4μm、D50为0.8～2μm、D90≥0.5μm。本技术解决了现有抛光液用于高铝含碱玻璃抛光导致二次划伤、抛光粉残留在玻璃表面的问题。
11 玻璃抛光液及其配方技术
12 防眩目玻璃抛光液
13 玻璃抛光液
14 一种玻璃用抛光液及其配方技术
15 复合纳米磨料、抛光液及其配方技术、玻璃晶片和电子设备
16 一种玻璃自由曲面表面抛光液及其配方技术和应用
17 一种玻璃加工用抛光液及其配方技术
18 一种用于抛光玻璃的稀土抛光液及其配方技术
19 玻璃用抛光粉、抛光液及其配方技术、玻璃和电子产品
20 一种用于玻璃抛光的氧化铈液态悬浮抛光液
21 一种玻璃抛光用纳米氧化铈抛光液及其配方技术
22 抛光液组合物及其配方技术和玻璃抛光方法
23 一种光学玻璃抛光用高浓度氧化铈抛光液
24 一种玻璃抛光用水基氧化铈抛光液及其配方技术
25 用于去除玻璃边油的抛光液及去除玻璃边油的工艺
26 一种用于AMOLED屏玻璃基板的抛光液
27 一种玻璃棒抛光用抛光液收集装置
28 一种玻璃加工用高效抛光液
29 一种微晶玻璃高光亮度化学抛光液及配方技术
30 一种用于TFT‑LCD玻璃基板的高效抛光液
31 一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液
32 微酸性条件下的碱性玻璃抛光液以及应用
33 一种AG玻璃抛光液及AG玻璃生产工艺
34 一种氧化锆基质的软玻璃抛光液的配方技术
35 一种光学玻璃加工用氧化锆抛光液及其配方技术
36 用于加工石英光学玻璃的抛光液
37 无色光学玻璃加工用抛光液
38 用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液
39 用于加工有色光学玻璃的抛光液
40 光学玻璃加工用抛光液
41 石英光学玻璃加工用抛光液
42 用于加工无色光学玻璃的抛光液
43 用于加工光学玻璃的抛光液
44 耐辐射光学玻璃加工用抛光液
45 有色光学玻璃加工用抛光液
46 用于提高玻璃表面强度的抛光液及抛光方法
47 一种高性能玻璃抛光液
48 一种适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液
49 一种氧化锆基质的软玻璃抛光液的配方技术
50 一种软材质光学玻璃锆基抛光液的配方技术
51 一种用于改善ZF重火石玻璃发雾现象的抛光液
52 一种光学玻璃加工用氧化锆抛光液及其配方技术
53 用于加工防眩玻璃的抛光液及其配方技术
54 用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液
55 具有强化功能的玻璃抛光液
56 一种用于微晶玻璃的纳米抛光液及其配方技术
57 微晶玻璃抛光液的配方技术
58 高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法
59 微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液
60 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其配方技术
61 一种用于玻璃材料的抛光液及其配方技术
62 电子玻璃的纳米SiO*磨料抛光液
63 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：13510921263
