1 一种多结构体化学机械抛光垫、制造方法及其应用
简介：本技术提供了一种多结构体化学机械抛光垫、制造方法及其应用，包括：主结构体，表面改性的次级结构体，保护结构体以及将主结构体与表面改性的次级结构体粘接起来的上连接体，和将表面改性的次级结构体与保护结构体粘接起来的下连接体。本技术表面改性的次级结构体具有优异的断裂伸长率、拉伸强度等力学性能，其厚度也更为均匀，且与连接体的粘接剥离强度更为优异，使得由所述表面改性的次级结构体制成的化学机械抛光垫的组合性能更佳。
2 一种抛光垫
简介：本技术提供一种抛光垫，包括抛光层，所述抛光层包括抛光表面和位于抛光表面上的抛光单元，所述抛光单元至少为一个，抛光单元组成抛光单元群，抛光单元群的一端形成接触表面，接触表面与被研磨材料直接接触，每个抛光单元在接触表面投影为平行四边形；多个抛光单元分别组成第一部分和第二部分，第一部分沿第一方向延伸并均匀间隔，第二部分沿与第一方向平行的方向延伸并均匀间隔；并且，抛光单元的接触表面的面上具有通道，且包括第一通道和第二通道；本技术抛光垫的结构与限定的抛光单元面积比，有效面积比、有效通道体积比以及有效通道的宽度比等参数相结合时，具有优异的综合性能。
3 一种抛光垫及半导体器件的制造方法
简介：本技术提供一种抛光垫及半导体器件的制造方法，该方法包括使用具有特定图案及物性参数的抛光垫对半导体晶片表面进行研磨的工序；本技术还提供了一种抛光垫，所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层硬度为40‑70D，密度为0.6‑0.9g/cm3，并且抛光层包括抛光表面和位于抛光表面上的抛光单元，抛光单元的一端形成接触表面，接触表面与被研磨材料直接接触；多个抛光单元分别组成第一部分和第二部分，第一部分沿第一个方向延伸并均匀间隔，第二部分沿与第一个方向平行的方向延伸并均匀间隔；并且，抛光单元的接触表面的面上具有通道，且包括第一通道和第二通道；本技术抛光垫限定的抛光单元面积比，有效面积比等参数与限定的抛光层物性参数相结合时，具有优异的综合性能。
4 一种抛光垫
简介：本技术提供一种抛光垫，包括研磨层，研磨层与直径为Dw的被研磨材料直接接触，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三个研磨区的宽度依次为W1,W2,W3，其中第二研磨区宽度W2满足：W2＝0.8Dw‑0.995Dw；本技术通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的相关参数以及研磨层，缓冲层物性参数进行综合设计，使得本技术的抛光垫具有优异的综合性能。
5 一种抛光垫的加工装置及加工方法和由其制得的抛光垫
简介：本技术提供一种抛光垫的加工装置及加工方法和由其制得的抛光垫，所述加工装置包括齿轮式刀具，可通过多排齿轮刀对抛光垫进行加工，提高了抛光垫槽加工的工作效率；利用所述加工装置的抛光垫加工方法不仅解决了插铣刀具无法进行完整切削的问题，而且所述齿轮式刀具与气体冷却相配合，可大大降低加工过程中抛光垫和刀具的温度，避免立式铣刀的熔融现象；采用所述加工方法加工制得的抛光垫可有效保障产品槽宽度和深度的一致性，平面度≤0.1mm，表面粗糙度≤6，产品外观和品质得到较大提升。
6 抛光垫修整器及其制作方法
简介：本技术提供了一种抛光垫修整器及其制作方法，该抛光垫修整器包括：金属底座；多个连接机构，每个连接机构至少包括凹槽结构，所述凹槽结构开设在所述金属底座的上表面上，用于盛放粘接剂；修整器本体，通过所述多个连接机构紧固粘接在所述金属底座的上表面上；防护凸起，设置在所述金属底座上表面的边缘处，所述防护凸起与所述修整器本体的侧面相抵接，并且所述防护凸起上表面的高度小于所述修整器本体上表面的高度。该抛光垫修整器具有高强度，通过在金属底座的粘贴面上雕刻出多个特定形状的凹槽结构，并在凹槽结构内滴入一定量的粘接剂后，将修整器本体贴覆在金属底座上并轻轻按压，使得修整器本体与金属底座高平整度贴合。
7 透光性改进的浇注型聚氨酯弹性体制造方法及其作为抛光垫窗口材料的应用
简介：本技术涉及一种浇注型聚氨酯弹性体的制造方法，该法包含了特定的浇铸和成型工艺条件等，具体是先形成包含端异氰酸酯基聚氨酯预聚物、二胺类扩链剂和含氟烃类化合物的浇注混合物，然后使浇注混合物在特定温度条件下停留一段时间，最后进行固化；借由该法制得的聚氨酯弹性体材料，在不损失诸如硬度和储能模量等力学性能的前提下，具有改进的透光性能；可以用作诸如化学机械抛光(CMP)过程中的光学终点检测材料等的用途。
8 抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法
简介：本技术提供了一种抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法。所述装置包括修整器，用以修整抛光垫；和数据采集装置，用以采集与所述抛光垫表面状态相关的状态数据，所述修整器根据所述状态数据对所述抛光垫进行修整。根据本技术的抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法，通过对抛光垫表面的状态进行监控，根据抛光垫表面的状态控制对抛光垫表面进行修整的频率，及时对抛光垫进行修整。有效减少了抛光垫在化学机械抛光过程中的釉化层的累积，使晶圆的去除量或者厚度保持稳定；减少抛光垫的更换频率，减少了化学机械抛光工艺中的成本、人力，提升了机台产能。
9 抛光垫及其制造方法和利用其的半导体器件的制造方法
简介：本技术提供一种抛光垫及其制造方法和利用其的半导体器件的制造方法。根据本技术的抛光垫，通过将气孔区域和非气孔区域的模量平均值调节为0.5GPa至1.6GPa，从而实现抛光垫的优异的寿命特性，而且可以改善在半导体衬底的表面上出现的划痕和表面缺陷，还可以进一步提高抛光速率。
10 一种将抛光垫的初始状态转变为亲水性的方法和装置
简介：本技术实施例提供了一种将抛光垫的初始状态转变为亲水性的方法和装置；该方法可以包括：将新抛光垫粘贴至抛光机台的下定盘后，将符合设定硬度以及粗糙度材质制成的转换用晶圆置于抛光头的组装式吸附垫中；利用所述新抛光垫对所述转换用晶圆进行抛光作业；当所述新抛光垫对设定数目的转换用晶圆完成抛光作业后，所述新抛光垫的表面状态转变为亲水性状态。
11 一种修整边缘抛光垫的系统及方法
12 一种化学机械抛光垫的抛光层及其配方技术
13 一种双组分水性聚氨酯、其用途、由其形成的聚氨酯复合抛光垫及配方技术
14 抛光垫、其配方技术及使用其制备半导体器件的方法
15 交联度可被调节的抛光垫及其配方技术
16 一种抛光垫及其配方技术、应用
17 抛光垫用组合物及抛光垫
18 一种阻尼布抛光垫的配方技术
19 一种带式抛光垫
20 抛光垫修整器、抛光设备及方法
21 一种抛光垫修整器及化学机械平坦化设备
22 一种玻璃抛光垫及其配方技术
23 用于修整半导体晶片抛光垫的装置
24 化学机械抛光垫调节器及其制造方法
25 用于抛光晶片的背面的高强度抛光垫
26 一种抛光垫、抛光设备及硅片的抛光方法
27 抛光垫修整装置和抛光垫修整方法
28 CMP抛光垫用聚氨酯及其配方技术
29 低粘度聚氨酯制备抛光垫的方法
30 聚氨酯抛光垫片层的配方技术
31 一种抛光垫修整器及其制作方法
32 抛光垫用组合物、抛光垫及半导体器件的制造方法
33 阳离子氟聚合物复合抛光垫
34 薄膜氟聚合物复合CMP抛光垫
35 一种高耐久人工皮革抛光垫的配方技术
36 一种抛光垫微观接触状态的测量装置及其使用方法
37 一种在线检测抛光垫接触特征的试验装置及其使用方法
38 具有改进的交联密度的抛光垫及其配方技术
39 使缺陷发生率最小化的抛光垫及其配方技术
40 一种抛光垫及其配方技术
41 一种抛光垫的修整轮及修整装置
42 一种抛光垫及其配方技术和在大理石抛光中的应用
43 一种聚氨酯复合抛光垫及其配方技术
44 抛光垫清洗装置
45 一种化学机械抛光垫的抛光层及其应用
46 一种抛光垫辅助粘贴装置
47 晶圆清洁和抛光垫、晶圆清洁和抛光腔室及清洁和抛光晶圆的方法
48 提高高速抛光表面材料去除均匀性的抛光垫形状设计方法
49 一种硅片抛光垫清洗装置及清洗方法
50 抛光垫及化学机械抛光设备
51 化学机械抛光垫和抛光方法
52 化学机械抛光垫和抛光方法
53 抛光垫及其配方技术、化学机械研磨设备
54 一种抛光垫的修整器及修整方法
55 一种抛光垫修整设备和方法
56 抛光垫、该抛光垫的制造方法及使用该抛光垫的抛光方法
57 抛光垫、该抛光垫的制造方法及使用该抛光垫的抛光方法
58 一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫及抛光方法
59 一种气缸加压式环刀型修盘器及其清洗抛光垫的方法
60 一种抛光垫的修整装置及修整方法
61 包括抛光垫监测方法的制造方法以及抛光设备
62 循环使用的抛光垫
63 一种螺旋形流体动压抛光垫及其抛光方法
64 先进抛光垫配方
65 抛光垫的连续浇注制造方法
66 抛光层用聚氨酯、抛光层及抛光垫
67 在线检测抛光垫下方气泡的方法
68 用于晶片抛光装置的抛光垫
69 一种抛光垫寿命在线检测的系统和方法
70 改善浆料流动性的抛光垫及其配方技术
71 聚氨酯的改性方法、聚氨酯、抛光垫及抛光垫的改性方法
72 一种抛光垫修整器、加工装置及方法
73 新型激光结构化金刚石磨粒抛光垫及其磨粒结构化方法
74 使用聚轮烷的氨基甲酸酯树脂以及抛光垫
75 亲水性和Z电位可调谐的化学机械抛光垫
76 使用增材制造工艺所形成的抛光垫及其相关方法
77 一种Ni基金属触媒及其利用触媒制备IC芯片抛光垫修整用特种金刚石的方法
78 抛光层、抛光垫及配方技术
79 一种具有测量抛光垫厚度的修整装置及抛光设备
80 一种抛光垫
81 抛光垫的修整方法、修整装置、抛光垫及双面抛光装置
82 CMP抛光垫调节器
83 一种用于CMP抛光垫寿命在线检测的系统和方法
84 一种具有修整功能的抛光垫刷盘
85 一种可调节抛光垫面型的抛光垫修整器
86 晶片抛光垫和使用该晶片抛光垫进行晶片抛光的方法
87 一种抛光垫尾料的利用方法
88 一种利用固结金刚石碳纳米管纤维编织抛光垫的方法
89 得自含胺引发的多元醇的固化剂的高去除速率化学机械抛光垫
90 具有多用途复合窗口的抛光垫
91 具有垫磨损指示器的抛光垫
92 用于抛光垫磨损率监测的预测滤波器
93 具有CMP抛光垫用的高UV透明度的脂肪族UV固化的聚氨基甲酸酯光学终点检测窗口
94 一种多层纳米纤维化学机械抛光垫
95 防泄漏抛光垫及其制造方法
96 抛光垫
97 抛光垫
98 多孔聚氨酯抛光垫及其配方技术
99 抛光垫
100 抛光垫
101 抛光垫修整器及化学机械平坦化的方法
102 一种化学机械抛光垫及其平坦化基材的方法
103 一种CMP抛光垫表面处理工艺
104 多孔性聚氨酯抛光垫及其制造方法
105 表面突起抛光垫
106 凸缘光学端点检测窗口和含有其的CMP抛光垫
107 抛光垫及其配方技术、应用
108 抛光垫及其配方技术、应用
109 具有良好气密性的抛光垫
110 具有窗口的抛光垫及其制造方法
111 一种分体式窗口CMP抛光垫的配方技术及CMP抛光垫
112 一种CMP复合沟槽抛光垫
113 一种CMP抛光垫封边工艺
114 一种CMP抛光垫背胶喷涂工艺
115 整合研磨抛光垫及制造方法
116 一种自稳定的抛光垫制造机
117 一种抛光垫制造装置
118 窗口的硬度类似于抛光层的抛光垫
119 抛光垫及研磨设备
120 手持式动力工具的抛光垫和带有这种抛光垫的动力工具
121 抛光垫、背衬垫和手持式动力工具
122 晶片抛光设备的抛光垫以及用于其的制造方法
123 抛光垫的配方技术
124 化学机械抛光垫
125 去除速率和平坦化改善的化学机械抛光垫
126 多孔聚氨酯抛光垫及通过采用该抛光垫制备半导体器件的方法
127 多孔聚氨酯抛光垫及采用该抛光垫制备半导体器件的方法
128 化学机械研磨的抛光垫图像检测系统及方法
129 扩链剂、聚氨酯及其改性方法、抛光层、抛光垫及抛光方法
130 脂肪族聚氨酯光学终点检测窗口和含有它们的CMP抛光垫
131 一种深层光固化型固结磨料抛光垫的配方技术
132 一种化学机械抛光垫的制造方法及其产品和模具
133 抛光垫
134 用于化学机械平面化抛光垫的胶凝减缩工具
135 化学机械抛光垫
136 一种抛光垫开槽装置
137 一种化学机械抛光垫
138 抛光垫的修整器以及抛光系统
139 抛光垫及其配方技术
140 化学机械研磨抛光垫修整器及其制造方法
141 多孔性聚胺酯抛光垫及其配方技术
142 一种化学机械抛光垫的修整设备的结构及其制造方法
143 一种研磨抛光垫的修整器及其修整方法
144 一种用于制备抛光垫的模具系统及其使用方法
145 一种抛光垫及用于制备抛光垫的方法
146 抛光垫修整装置及其制造方法以及抛光垫修整方法
147 抛光垫修整方法及包含其的化学机械抛光方法
148 一种快速排屑的抛光垫
149 用于制造化学机械平面化（CMP）抛光垫的无气雾化方法
150 用于化学机械抛光垫的改进组合物以及由其制备的CMP垫
151 用于制备化学机械平面化（CMP）抛光垫的气溶胶方法
152 用来制造具有整体窗口的化学机械平面化（CMP）抛光垫的方法
153 清洁CMP抛光垫的方法
154 使用聚轮烷的氨基甲酸酯树脂、以及抛光垫
155 使化学机械抛光垫的表面成形的方法
156 用于使化学机械抛光垫表面成形的装置
157 具有一致的垫表面微纹理的化学机械抛光垫
158 修整抛光垫的控制方法、装置、修整器及抛光设备
159 抛光垫修整器及修整设备
160 高平坦化效率化学机械抛光垫和配方技术
161 抛光垫修整器及其制造方法
162 一种抛光垫、聚氨酯抛光层及其配方技术
163 具有环形工作台或抛光垫的抛光系统
164 化学机械抛光垫的抛光层
165 用于化学机械抛光的抛光垫厚度的监测
166 低缺陷多孔抛光垫
167 热塑性多孔性抛光垫
168 锥形多孔性抛光垫
169 多孔性抛光垫的锥形化方法
170 抛光垫及使用了该抛光垫的抛光方法
171 用于制造化学机械抛光垫的自动锁扣装置和方法
172 一种控制抛光垫活化器施压方向的自动调整机构
173 高移除率化学机械抛光垫和制造方法
174 抛光垫、配方技术及其应用
175 用于安装抛光垫的装置
176 一种深层固化型固结磨料抛光垫的配方技术
177 抛光垫修整器及其制造方法
178 一种湿式抛光垫及其配方技术
179 一种用于半导体、光学材料和磁性材料表面平坦化的化学机械抛光垫
180 用于CMP抛光垫的碎屑移除凹槽
181 一种抛光垫及其配方技术
182 抛光方法和抛光垫
183 抛光垫的凹部形成方法以及抛光垫
184 抛光垫及抛光方法
185 多孔化学机械抛光垫
186 一种抛光垫修整器的制造方法和制造设备
187 一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构及其运行方法
188 一种抛光垫
189 多孔性抛光垫及其制造方法
190 具有基础层及附着于其上的窗的抛光垫
191 抛光垫和系统以及制备和使用抛光垫的方法
192 使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备
193 使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备
194 使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备
195 使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备
196 使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备
197 使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备
198 具有高模量比的聚氨酯化学机械抛光垫
199 一种抛光垫修整装置
200 化学机械研磨抛光垫修整器
201 基于磨料抛光垫的宝石衬底的超精密加工方法
202 制备用于化学机械抛光垫的复合抛光层的方法
203 孔隙度受控的抛光垫形成法
204 化学机械抛光垫复合抛光层配制品
205 制备用于化学机械抛光垫的抛光层的方法
206 化学机械抛光垫及其配方技术
207 一种CMP抛光垫修整器
208 一种含有多孔结构的CMP抛光垫修整器
209 一种集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置及方法
210 一种化学机械抛光垫、缓冲层及其配方技术
211 一种抛光层及其配方技术以及化学机械抛光垫
212 一种抛光层及其配方技术以及低损伤化学机械抛光垫
213 化学机械抛光垫的检测窗及其配方技术
214 一种分层冷冻固结磨料抛光垫及配方技术
215 抛光垫和使用抛光垫的系统和方法
216 地板抛光垫
217 抛光液均匀流动的抛光垫
218 研抛一体化冰粒型固结磨料抛光垫及其配方技术
219 一种柔性抛光垫
220 抛光垫窗
221 具有窗口的化学机械抛光垫
222 在薄型抛光垫中的窗
223 多层纳米纤维化学机械抛光垫
224 晶片抛光用抛光垫及抛光垫的自吸附方法
225 CMP工艺抛光垫的修整装置
226 低密度抛光垫
227 一种制造化学机械抛光垫修整盘的方法
228 用于修整抛光垫的方法
229 制造化学机械抛光垫的方法
230 化学机械抛光垫、抛光层分析器和方法
231 高稳定性聚氨基甲酸酯抛光垫
232 抛光垫及其监测方法和监测系统
233 磁流变柔性抛光垫的动态磁场自锐抛光装置及其抛光方法
234 抛光层用成型体及抛光垫
235 一种复合抛光垫及其配方技术
236 抛光层用非多孔性成型体、抛光垫及抛光方法
237 抛光处理组件、基板处理装置及抛光垫清洗方法
238 聚氨酯抛光垫
239 使用定向成在喷洒主体下方且向入口端口引导流体的流体出口的抛光垫清洗系统及相关方法
240 耐候性化学机械抛光垫
241 具有带有液体填充物的致孔剂的抛光垫
242 一种化学机械抛光过程中粘结抛光垫的方法
243 用于化学机械抛光的多层抛光垫
244 化学机械抛光垫
245 具有端点检测窗的化学机械抛光垫
246 具有清晰端点检测窗的化学机械抛光垫
247 抛光垫和系统以及制造和使用该抛光垫和系统的方法
248 抛光垫和系统以及制造和使用此类抛光垫和系统的方法
249 具有窗口的软性且可修整的化学机械抛光垫
250 具有终点检测窗口的化学机械抛光垫
251 具有抛光层和窗口的化学机械抛光垫
252 抛光垫及其制造方法
253 具有交织缝的双面抛光垫
254 抛光垫及其制造方法
255 抛光垫及其制造方法
256 抛光垫、抛光设备、抛光方法以及包括用该抛光方法抛光的物体的制品
257 一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液
258 具有受控孔隙率的打印化学机械抛光垫
259 具有受控孔隙率的打印化学机械抛光垫
260 具有磨料在其中的打印的化学机械抛光垫
261 具有磨料在其中的打印的化学机械抛光垫
262 聚氨酯抛光垫的配方技术
263 具有偏置的同心凹槽图案的边缘排除区域的化学机械抛光抛光垫
264 制造抛光垫的方法以及抛光垫
265 多层抛光垫
266 CMP抛光垫中的渗透式开凹槽
267 聚氨酯抛光垫
268 一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法
269 化学机械抛光垫
270 一种集群磁流变抛光垫性能测试装置及其方法
271 柔性抛光垫在线修整的超光滑平面研磨抛光装置及方法
272 具有闭孔结构的超高空隙体积抛光垫
273 具有闭孔结构的超高空隙体积抛光垫
274 具有多孔界面及实心核心的抛光垫、以及相关的装置和方法
275 低密度抛光垫
276 化学机械抛光垫
277 具有多重整粒组合的蓝宝石抛光垫修整器
278 蓝宝石盘片抛光垫修整器的制造方法
279 柔软且可修整的化学机械抛光垫层叠体
280 柔软且可修整的化学机械窗口抛光垫
281 具有柔软且可修整的抛光层的多层化学机械抛光垫层叠体
282 低表面粗糙度的抛光垫
283 一种抛光垫修整器及其制造方法
284 化学机械抛光的抛光垫及其配方技术
285 具有二次窗密封的抛光垫
286 具有广谱终点检测窗口的多层化学机械抛光垫
287 多层化学机械抛光垫
288 具有广谱终点检测窗口的化学机械抛光垫以及使用该抛光垫进行抛光的方法
289 具有带具有渐变侧壁的连续突起的抛光表面的抛光垫
290 抛光垫的制造方法
291 修整同时双面抛光半导体晶片的抛光垫的方法
292 聚氨酯材料抛光垫及其配方技术
293 抛光垫
294 抛光垫
295 一种抛光垫及其配方技术
296 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子
297 圆形状抛光垫
298 抛光垫修整器结构及其制作方法
299 蓝宝石抛光垫修整器的制作方法
300 蓝宝石抛光垫修整器及其制造方法
301 抛光垫及其制造方法
302 具有偏移的同心凹槽图案的抛光垫以及使用其抛光基板的方法
303 柔软可修整的化学机械抛光垫
304 抛光垫
305 层叠抛光垫的制造方法
306 抛光垫的制造方法
307 层叠抛光垫
308 一种用于晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整器
309 应用在晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整装置
310 一种用于化学机械抛光工艺的抛光垫修整方法
311 抛光垫修整盘的清洗装置
312 抛光垫及其制造方法
313 非平面的玻璃抛光垫及制造方法
314 抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统
315 抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统
316 基于固结磨料抛光垫的蓝宝石衬底的超精密加工方法
317 具有位于透明基层上方的包括孔口或开口的抛光表面层的抛光垫
318 层叠抛光垫及其制造方法
319 碱土金属氧化物?聚合物抛光垫
320 形成碱土金属氧化物抛光垫
321 用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法
322 具有光稳定透光区的抛光垫
323 自调理抛光垫及其配方技术
324 一种气囊抛光工具表面抛光垫的加工装置
325 抛光垫及其制造方法
326 抛光垫及其制造方法
327 层叠抛光垫的制造方法
328 一种抛光垫清洗液及其使用方法
329 高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫
330 抛光垫
331 一种抛光垫
332 制备开放网络抛光垫的方法
333 制备结构化开放网络抛光垫的方法
334 制备层状开放网络抛光垫的方法
335 抛光垫以及使用该抛光垫的玻璃基板的制造方法
336 抛光垫
337 用于确定抛光机的抛光垫的厚度度量的方法和设备
338 具有孔口的抛光垫
339 一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置
340 化学机械抛光工具及用于清洁化学机械抛光垫的方法
341 一种聚氨酯抛光垫的生产工艺
342 具有基层和抛光表面层的抛光垫
343 具有基层和抛光表面层的抛光垫
344 球面光学元件加工用固结磨料研磨抛光垫
345 具有其上包括离散突起的均质主体的抛光垫
346 化学机械抛光垫及化学机械抛光方法
347 化学机械抛光垫修整器
348 一种用于固结磨料抛光垫的纳米金刚石－高分子复合磨料
349 具有同心或大致同心多边形槽图案的抛光垫
350 具有同心或大致同心多边形槽图案的抛光垫
351 化学机械平坦化（CMP）抛光垫修整器及制造方法
352 包含透射区域的抛光垫
353 硅酸盐复合物抛光垫
354 形成硅酸盐抛光垫的方法
355 具有多模态孔径分布的抛光垫
356 具有光稳性聚合物终点检测窗的化学机械抛光垫及相应的抛光方法
357 用于涡电流终点检测的抛光垫
358 制作用于抛光半导体衬底的抛光垫的方法
359 化学机械抛光垫双面修整盘
360 含石墨的固结磨料研磨抛光垫
361 抛光系统的抛光垫
362 含铜固结磨料研磨抛光垫
363 含铁固结磨料研磨抛光垫
364 抛光垫修整方法
365 具有复合排屑结构的研磨抛光垫
366 冰冻固结磨料抛光垫开槽装置
367 一种用于改善晶圆表面被固定磨料抛光垫刮伤的装置
368 具有混合修整功能的化学机械抛光垫修整器及相关方法
369 化学机械抛光机及其抛光垫部件
370 抛光垫
371 固结磨料抛光垫及其配方技术
372 基于固结磨料抛光垫的软脆ＬＢＯ晶体的加工方法
373 抗蠕变抛光垫窗
374 用于抛光半导体基材的软性抛光垫
375 具有局部区域透明部的化学机械抛光垫
376 一种固定研磨粒抛光垫清洗装置及清洗方法
377 基板抛光设备、基板抛光方法和在该抛光设备中用于调节抛光垫的抛光面温度的设备
378 基板抛光设备、基板抛光方法和在该抛光设备中用于调节抛光垫的抛光面温度的设备
379 填充有机颗粒的抛光垫及其制造和使用方法
380 包括分相共混聚合物的抛光垫及其制备和使用方法
381 一种抛光垫修整方法
382 抛光垫及其制造方法
383 旋转抛光垫
384 开槽型冰冻固结磨料抛光垫及其配方技术
385 开槽型冰冻固结磨料抛光垫及其配方技术
386 冰冻固结磨料抛光垫承载装置及其抛光垫
387 制备冰冻固结磨料抛光垫的模具
388 双孔结构抛光垫
389 抛光垫清理器
390 多功能抛光垫
391 沟槽式化学机械抛光抛光垫
392 具有低缺陷整体窗的化学机械抛光垫
393 一种抛光垫修整头
394 一种用于化学机械平坦化的抛光垫及其制造方法
395 一种仿生结构的锡固结金刚石磨料抛光垫及制造方法
396 抛光垫及其制造方法
397 一种仿生表面结构抛光垫及制造方法
398 抛光垫、其聚氨酯层及抛光硅晶片的方法
399 簇绒抛光垫
400 抛光垫背板
401 CMP抛光垫及其制造方法
402 基于葵花籽粒分布结构的仿生抛光垫及制造方法
403 制造气体夹杂物缺陷减少的化学机械抛光垫抛光层的方法
404 基于热引发固化的固结磨料研磨抛光垫及其配方技术
405 制造抛光垫的方法和抛光垫
406 抛光垫以及抛光半导体晶片的方法
407 抛光垫及其制造方法
408 冰粒型固结磨料抛光垫及快速配方技术和装置
409 一种控制抛光垫使用时数的方法和装置
410 延长化学机械抛光垫修整器的使用寿命的方法
411 带有过渡层和粘接层的固结磨料研磨抛光垫
412 抛光垫修整器
413 具有密封窗口的化学机械抛光垫
414 具有密封窗口的化学机械抛光垫
415 具有整体识别特征的化学机械抛光垫
416 化学机械抛光垫
417 抛光垫及抛光垫的制造方法
418 一种用于对抛光垫进行修整的修整装置
419 具有浮动单元的抛光垫以及制造和使用该抛光垫的方法
420 多层化学机械抛光垫的制造方法
421 化学机械抛光垫制造组合件
422 具有多孔单元的抛光垫以及制造和使用该抛光垫的方法
423 一种于内部原位生成空隙的抛光垫及其方法
424 具有终点窗口的抛光垫以及使用其的系统和方法
425 抛光垫片组合物与制造和使用方法
426 聚氨酯发泡体和抛光垫
427 具有混合研磨表面的CMP抛光垫修整器及其相关方法
428 具有阻绝层的抛光垫和其制造方法
429 抛光垫修整器
430 可导电的抛光垫及其制造方法
431 用于形成软膏抛光垫的方法和装置
432 固结磨料研磨抛光垫及其配方技术
433 半球形抛光垫的形成和组装方法
434 具有研磨粒的抛光垫及其制造方法
435 具有经控制的孔隙形态的抛光垫
436 抛光垫
437 抛光垫及使用方法
438 具有控制的润湿的化学机械抛光垫
439 改进的化学机械抛光垫及其制造和使用方法
440 互相连接的多元件栅格抛光垫
441 改进的化学机械抛光垫以及制造和使用这种抛光垫方法
442 抛光垫
443 抛光垫及其形成方法以及抛光方法
444 带自修整功能的磨损均匀性好的固结磨料抛光垫
445 抛光垫及其制造方法
446 用于高温应用的层叠抛光垫
447 用于抛光垫的衬垫和使用该衬垫的抛光垫
448 抛光垫及抛光垫的制造方法
449 具有用于降低浆液消耗的凹槽的抛光垫
450 具有用来将浆料保留在抛光垫构造上的凹槽的抛光垫及其配方技术
451 化学机械抛光垫
452 化学机械抛光垫
453 高弹体改性的化学机械抛光垫
454 用于化学机械抛光的抛光垫及应用其的化学机械抛光方法
455 抛光垫修整装置
456 化学机械抛光垫调整器及其相关方法
457 用于化学机械抛光的分层冷冻磨料抛光垫及其配方技术
458 具有重叠的固定面积螺旋凹槽的化学机械抛光垫
459 具有不均匀间隔的凹槽的化学机械抛光垫
460 抛光垫
461 抛光垫和化学机械抛光装置
462 抛光垫
463 抛光垫
464 一种抛光垫修整头
465 包含封装在聚合物外壳中的液体有机材料芯体的化学机械抛光垫及其制造方法
466 垫表面上具有微槽的抛光垫
467 具有自修正功能的固结磨料研磨抛光垫及配方技术
468 化学机械抛光垫
469 化学机械抛光垫
470 抛光垫
471 抛光垫
472 抛光垫及其制造方法
473 抛光垫、其使用和其制造方法
474 抛光垫
475 抛光垫的制造方法
476 抛光垫的制造方法
477 抛光垫的制造方法
478 抛光垫的制造方法
479 抛光垫的制造方法
480 一种改进型抛光垫调节器工艺
481 抛光垫和抛光装置
482 化学机械抛光垫和化学机械抛光方法
483 改进缺陷度的多层抛光垫及其制造方法
484 抛光垫以及化学机械抛光方法
485 具有表面粗糙度的抛光垫
486 抛光垫以及化学机械抛光方法
487 粘结抛光垫的方法和粘结抛光垫的夹具
488 制造化学机械抛光垫的方法及抛光垫
489 具有改进的粘着性的水基抛光垫及其制造方法
490 抛光垫及其制造方法
491 抛光垫、抛光系统以及制造该抛光垫的方法
492 抛光垫及其制造方法
493 透明抛光垫
494 表面具有纹理的微孔抛光垫
495 冷冻纳米磨料抛光垫及其配方技术
496 包含具有聚氨酯基体的互渗液化烯类单体网状物的抛光垫
497 化学机械抛光用的化学改性抛光垫
498 用于控制研磨修整盘对抛光垫表面的作用的末端执行臂
499 抛光垫以及化学机械抛光方法
500 包含磁性感应粒子的抛光垫及其使用方法
501 一种抛光垫及其制造方法以及一种抛光装置和抛光方法
502 一种抛光垫及抛光方法
503 多孔反应注塑化学机械抛光垫的制造方法
504 水基抛光垫及其制造方法
505 具有表面纹路的抛光垫和其制造方法与制造装置
506 一种生产半导体晶片抛光垫的方法
507 包括用于抛光衬底的单次流延或模制而成的单一式抛光垫的制品
508 具有径向交替凹槽段结构的化学机械抛光垫
509 抛光垫修整装置及修整方法
510 改善研磨颗粒保持率的方法、抛光垫修整器及其制造方法
511 抛光垫
512 具有排列的凹槽来提高抛光介质利用的化学机械抛光垫
513 具有重叠阶梯状凹槽排列的化学机械抛光垫
514 减少了条纹的化学机械抛光垫的配方技术
515 制造减少条纹的化学机械抛光垫的设备
516 抛光垫
517 化学机械抛光装置及其抛光垫的清洗方法与平坦化的方法
518 形成具有很少条纹的抛光垫的方法
519 具有定向颗粒的化学机械抛光垫修整器及其相关方法
520 非平面的化学机械抛光垫修整器及其相关方法
521 具有流线型窗玻璃的化学机械抛光垫
522 化学机械抛光用抛光垫的配方技术
523 具有多微孔区域的抛光垫
524 抛光垫以及垫磨除速率和平坦化的改进方法
525 用于半导体晶片的抛光垫的修整组件和抛光该晶片的方法
526 抛光垫整修器及其制造和循环使用方法
527 用于抛光制品的抛光垫及抛光方法
528 具有减压通道的抛光垫座
529 具有在抛光时促进混合尾迹的凹槽结构的抛光垫座
530 从底盘上去除CMP抛光垫的设备和方法
531 用于电化学机械抛光的抛光垫
532 化学机械抛光垫及化学机械抛光方法
533 具有振荡式路径凹槽网络的抛光垫
534 抛光垫和制造抛光垫的方法
535 抛光垫及其制造方法
536 具有成分填充孔的多孔化学机械抛光垫
537 包含疏水区及终点检测口的抛光垫
538 低表面能的化学机械抛光垫
539 层状抛光垫的成形方法
540 抛光垫的基垫和包括该基垫的多层垫
541 化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法
542 含可释修光微粒的抛光垫
543 聚氨酯抛光垫
544 具有高透光窗口的抛光垫
545 用于连续成形一种用作半导体抛光垫片的均一片材的工艺和设备
546 化学机械抛光垫
547 采用抛光垫和抛光流体的抛光方法和抛光流体
548 抛光垫
549 用于化学机械抛光的弹性抛光垫板
550 具有凹陷窗的抛光垫
551 用于化学机械抛光的抛光垫
552 用于电化学机械抛光的抛光垫
553 具有边缘表面处理的抛光垫片
554 化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法
555 用于电化学机械抛光的抛光垫
556 制造包含光学透射区的抛光垫的超音波焊接方法
557 用于化学机械抛光的多层抛光垫材料
558 抛光垫
559 化学机械研磨抛光系统中的抛光垫的调理方法
560 具有优化的槽的抛光垫及使用方法
561 抛光垫和化学机械抛光方法
562 用于抛光半导体晶片的抛光垫、层叠体和方法
563 抛光垫及抛光半导体晶片的方法
564 抛光垫及其生产方法
565 防剥离的抛光垫
566 抛光垫与抛光盘之间的气泡检测方法
567 带有窗口的抛光垫片
568 抛光垫设备和方法
569 具有复合透明窗口的化学机械抛光垫
570 抛光垫及制造半导体器件的方法
571 用于抛光垫窗口的抗反射层
572 抛光垫调节
573 软的化学机械平坦化/抛光(CMP)抛光垫的金刚石调理
574 具有微孔的聚氨酯泡沫的配方技术和由此获得的抛光垫
575 抛光垫
576 平面化用的具有窗口的抛光垫片及配方技术
577 平面化用的抛光垫片
578 使用超声反射检测抛光垫的表面性质
579 改进抛光性能和耐久性的抛光垫片载体
580 半导体晶片用抛光垫的加工方法以及半导体晶片用抛光垫
581 抛光垫及其制备、使用方法
582 微孔抛光垫
583 微孔抛光垫
584 微孔抛光垫
585 具有光传感器的抛光垫
586 抛光垫及使用该垫制造半导体衬底的方法
587 加热抛光垫的设备
588 抛光垫、抛光装置及抛光方法
589 抛光垫
590 利用激光束和掩模制造抛光垫的方法
591 控制化学机械抛光垫速度以提高垫寿命的方法和装置
592 化学机械抛光垫的调节的前馈和反馈控制
593 一种抛光垫
594 具有成型或柔性窗口结构的加强的抛光垫
595 抛光垫及装置
596 含固体催化剂的化学机械抛光的抛光垫
597 带有内置光学传感器的抛光垫
598 包括填充的半透明区域的抛光垫
599 包含粒状聚合物和交联聚合物粘结剂的抛光垫
600 具有孔和/或槽的化学机械抛光垫
601 微孔化学机械抛光垫
602 具有波形槽的化学机械抛光垫
603 利用激光制造化学机械抛光垫的方法
604 带槽的抛光垫及其使用方法
605 抛光垫及其使用方法
606 流体喷布式固定研磨剂抛光垫
607 内装有光传感器的抛光垫
608 内装有光传感器的抛光垫
609 化学-机械抛光垫的修整装置及方法
610 调节晶片抛光垫的方法
611 抛光垫、抛光机及制造半导体器件的方法
612 修整抛光垫的设备和方法
613 抛光垫及其形成的方法
614 改进的抛光垫及其抛光方法
615 抛光垫及抛光装置
616 抛光垫
617 半导体基材的抛光垫
618 半导体基材的抛光垫
619 借研磨抛光系统制造存储盘或半导体器件,和抛光垫
620 带有用于支承抛光垫的密封流体腔的抛光工具
621 改进抛光垫结构的抛光机
622 改进的抛光垫及其相关的方法
623 镶嵌式抛光垫及其有关方法
624 用于半导体底物的抛光垫
625 使用皮带式抛光垫抛光平面的设备和方法
626 具有带槽和孔的抛光垫和具有该抛光垫的抛光装置
627 抛光垫
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费32元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
