1 一种高纯度光学镀膜二氧化硅的生产线
简介：一种高纯度光学镀膜二氧化硅的生产线，包括一级破碎单元、输送带单元一、二级破碎单元、输送单元二、一级磁选单元、磁选输送单元三、转运单元、输送带单元四、清洗单元、三级振动磁选单元、输送带单元五和烘干单元。本技术所述的高纯度光学镀膜二氧化硅的生产线，将定石英原料分别经过一级破碎和二级精细破碎后，送入高精度智能化磁选机，通过磁选机三次，让磁选机中强大的磁场将废石英颗粒中含金属的颗粒吸附并排出，将去除含金属的石英颗粒后剩余的石英颗粒送入水洗机，通过合理的工序设置，能够得到较高纯度的二氧化硅。其工序结构设计合理，易于生产。生产工艺的自动化程度高，工作效率高。
2 二氧化硅（SiO2）化学镀膜后处理的工艺技术方法
简介：本技术提供一种二氧化硅化学镀膜后处理工艺技术方法，专用于化学镀膜后处理工序（采用专利申请号201910902177.3配方制备的浆液），对镀完SiO2膜的工件按本技术工艺技术方法进行处理，可得到硬度高、耐磨性好、绝缘性好、致密度高、光透过率高、附着力强、形状任意的二氧化硅覆膜产品；处理后的SiO2膜获得的优异理化特性，在新型半导体器件、量子器件研发、超导薄膜应用、燃料电池堆体制造、生物工程、等高新技术领域有广泛用途。
3 二氧化硅（SiO2）化学镀膜浆料的制备技术方法
简介：本技术提供一种二氧化硅（SiO2）化学镀膜浆料的制备技术方法，使用该配方浆料可在目标材料表面上镀制二氧化硅膜，进而利用二氧化硅的各项物化特性对物体表面改性，使之获得新性能或改善原性能。尤其适合二氧化硅立体镀膜技术，主要有透光率高、附着力强、成膜致密、可在微纳米尺度下任意成形、成本低，适合规模化生产等优点。镀膜后可以使物体表面在硬度、离子阻隔、耐腐蚀、微纳米结构制备、生物培养表面构造、光催化介质、高介电常数绝缘膜层等特性得到强化、改善，在新型半导体器件、量子器件研发、超导薄膜应用、燃料电池堆体制造、生物工程、等高新技术领域有广泛用途。
4 一种疏水二氧化硅结合镀膜剂在制备高吸水树脂中的应用及由此制得的高吸水树脂及其应用
简介：本技术涉及一种疏水二氧化硅结合镀膜剂在制备高吸水树脂中的应用及由此制得的高吸水树脂及其应用。高吸水树脂的制备：将丙烯酸、水、交联剂和疏水二氧化硅混合后通氮除氧，加引发剂引发聚合，再经保温处理，得聚合胶体；经造粒，得树脂颗粒；中和树脂颗粒，喷洒第一表面处理液表面处理，再经干燥、破碎得吸水性树脂颗粒；往吸水性树脂颗粒表面喷洒第二表面处理液表面处理后，得高分子吸水性树脂颗粒；将高分子吸水性树脂颗粒加热后加镀膜剂后，再加入液态二氧化硅并搅拌均匀，经冷却得高吸水树脂。本技术的吸水树脂在与纸浆的复合过程中可以延缓初期对水分的吸收从而保证了吸水树脂与纸浆的充分混合，非常适合于湿法制造吸水纸。
5 用于制备二氧化硅减反射膜的镀膜液
简介：用于制备二氧化硅减反射膜的镀膜液，涉及工业镀膜液生产技术领域，由以下组分制备而成：异丙醇70kg，冰乙酸0.32kg，硝酸0.32kg，纯水12kg，正硅酸乙酯20kg，甲基三乙氧基硅烷20kg，KH5604kg，KH5702kg，N‑甲基吡咯烷酮13.2kg，柔性剂56kg，交联剂28kg。本技术制备的用于制备二氧化硅减反射膜的镀膜液透过率高，增益大于2.3％，膜层表面致密度高，对膜层性能的提高效果明显，同时铅笔硬度达到4H；耐候性能、耐紫外性能、耐湿热湿冻性能等均达到JC/T2170‑2013标准的要求，综上，该镀膜液能够满足市场需求。
6 掺锆二氧化硅聚合物溶胶及其增透减反镀膜液的制备应用
简介：本技术涉及增透减反镀膜液领域，具体涉及一种掺锆二氧化硅聚合物溶胶及其增透减反镀膜液的制备应用。本技术提供了一种掺锆二氧化硅聚合物溶胶，所述掺锆二氧化硅聚合物溶胶通过含有烷氧基硅烷、锆盐、溶剂、水和酸的原料复合而成。本技术通过将含有掺锆二氧化硅聚合物溶胶、水、高分子聚合物乳液的原料复合从而得到增透减反镀膜液。本技术所得到的增透减反镀膜液，经固化、钢化后，既保证膜层具有较高孔隙率及机械强度，又使膜层表面致密，达到既增加透光率又保持较好耐脏污性能的目的，很好地解决了现有技术制备的水性增透膜存在的透光率及耐脏污性能差的缺点。
7 一种改性二氧化硅玻璃镀膜液的配方技术
简介：本技术提供了一种改性二氧化硅玻璃镀膜液的配方技术，属于镀膜液的技术领域。本技术首先将二氧化钛和二氧化硅用偶联剂进行预处理增加反应基团，再以盐酸多巴胺、L‑胱氨酸为原料制备具有负折射率的手性物质，聚多巴胺表面的醌基可固定L‑胱氨酸，使材料具有负折射率，再在微生物作用下对二氧化硅等进行包覆，降低二氧化硅膜的折射率，最后再以透明高分子和纤维素为补强剂增加材料的强度和耐酸性，同时可防止环境中的污染物和水汽进入薄膜内部从而破坏薄膜结构、薄膜与基底的结合力，本技术制备的改性二氧化硅玻璃镀膜液折射率低、抗污性能良好，延长了膜层的使用寿命。
8 二氧化硅光学镀膜材料的配方技术及二氧化硅材料
简介：α?SiO2光学镀膜材料的配方技术，是一种制备光学镀膜材料的新的工艺方法，它省去了通常制备玻璃态SiO2光学镀膜材料需在1700℃以上高温熔融的复杂的工艺流程，代之而来的制备结晶态α?SiO2光学镀膜材料，只需在较低温度不超过600℃的条件下进行热处理即可获得镀膜效果极佳的光学镀膜材料。大幅度地降低了光学镀膜材料的制备成本、具有显著的经济效益。
9 一种改性纳米二氧化硅制备镀膜液的方法
简介：本技术涉及一种改性纳米二氧化硅制备镀膜液的方法，属于镀膜液制备技术领域。本技术先从麦麸粉末中提取得植酸，再将纳米二氧化硅溶胶与乙醇溶液混合得到纳米级硅溶胶?乙醇溶液，利用硅烷偶联剂KH?550对纳米二氧化硅表面进行改性，减弱了二氧化硅溶胶表面的极性，使分散性得到提高，将改性后硅溶胶粉末和植酸等物质混合制备得镀膜液的方法，该方法利用植酸可以提高镀膜液的抗氧化性和耐候性，用硅烷偶联剂KH?550改性后的纳米二氧化硅制备得到的镀膜液透光率高，稳定性好，不易沉聚，是镀膜液透光率达到97％以上，耐候性提高17～25％，而且制备步骤简单，成本低。
10 纳米核壳二氧化硅微球及增透减反复合镀膜液制备应用
简介：本技术涉及玻璃表面增透减反技术领域，具体涉及一种纳米核壳二氧化硅微球及其与硅铝溶胶复合而成的复合镀膜液和它们的配方技术。本技术是采用阳离子型聚苯乙烯乳液为硬模板制成纳米核壳结构二氧化硅分散液，然后再与硅铝溶胶复合制备增透膜镀膜液经钢化处理得到增透膜，本技术的原料简单易得，工艺简单制备得到中空结构增透膜，本技术将孔洞置于粒子内部而非置于二氧化硅网络中，从而保证膜层具有较高透光率，透光率达到94.5％以上，具有较高孔隙率，并且该膜层具有优异的耐脏污性能，该增透减反膜与玻璃基体结合牢靠，膜层硬度较高，而且由于表面致密，对水汽侵蚀膜层具有很好的阻挡作用，因此耐候性能佳，具有工业化应用价值。
11 硅镁铝溶胶和掺杂核壳二氧化硅微球镀膜液及制备应用
12 一种改性纳米二氧化硅镀膜液的配方技术
13 一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的配方技术
14 一种低挥发性纳米二氧化硅溶胶镀膜液的配方技术
15 一种高稳定性纳米二氧化硅溶胶镀膜液的配方技术
16 二氧化硅光学镀膜材料的配方技术及二氧化硅材料
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费200元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
