1、柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离方法
[简介]：本技术提供一种柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离方法，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差，将磁控溅射镀膜机的工作腔室物理隔离，有效减少工作气体的流失以维持各个工作腔室的真空度；可广泛应用于连续柔性薄膜显示器、薄膜太阳能电池、柔性调光窗膜、柔性电磁屏蔽膜等成膜的生产制造中。
2、一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备
[简介]：本技术提供了一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，包括壳体，该壳体具有一端开口的腔体，且腔体的长度为4.8～5.5m；其中，腔体内的底部在水平方向设置有长管支撑架，该长管支撑架的一端穿过壳体的开口端与传动装置连接；腔体的顶部沿其轴向设置有若干个靶座底盘，每个靶座底盘上均分布有多个靶座，每个靶座上均用于安装靶材，每个靶座底盘旁边均设置有用于更换靶材的腔门，靶座上设置有遮挡板，以遮挡靶材。所述磁控溅射设备在放入工件后，进行抽真空，启动电机并调节转速至指定值，进行镀膜。与传统镀膜设备相比，本技术所提供的磁控溅射设备能均匀镀覆长管类工件的所有表面，操作便捷，解决了现有磁控镀膜设备不适配于长管工件镀膜的问题。
3、一种用于轮毂的真空磁控溅射离子镀膜工艺
[简介]：本技术提供了一种用于轮毂的真空磁控溅射离子镀膜工艺，其技术方案要点是：具体包括以下步骤：S1、初制二氧化硅靶材：选用二氧化硅粉末，和占二氧化硅粉末质量比为0.02％?0.1％的粘合剂，初制二氧化硅靶材棒；S2、精制二氧化硅靶材；S3、抛光轮毂：把铝合金轮毂置于装有磨料的振动研磨机中，磨料采用粒度为80?100目的金刚砂和目数为70?90目的棕刚玉研磨石；S4、预真空磁控溅射镀膜：将所述S3中抛光后的铝合金轮毂置于真空磁控溅射镀膜机内的镀膜室正中；S5、真空磁控溅射镀膜；本工艺在轮毂表面镀硅时采用的二氧化硅为靶源，二氧化硅由于比硅单质的成本低廉，故能够极大的缩减成本；且镀在轮毂表面的硅模粘合性好，不容易发生脱落。
4、一种磁控溅射镀膜系统及其控制方法
[简介]：本技术提供了一种磁控溅射镀膜系统，包括真空泵和进气管；及安装于内的真空舱室内侧的极板、磁体、铜背板和靶材，及与靶材正对设置的基板，还包括设置于进气管上的流量阀，及设置于真空舱室内侧，用于特定光谱检测的光纤探头；所述光纤探头电连接到光谱仪；所述光谱仪通信连接到西门子PLC；所述流量阀电连接到西门子PLC；所述磁体为多组子磁体构成阵列；每组所述子磁体包括至少一永磁体和一电磁体；其中所述方法具体如下：第一步，磁控平面调整，第二步，镀膜启动，第三步，电磁体关闭，第四步，磁控溅射监控；本技术的磁控溅射镀膜控制方法，能够完成镀膜反应状态监测和控制，另外能够根据工艺要求，选择磁强等强或某一区域加强功能。
5、一种提升磁控溅射镀膜沉积速率装置
[简介]：本技术提供了一种提升磁控溅射镀膜沉积速率装置，包括真空腔室、设置真空腔室顶部的密封盖、穿设在密封盖上的升降台及固定设置在升降台上的助吸装置，所述助吸装置包括吸环、连管及半圆形密封盘，所述吸环上均匀分布吸气孔，所述连管与吸环相连通，所述半圆型密封盘设置在连管端部位置，所述吸环表面相对位置处设有支撑块，所述支撑块上设有紧固螺钉，并通过紧固螺钉与升降台相连。本技术的有益效果是：该装置设计结构合理，使用方便，应用本装置为样品进行磁控溅射镀膜，使镀膜效率得到提高，对薄膜的制造领域具有重要的意义。
6、能量过滤磁控溅射镀膜装置、透明导电氧化物薄膜的配方技术及HJT电池
[简介]：本技术提供了一种能量过滤磁控溅射镀膜装置、透明导电氧化物薄膜的配方技术及HJT电池，该装置包括真空室内相对设置的溅射靶材和衬底支架，衬底支架与溅射靶材的相对面上装设有需要镀膜的衬底，溅射靶材和衬底之间设置有平行于溅射靶材的过滤电极，过滤电极由若干个相互平行的金属线组成，金属线连接在衬底支架上。透明导电氧化物薄膜由上述装置制得。HJT电池中包含的透明导电氧化物薄膜由上述方法制得。本技术装置具有遮挡面积小、沉积速率高、靶材利用率高、成本低、适用范围广等优点，适合工业大规模生产推广，能够减少对衬底和透明导电氧化物薄膜的损伤，进而制备得到高质量透明导电氧化物薄膜以及具有优异电学性能的异质结电池。
7、一种大角度低漂移滤光片的磁控溅射镀膜方法
[简介]：本技术提供一种偏移范围小、识别精度高、生产能耗低、生产效率高的大角度低漂移滤光片的磁控溅射镀膜方法，本技术采用滚筒式双腔溅射镀膜机，内腔为溅射腔，外腔为装卸腔，大气压下，将基片装入装卸腔的镀膜机滚筒上，镀膜面朝外；抽气，当溅射腔和装卸腔的真空达到9.0*10?3Pa～8.0*10?3Pa时，基片随镀膜机滚筒进入溅射腔；当溅射腔真空达到8.0*10?5Pa～2.0*10?5Pa时，打开溅射源，通入氩气，同时打开离子源，通入氢气、氮气，在基片上形成氮掺杂氢化非晶硅层(α?Si:H)N2；打开溅射源，通入氩气，同时打开离子源，通入氧气，在基片上形成氧化硅层；依次反应，形成氮掺杂氢化非晶硅与氧化硅的交替叠层结构；最后在蒸发镀膜机上，在工件反面，镀相应波长的长波通。
8、一种磁控溅射高能镀膜方法
[简介]：本技术提供一种磁控溅射高能镀膜方法。这种磁控溅射高能镀膜方法通过将靶材分割成多个单元块，并调节磁块的位置使磁力线位于对应的单元块上第一中线的一侧或第二中线的一侧，当靶材不满足生产要求时，将对应的单元块绕其中心点旋转180°即可继续使用，提高了对靶材的利用率，减少了玻璃镀膜的成本；制备镀膜盖板，沉积速率快、工作效率高、膜层品质可控，镀膜过程全部在真空环境下，安全无污染；能够很好的消除了远端低能级沉积，从而使得膜的沉积均匀性更高，色差大幅减小。
9、一种卷绕式纤维镀膜磁控溅射装置
[简介]：本技术提供了一种卷绕式纤维镀膜磁控溅射装置，包括纤维丝线、真空腔体、升降台及靶材支座，所述真空腔体内部在位于靶材支座一侧的位置设有卷绕式纤维镀膜装置，所述卷绕式纤维镀膜装置包括卷绕装置及丝架装置，所述卷绕装置对纤维丝线进行放卷，并通过丝架装置进行张开后再通过卷绕装置对纤维丝线进行收卷。本技术的有益效果是：该装置设计结构简单合理，使用方便，应用本装置为纤维进行磁控溅射镀膜，纤维丝线在滑轮之间绕动，使纤维丝线上圆柱表面与下圆柱表面都能镀到膜，保证了纤维镀膜的全面性与均匀性，对纤维镀膜的制造领域具有重要的意义。
10、一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置
[简介]：本技术提供了一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，包括壳体，该壳体具有顶部开口的圆柱形腔体；腔体内的底部设置有与壳体外的传动装置连接的转动装置，转动装置上设置有工件架；腔体内壁上沿其轴向安装有若干对靶座底盘，每个靶座底盘上均分布有多个靶座，靶座上用于安装金属靶材，每对靶座底盘旁边均设置有用于更换金属靶材的腔门，靶座上设置有遮挡板；腔体顶部设有气体进出装置和高压空气出气口；工作时，金属靶材通过座电极连接外电路负极，工件架通过座电极连接外电路正极。本技术结构简单，操作方便，沉积薄膜均匀，靶材在磁控溅射时，由于受到磁力线的约束，保证镀层材料原子沉积率，节省了原料，提高了生产效率和成品质量。
11、防打火齿轮及磁控溅射镀膜装置
[简介]：本技术提供了一种防打火齿轮及磁控溅射镀膜装置，防打火齿轮包括：齿轮主体，齿轮主体包括绝缘齿轮环和套设于绝缘齿轮环内的强化套环，强化套环的外壁与绝缘齿轮环的内壁连接，强化套环的外壁与绝缘齿轮环的内壁贴合，绝缘齿轮环的外壁设有多个轮齿，绝缘齿轮环是绝缘的，强化套环的强度高于绝缘齿轮环的强度。通过采用绝缘材料的绝缘齿轮环和强化套环的双层结构，在实现齿轮与外部连接件的绝缘性的同时还能够加强齿轮整体的机械强度，特别是能够增加轴孔的强度，避免轴孔被外部连接的转轴磨损破坏，从而增加使用该防打火齿轮所在传动机构的运行稳定性。
12、一种磁控溅射镀膜方法
[简介]：本技术提供一种磁控溅射镀膜方法。这种磁控溅射镀膜方法通过将靶材分割成多个单元块，并调节磁块的位置使磁力线位于对应的单元块上第一中线的一侧或第二中线的一侧，当靶材不满足生产要求时，将对应的单元块绕其中心点旋转180°即可继续使用，提高了对靶材的利用率，减少了玻璃镀膜的成本；制备镀膜盖板，沉积速率快、工作效率高、膜层品质可控，镀膜过程全部在真空环境下，安全无污染；能够很好的消除了远端低能级沉积，从而使得膜的沉积均匀性更高，色差大幅减小。
13、一种方向性可控的磁控溅射镀膜装置
14、一种用于制备镝/铽镀层的磁控溅射镀膜系统和方法
15、一种直流磁控溅射镀膜电源快速可靠助燃电路
16、柔性卷对卷磁控溅射镀膜中超薄基带牵引方法
17、一种磁控溅射镀膜设备及其镀膜方法
18、内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构与方法
19、一种磁控溅射真空镀膜机工艺气体布气装置
20、一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及其加工方法
21、一种金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法
22、钼圆PVD磁控溅射镀膜方法
23、一种磁控溅射镀膜的生产工艺
24、一种磁控溅射镀膜设备
25、一种磁控溅射和电子束蒸镀双腔镀膜装置及其使用方法
26、一种粉体磁控溅射镀膜的装置和方法
27、一种磁控溅射中卷绕式纤维镀膜装置
28、柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置
29、一种卷绕式磁控溅射镀膜机
30、一种专用于晶片镀膜的磁控溅射镀膜机
31、大型磁控溅射镀膜机的真空室结构
32、一种PVD镀膜产线磁控溅射的磁场分布方法
33、一种升华磁控溅射镀膜一体机
34、一种磁控溅射镀膜机的旋转靶
35、一种磁控溅射镀膜设备及镀膜方法
36、一种适用于共形基底表面镀膜的磁控溅射镀膜装置相对运动机构及其镀膜方法
37、一种适用于磁控溅射仪的圆棒试样高通量镀膜夹持装置
38、磁控溅射镀膜机
39、一种平面矩形磁控溅射*极镀膜均匀性调整装置及方法
40、一种适用于磁控溅射仪的自动式圆棒试样镀膜夹持装置
41、一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置
42、一种溅射距离可调的磁控溅射真空镀膜装置
43、一种多工位长管材高效磁控溅射镀膜专用装置
44、一种用于磁控溅射镀膜的基片台
45、一种钕铁硼陶瓷表面金属化磁控溅射镀膜生产线
46、一种磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法
47、一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线及其镀膜方法
48、一种工艺气体分布均匀的磁控溅射真空镀膜设备
49、一种制备渐变中性密度滤光片的真空磁控溅射镀膜装置
50、一种基于磁控溅射的柜体表面金属镀膜工艺
51、磁控溅射原子层沉积真空镀膜系统
52、一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极
53、一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺
54、发动机气缸套内腔真空反应磁控溅射镀膜装置及方法
55、一种卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备及镀膜方法
56、一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法
57、一种磁控溅射与电子束复合型镀膜机
58、一种真空低温磁控溅射镀膜机
59、一种磁控溅射镀膜*极结构
60、磁控溅射卷绕镀膜机
61、装卸片装置以及磁控溅射镀膜设备
62、一种立式硅片磁控溅射镀膜机
63、一种磁控溅射镀膜生产线
64、一种手机PC板磁控溅射镀膜生产线及其生产工艺
65、一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置
66、立式磁控溅射镀膜用的偏压结构及其夹持装置
67、一种磁控溅射镀膜装置
68、弧形玻璃真空磁控溅射镀膜生产线
69、用于大面积玻璃磁控溅射镀膜生产线的传送装置
70、真空磁控溅射镀膜生产线
71、一种磁控溅射镀膜系统及利用其制备高纯度靶膜的方法
72、柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置
73、丝状样品与片状样品混合磁控溅射镀膜设备
74、用于大面积AZO透明导电玻璃的磁控溅射镀膜生产线
75、磁控溅射镀膜设备和磁控溅射镀膜方法
76、一种调节磁控溅射镀膜均匀性的装置
77、基于分段传送的连续式线型磁控溅射镀膜机
78、一种采用连续磁控溅射沉积法制备镀膜盖板的方法
79、利用真空磁控溅射镀膜技术制备锂电池C?Si负极涂层的方法
80、一种用于装夹靶材的磁控溅射镀膜装夹装置
81、一种提高磁控溅射镀膜过程中平面靶利用率的方法
82、一种EMI真空磁控溅射镀膜设备及其镀膜方法
83、一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机及镀膜方法
84、一种磁控溅射倾斜沉积镀膜装置
85、用于大面积玻璃磁控溅射镀膜生产线的溅镀装置
86、一种倾斜式连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线
87、一种用于玻璃磁控溅射镀膜的方法
88、LOW-E玻璃真空磁控溅射镀膜生产线
89、一种提高线型磁控溅射靶XX在凹形柱面基底镀膜质量的方法
90、薄膜太阳能电池前电极连续式磁控溅射单面镀膜生产线
91、一种用于卷对卷磁控溅射镀膜系统的柔性衬底实时冷却装置
92、一种磁控溅射镀膜装置
93、一种粉末颗粒振动式磁控溅射镀膜法
94、用于燃料电池金属双极板的卧式磁控溅射系统及镀膜工艺
95、一种PEMS等离子体增强磁控溅射镀膜设备
96、一种磁控溅射镀膜机用的基片固定夹具及使用方法
97、一种提高磁控溅射镀膜质量的方法
98、磁控溅射*极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备
99、一种珊瑚色磁控溅射低辐射镀膜玻璃生产工艺
100、一种用于磁控溅射镀膜的粉体分散方法
101、一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶
102、真空磁控溅射镀膜生产线出片输送机
103、磁控溅射致冷件晶板镀膜装置和致冷件晶板镀膜方法
104、磁控溅射镀膜源及其装置与方法
105、磁控溅射镀膜原膜基带展平方法
106、一种提高磁控溅射镀膜均匀性及稳定性的靶材基座
107、一种真空磁控溅射镀膜设备
108、增强型磁控溅射卷绕镀膜设备及方法
109、一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备
110、旋转式磁控靶及卧式磁控溅射镀膜设备
111、一种快速的真空磁控溅射镀膜设备及其加工方法
112、一种磁控溅射镀膜机
113、磁控溅射镀膜设备
114、一种磁控溅射微纳米粉体镀膜布料装置
115、利用真空磁控溅射镀膜技术制备锂电池C?Si负极涂层的方法
116、真空磁控溅射镀膜线真空保压箱过渡室快速换气装置
117、一种低温沉积磁控溅射镀膜装置及方法
118、一种等离子体参数自动控制磁控溅射镀膜装置
119、一种用于磁控溅射镀膜的粉体分散装置
120、一种磁控溅射镀膜装置及方法、纳米颗粒的配方技术
121、一种磁控溅射真空镀膜设备
122、磁控溅射镀膜设备
123、一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置
124、清理装置、磁控溅射镀膜机及玻璃镀膜方法
125、紧凑型柔性基材磁控溅射镀膜设备及方法
126、立式磁控溅射真空镀膜防绕镀方法及基片夹具
127、一种多功能立式连续磁控溅射镀膜系统
128、一种用于真空磁控溅射镀膜生产线出片输送机的玻璃缓存架
129、一种快速换靶双面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
130、磁控溅射镀膜设备及ITO玻璃的配方技术
131、一种磁控溅射镀膜工件台
132、一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
133、一种多功能连续磁控溅射真空镀膜自动控制系统
134、一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
135、柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机
136、一种实现多模式输出磁控溅射镀膜电源电路及控制方法
137、磁控溅射镀膜线的屏蔽冷却系统
138、水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置
139、一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置及方法
140、一种超细粉体磁控溅射镀膜设备
141、磁控溅射镀膜装置及其靶装置
142、一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
143、阳极场辅磁控溅射镀膜装置
144、真空气体保护压力烧结制备TiB2直流磁控溅射镀膜靶
145、柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机
146、箍缩磁场辅助磁控溅射镀膜装置
147、一种多功能磁控溅射自动镀膜生产线及其镀膜方法
148、一种双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
149、磁控溅射镀膜机
150、一种柔性基材双面连续卷绕磁控溅射镀膜自动生产线
151、卷对卷磁控溅射*极与柱状多弧源相结合的真空镀膜系统
152、一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
153、一种基于磁控溅射技术的钢球镀膜夹具装置
154、一种柔性基材单面连续卷绕磁控溅射镀膜自动生产线
155、磁控溅射镀膜设备
156、一种高效率双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
157、一种快速换靶双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
158、一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线
159、一种磁控溅射镀膜
160、磁控溅射镀膜设备及ITO玻璃的配方技术
161、一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置
162、一种磁控溅射镀膜真空室温控门及应用方法
163、磁控溅射镀膜真空箱体
164、一种直流磁控溅射镀膜电源快速灭弧电路
165、一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备
166、一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置及应用方法
167、磁控溅射镀膜系统
168、双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线
169、一种磁控溅射镀膜衬底固定夹具
170、磁控溅射镀膜方法及系统
171、一种提高磁控溅射镀膜用靶材使用率的方法
172、磁控溅射镀膜系统
173、一种磁控溅射镀膜机传热装置
174、一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置
175、一种用于氮化硅沉积的磁控溅射镀膜设备及镀膜方法
176、一种可兼容不同尺寸基片和不同薄膜的磁控溅射镀膜夹具
177、磁控溅射倾斜沉积镀膜装置
178、一种真空磁控溅射镀膜磁悬浮ITO薄膜装载运行装置及应用方法
179、磁控溅射镀膜生产线
180、磁控溅射镀膜系统
181、一种实现高功率脉冲和大电流磁控溅射镀膜功能的电路设备及控制方法
182、一种室温下AZO导电膜的连续式磁控溅射镀膜方法
183、一种人工关节臼杯、磁控溅射镀膜装置及其配方技术
184、一种中频磁控溅射镀膜用*极
185、磁控溅射镀膜装置
186、一种真空磁控溅射镀膜磁悬浮传动装置及应用方法
187、磁控溅射镀膜系统
188、一种磁控溅射镀膜用*极
189、磁控溅射镀膜装置及镀膜方法
190、复式轨道双对称可分离腔体磁控溅射镀膜设备
191、一种利用磁控溅射镀膜机镀外缘全封闭带的工艺
192、动态沉积磁控溅射镀膜装置、方法及该方法制造的衬底
193、一种采用磁控溅射镀膜的电子器件及其制造方法
194、旋转异形靶*极机构及磁控溅射镀膜装置
195、大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法
196、磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备
197、一种自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备及其镀膜方法
198、一种直列多靶磁控溅射镀膜装置
199、一种在微生物表面磁控溅射金属镀膜的方法
200、一种动磁场真空镀膜磁控溅射源
201、一种反应磁控溅射镀膜的紫外线辅助装置
202、多功能磁控溅射镀膜装置
203、一种卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置及方法
204、展平装置及磁控溅射卷绕镀膜设备
205、磁控溅射镀膜*极机构
206、一种离子束磁控溅射复合镀膜的装置
207、调节式布气系统及包含其的磁控溅射镀膜装置
208、用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置
209、灯杯磁控溅射镀膜及表面真空硬化保护层连续生产工艺
210、一种用于磁控溅射镀膜过程的直流脉冲装置
211、一种磁控溅射镀膜真空传动机构
212、一种真空磁控溅射镀膜用的旋转*极
213、磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶
214、多功能连续式磁控溅射镀膜装置
215、一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线
216、一种磁控溅射镀膜用磁钢检测装置
217、闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备
218、磁控溅射镀膜装置
219、卷绕磁控溅射镀膜系统边框效应克服机构
220、一种大尺寸磁控溅射镀膜的简易强化方法
221、用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置
222、一种磁控溅射镀膜装置、纳米多层膜及其配方技术
223、一种磁控溅射镀膜系统
224、一种离子束磁控溅射两步法制备微晶硅薄膜的方法
225、对聚酯型聚氨酯泡沫基体进行磁控溅射镀膜的设备及方法
226、少落尘的真空磁控溅射镀膜设备
227、磁控溅射镀膜装置
228、磁控溅射镀膜装置
229、辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置
230、大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机
231、一种磁控溅射镀膜装置的辅助阳极单元
232、将陶瓷靶应用于磁控溅射镀膜玻璃的生产工艺
233、用于粉体颗粒表面镀膜的对靶磁控溅射装置及镀膜方法
234、基于非平衡磁场的双通道连续磁控溅射镀膜设备
235、一种基于高功率脉冲磁控溅射的离化率可控镀膜设备
236、一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法
237、磁控溅射镀膜生产系统及其生产工艺
238、中频磁控溅射镀膜装置
239、一种分压控制大面积磁控溅射镀膜系统及其方法
240、一种真空磁控溅射镀膜用旋转*极驱动系统
241、连续式太阳能集热板芯片真空磁控溅射镀膜生产线系统
242、磁控溅射镀膜*极装置
243、一种恒功率输出磁控溅射镀膜电源
244、真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机
245、滚筒式样品台以及用其进行粉体颗粒的磁控溅射镀膜方法
246、超声波样品台以及用其进行粉体磁控溅射镀膜的方法
247、多功能磁控溅射镀膜装置
248、用于磁控溅射镀膜的导电Nb2O5-x靶材及生产方法
249、多功能磁控溅射连续镀膜机
250、微波食品包装阻隔膜及制备法与磁控溅射法陶瓷镀膜装置
251、一种用于镀制贵金属膜的磁控溅射靶
252、真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶
253、一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置
254、磁控溅射镀膜系统中提高平面靶材利用率的方法
255、磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法
256、能量过滤磁控溅射镀膜方法及实施该方法的装置
257、宽幅连续磁控溅射镀膜辊正反螺旋流冷却结构
258、多工位轴瓦磁控溅射镀膜装置
259、应用于磁控溅射镀膜中的膜厚修正工艺及设备
260、大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线
261、一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置
262、一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法
263、多级加速模式下磁控溅射镀膜方法
264、可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃
265、磁控溅射卷绕镀膜机
266、星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺
267、一种磁控溅射镀膜用低熔点金属与背板加工工艺
268、霍尔源激励磁控溅射增强型磁过滤多弧离子复合镀膜方法
269、磁控溅射镀膜机的永磁XX靶装置
270、防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
271、太阳能集热管真空磁控溅射连续镀膜线系统
272、霍尔源激励磁控溅射增强型多弧离子镀膜方法
273、磁控溅射镀膜夹具及其使用方法
274、一种平面磁控溅射-多工位镀膜装置
275、磁控溅射热弯镀膜玻璃的生产方法
276、非平衡平面磁控溅射*极及其镀膜装置
277、可调式对向磁控溅射源
278、平面磁控溅射靶及其镀膜方法
279、复合磁控溅射靶及其镀膜方法
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