1 激光诱导空化辅助液体射流抛光设备及射流抛光用喷嘴
简介：本技术提供一种射流抛光用喷嘴，包括喷嘴主体、混合腔、压力水入口、磨料液体入口和喷口，混合腔向喷口方向逐渐收口，混合腔内设置光纤支架，光纤支架上固定光纤束，光纤束末端在喷口的收口部位散开，散开的光纤束端口均匀分布形成光纤阵列。还提供一种激光诱导空化辅助液体射流抛光设备，包括压力水系统、磨料液供给回收系统、激光系统和喷射系统，喷射系统包括的射流抛光用喷嘴，压力系统接入喷嘴的压力水入口提供射流压力，磨料液供给回收系统接入磨料液体入口提供磨料液，激光系统包括连接光纤束的脉冲激光器。本技术基于传统的液体射流抛光技术引入激光空化技术，两者结合达到促进加工效率的目的，且可以解决现有的空化效应强度不便调节的问题。
2 一种盲孔抛光用负压液体气化抛光装置及其方法
简介：本技术提供了一种盲孔抛光用负压液体气化抛光装置及其方法，包括工作台、移动定位模块、旋转流道模块和从动夹持模块；从动夹持模块包括支撑块、从动夹持盘、轴承和转盘底座，旋转流道模块包括旋转夹持头、旋转接头固定座、流道固定板、滑轨连接板、抽气口单向阀、气液磨粒流接头、磨粒流入口阀、流道接头、空心流道、旋转接头、法兰盘、旋转驱动电机、旋转主动轮、旋转从动轮、旋转同步带和主夹持端O型圈，本技术可以对盲孔类工件的盲孔进行抛光，在加工过程中利用抛光产生的热量并结合抽气装置使装置内部气压降低，从而使由固体磨粒和低沸点磨粒流组成的磨粒流在在升温和低压的情况下部分气化，提高固液二相磨粒流的抛光效率。
3 化学液体加热系统与化学机械抛光的方法
简介：本技术实施例涉及化学液体加热系统与化学机械抛光的方法。本揭露提供一种化学液体加热系统，所述化学液体加热系统包含：第一导管，用于输送化学液体；施配头，其经连接到所述第一导管；及辐射加热元件，其经配置以加热所述第一导管中的所述化学液体且经定位于所述施配头的上游处。
4 一种超声空化辅助搅拌磁流变抛光液的液体循环装置
简介：本技术提供一种超声空化辅助搅拌磁流变抛光液的液体循环装置，属于磁流变抛光的技术领域，包括储液罐、超声空化系统以及搅拌器；超声空化系统包括超声波发生器、压电换能器、变幅杆、阶梯圆盘和振动圆筒；阶梯圆盘的上表面设置有高度等于磁流变抛光液半波长的阶梯；振动圆筒的下端与阶梯圆盘上最外侧阶梯的上端连接，长度为磁流变抛光液半波长的整数倍，外壁涂有吸声材料；压电换能器的输入端与超声波发生器连接，输出端与变幅杆连接；变幅杆与阶梯圆盘连接。该装置能够在磁流变抛光过程中产生大范围的超声空化现象，空化现象产生的空化气泡以及溃灭时释放的冲击能量实现磁性颗粒、非磁性磨料颗粒的在线均匀分散，并预防颗粒发生沉降。
5 一种液体金属抛光剂的配方技术
简介：本技术涉及抛光剂制备技术领域，具体涉及一种液体金属抛光剂的配方技术。本技术制得的液体抛光剂在使用后，富含氮磷硫的浓缩液会在金属基体表面产生一层化学极压膜，防止金属基体之间相互磨损产生大的抛光划痕，而脂肪醇类化合物能起到稳泡作用，增加液体抛光剂的稠度，在金属表面产生粘滞效应，粘滞的液体和氮磷硫极压膜共同为金属表面提供一层保护膜，来缓冲抛光过程中相互摩擦产生大的磨痕，而粘滞作用产生的保护膜不是一成不变的，而是在运动中的动平衡，粘性液体与金属基体表面之间的滑动而产生的滑动摩擦，这种摩擦更均匀，更细致，因此可以达到较低的粗糙度，具有广阔的应用前景。
6 一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液
简介：本技术提供了一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液，所述抛光液由油相、分散相溶剂、酸性离子液体（AIL）、表面活性剂以及助表面活性剂组成。在表面活性剂和助表面活性剂的作用下，AIL溶液作为分散相被包覆在油相中，形成油包酸性离子液体微乳液（AIL/O）。在化学机械抛光时，AIL/O微乳液受到挤压和摩擦作用，AIL分子突破界面膜达到晶体表面，并与表面凸起部位发生化学反应，实现表面的选择性去除。本技术的用于KDP晶体的AIL/O抛光液，制备简单、性质稳定，综合考虑了KDP晶体的反应特性和化学机械抛光技术的特点，既具备了微乳液潮解抛光的高选择性，又兼容了有机酸/碱腐蚀抛光的优点，能够有效的削弱飞切刀纹，降低表面粗糙度，并且表面无残留。
7 不锈钢液体抛光蜡及其配方技术
简介：本技术提供了一种不锈钢液体抛光蜡及配方技术，抛光蜡包括蜡、脂肪酸、乳化剂、表面活性剂、油脂、磨料、添加剂及去离子水，配方技术：搅拌下依次将蜡、脂肪酸、乳化剂、油脂、添加剂加入80～90℃恒温容器中，搅拌至全部溶解得混合液；将表面活性剂、去离子水加入另一容器中，加热搅拌至完全溶解，得到表面活性剂溶液；将表面活性剂溶液缓慢加入混合液中，80～90℃下继续搅拌20‑40分钟乳化；将磨料加去离子水配制成磨料悬浮液；再将磨料悬浮液缓慢加入搅拌，冷却后高速搅拌30‑50分钟即得产品。本技术的抛光蜡对不锈钢进行机械抛光，可以获得较好的表面质量、较高的光泽度，且抛光后工件清洗简单。配方技术的工艺简单、易操作、可生产出高质量的产品。
8 具有带有液体填充物的致孔剂的抛光垫
简介：描述了具有带有液体填充物的致孔剂的抛光垫以及制造具有带有液体填充物的致孔剂的抛光垫的方法。在实例中，用于抛光基板的抛光垫包括抛光体，所述抛光体具有聚合物基质以及分散在整个所述聚合物基质中的多个致孔剂。所述多个致孔剂中的每一个均具有带有液体填充物的壳。该液体填充物具有在1atm压力下的低于100摄氏度的沸点、比水低的密度、或者这两者。
9 一种液体抛光蜡及其配方技术
简介：一种液体抛光蜡，按重量份由以下组分组成：硬脂酸10～20份、液体石蜡20～30份、光亮剂6～10份、乳化剂5～10份、氧化铝10～15份、石英粉15～20份、水15～20份，与现有技术相比，本技术采用了不同的原料、配比及制作工艺，比普通的液体抛光蜡抛光效果增强了1～2倍，使用时间缩短了1～2倍，从而有效提高工作效率，显著节约了生产成本。
10 利用液体传递兆赫级振动的超声抛光方法及其抛光装置
简介：利用液体传递兆赫级振动的超声抛光方法及其抛光装置，涉及一种抛光方法及其装置，该方法通过柔性的耦合剂传递振动，将振子的高频超声振动传递到振动抛光工具上；实现了不依赖于整体模态分析与模态设计的振动抛光工具。并将该方法应用在硅片抛光领域，设计了一套利用液体传递兆赫级振动的超声抛光装置，对振子上的压电陶瓷片施加适宜频率的交变电压的激励，振子将在设计的模态下共振，高频的振动通过耦合剂传输到振动抛光工具，最终将兆声振动传输至抛光液，使抛光液颗粒有效发挥作用，从而获得被抛光硅片完整的表面晶格、超高形面精度以及极低的粗糙度。此利用液体传递振动的方法，使振动的附加具有更强的灵活性，拓展了振动利用的范围。
11 一种用于光学平面抛光机床的液体静压轴承
12 一种液体抛光蜡组合物
13 用于立式轴系的液体静压转动支承组件及研磨抛光机
14 一种用于电化学抛光镁合金的离子液体抛光液及其配方技术
15 一种液体抛光单晶硅片的方法
16 单晶硅片液体抛光方法
17 一种液体生物抛光酶及其制造方法
18 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其配方技术及其在抛光中的用途
19 一种纳米磁性液体清洗抛光装置
20 一种纳米磁性液体清理抛光装置
21 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其配方技术及其在抛光中的用途
22 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其配方技术及其在抛光中的用途
23 包含封装在聚合物外壳中的液体有机材料芯体的化学机械抛光垫及其制造方法
24 液体抛光组合物和套件
25 抛光液体
26 液体喷射抛光的方法
27 双液体泡沫家具抛光漆
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费200元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
