1 一种水溶液显影的干膜光阻剂
简介：本技术涉及线路板生产制作技术领域，尤其涉及一种水溶液显影的干膜光阻剂，其包含以下组分：丙烯酸酯粘合剂A，环氧丙烯酸酯B1，聚氨酯丙烯酸酯B2，光固化单体B3，自由基引发剂C，活性单体D，N‑苯基甘氨酸，增塑剂，紫外光吸收剂，热聚合抑制剂；该环氧丙烯酸酯B1占该干膜光阻剂总质量的1％～15％，该环氧丙烯酸酯B1中碳碳双键含量为1～30mol；该聚氨酯丙烯酸酯B2占该干膜光阻剂总质量的1％～15％，该聚氨酯丙烯酸酯B2中碳碳双键含量为1～30mol；本技术所述的水溶液显影的干膜光阻剂的封孔能力明显强于市售的干膜光阻剂，因此具有广阔的应用前景和不菲的市场价值。
2 碱溶性树脂及其配方技术及负型光阻剂组合物
简介：本技术提供了一种碱溶性树脂、制备该碱溶性树脂的方法和含有该碱溶性树脂的负型光阻剂组合物。本技术的碱溶性树脂在不同的配方或不同的实验条件下均可以得到感光性、显影性、柔韧性及附着力等性能优异的绝缘透明负型光阻剂组合物。绝缘透明负型光阻剂组合物适用于柔性OLED触摸显示屏，作为电极线路的保护层，具有与高分子透明薄膜基板附着好、抗黄变性、感光度高、显影液耐性、分辨率高以及高透光率等优异性能。
3 低温固化型OC负型光阻剂以及绝缘桥和保护层与OLED器件
简介：本技术提供了一种低温固化型OC负型光阻剂，由包括如下以重量份计的组分制成：低温固化聚合树脂5‑30份，甲基丙烯酸的共聚物树脂5‑30份，含有烯双键的低聚物交联剂5‑30份，光致自由基引发剂0.2‑2份，助剂0.5‑3份，溶剂70‑90份。该负型光阻剂在制造柔性折叠显示屏或电容式触摸屏的结构层时，可以实现85‑150℃固化，具有耐酸碱、溶剂和剥膜液、铜蚀刻液侵蚀；耐氧气ICP干法蚀刻、耐25‑100℃金属镀膜；100℃/85％高湿环境下，方块电阻稳定在5.0E×1012‑1014欧姆范围，透光率在99％。本技术还提供由该负型光阻剂制作的绝缘桥和保护层以及其制备工艺及OLED器件。
4 光阻剂分配系统及光阻剂的回收方法
简介：一种光阻剂分配系统及光阻剂的回收方法。本揭示描述了一种当光阻剂清洗流过新光阻剂过滤器时，可以用来移除光阻剂中空气微气泡的方法。例如，该方法包括使光阻剂流过光阻剂过滤器以移除捕集在光阻剂通过光阻剂过滤器中产生的空气微气泡；在缓冲槽中收集具有空气微气泡的光阻剂；在缓冲槽中移除光阻剂中的空气微气泡；以及将没有空气微气泡的光阻剂从缓冲槽转移到光刻设备。
5 二苯并哌喃化合物、颜料组合物、彩色光阻剂、彩色滤光片及喷墨用印墨组合物
简介：本技术涉及二苯并哌喃化合物及含有该二苯并哌喃化合物的颜料组合物。提供一种于含有有机颜料的颜料组合物(颜料分散液)中，可在不会引起凝聚、沉降、随时间经过的粘度的增加下使有机颜料达到微粒化及高浓度化，且作为彩色滤光片用光阻剂或喷墨用印墨的着色剂的稳定的组合物(分散液)。本技术的二苯并哌喃化合物具有以下述式(1)表示的结构：式(1)中，R1分别独立地表示氢原子或碳数1至4的烷基；R2及R3表示氢原子、碳数1至4的烷基、卤素原子、‑CO2M基或‑SO3M基；但R3的至少一个为‑CO2M基或‑SO3M基；M表示碱土金属原子或松香铵(8,11,13‑阿松香三烯‑18‑铵)；n表示1至4的整数。
6 一种干膜光阻剂
简介：本技术提供了一种干膜光阻剂，其包含以下组分：高分子粘合剂A，活性单体B，自由基引发剂C1，阳离子引发剂C2，热聚合抑制剂，紫外光吸收剂，以及增塑剂；该活性单体B至少包含活性单体B1、B2和B3；活性单体B1的结构式为：X表示‑CH2CH2O‑，Y表示‑CH2‑CH(CH3)O‑或‑CH(CH3)CH2O‑，m表示1～15的整数，n表示0～15的整数；活性单体B2的结构式为：表示‑CH2CH2O‑，Y表示‑CH2‑CH(CH3)O‑或‑CH(CH3)CH2O‑，m表示1～25的整数，n表示1～25的整数；活性单体B3的结构式为：该阳离子引发剂C2选自烷基硫鎓盐C21、三芳基硫鎓盐C22、二芳基碘鎓盐C23中的至少一种。采用该水溶液显影的干膜光阻剂，能够在普通UV平行光源下形成较精密的线路，且在电镀金工艺和选择性化学沉金工艺上均有优异的表现。
7 香豆素化合物、颜料组合物、彩色光阻剂及喷墨用印墨组合物
简介：本技术涉及一种香豆素化合物及含有香豆素化合物的颜料组合物。本技术所欲解决的课题之一是提供一种颜料组合物(颜料分散液)，不会引起凝聚、沉降、经时性的粘度增加，且有机颜料经微粒子化及高浓度化，而且作为彩色滤色片用光阻剂、喷墨用印墨的着色剂是稳定的。用以解决所述课题的本技术如下所述。一种下述式(1)所示的香豆素化合物，式(1)中，R1及R2分别独立地表示氢原子或碳数1至4的烷基；R3至R10分别独立地表示氢原子、碳数1至4的烷基、卤原子、羧基或磺酸基，但R7至R10中的至少一者为磺酸基；X表示氧原子、硫原子或二价连接基‑NR11‑，R11表示氢原子或碳数1至4的烷基。
8 光阻剂涂布工艺、润湿溶剂筛选方法及润湿溶剂
简介：本技术提供一种光阻剂的涂布工艺、润湿溶剂筛选方法及润湿溶剂，光阻剂的涂布工艺包括：提供晶圆；在待涂面滴定润湿溶剂，并旋涂润湿溶剂进行预湿以形成润湿层；在润湿层的表面旋涂光阻剂以形成光阻层；筛选方法包括：m种溶剂对m组晶圆进行涂布，且一种溶剂涂布一组晶圆形成润湿层，每组n个晶圆的润湿层均采用n种预设用量的光阻剂进行涂布，形成光阻层，以形成涂胶片，根据筛选条件对涂胶片进行筛选，以满足筛选条件且光阻剂的预设用量最少的涂胶片所涂布的溶剂作为润湿溶剂。本技术采用包括环己酮和/或环己酮衍生物的溶剂作为光阻剂涂布前的润湿溶剂可提高光阻剂涂布效果，减少涂布的光阻剂用量。
9 一种含有纤维素材料的干膜光阻剂
简介：本技术提供了一种含有纤维素材料的干膜光阻剂，包括以下重量份数的组分：25‑75份含有羧基的高分子粘合剂，2‑10份自由基引发剂，8‑30份光聚合单体，0.005‑0.02份热聚合抑制剂，2‑10份增塑剂和2‑20份纤维素材料。本技术将纤维素材料和增塑剂添加于光膜光阻剂中，协同作用，可以提高干膜的柔韧性，从而能够增强膜的封孔能力；将使用纤维素材料，能够增加膜的零剪切粘度，从而减少冷流的形成，降低膜出现流胶的情况。
10 一种含有改性聚氨酯和光固化单体的干膜光阻剂
简介：本技术提供了一种含有改性聚氨酯和光固化单体的光膜光阻剂，包括以下重量份数的组分：含有羧基的高分子粘合剂40‑70份，自由基光引发剂1‑10份，光聚合单体20‑50份，热聚合抑制剂0.005‑0.02份，改性聚氨酯1‑21份，紫外光吸收剂0.001‑0.1份和特殊官能团光固化单体1‑10份。本技术将聚氨酯添加于干膜光阻剂中，提高干膜光阻剂的强度和韧性；采用邻苯二甲酸改性特殊官能团光固化单体，提高了光阻剂对铜面的附着力，减少显影时干膜光阻剂中小分子的析出，可以不使用增塑剂；本技术的干膜光阻剂柔性好、具有优异的解析度和附着力。
11 一种光阻剂喷涂量的监测方法
12 一种纳米银线光阻剂及其在触摸屏器件制造中的应用
13 彩色光阻剂或有机系绝缘膜剥离液组合物
14 用于去除半导体基板上光阻剂的剥离组合物
15 金刚烷衍生物单体、彩色光阻剂及其配方技术、彩色滤光片
16 金刚烷衍生物单体、彩色光阻剂及其配方技术、彩色滤光片
17 一种低聚树脂及其配方技术和其在彩色光阻剂中的应用
18 一种彩色光阻剂及其应用、彩膜基板、液晶显示器
19 酚醛清漆型含酚羟基树脂、其制造方法、固化性组合物、保护剂用组合物及彩色光阻剂
20 用于去除光阻剂的剥离剂组合物及使用其剥离光阻剂的方法
21 一种耐高温黄变及耐高温高湿OC负型光阻剂及其在触摸屏器件制造中的工艺制程方法
22 光阻剂剩余量的监测装置、监控方法和芯片制造装置
23 一种纳米银光阻剂复合材料及其制备银导线或电感器的方法
24 一种固化树脂、黑色光阻剂、滤光片及它们的配方技术、显示器件
25 一种固化树脂、绿色光阻剂、彩色滤光片及它们的配方技术、彩色显示器件
26 一种固化树脂、蓝色光阻剂、彩色滤光片及它们的配方技术、彩色显示器件
27 一种固化树脂、红色光阻剂、彩色滤光片及它们的配方技术、彩色显示器件
28 新型芴类肟酯化合物，及含有该芴类肟酯化合物的光聚合引发剂和光阻剂组合物
29 低聚物交联剂及其配方技术和触摸屏器件制程用绝缘保护光阻剂及应用
30 一种彩色光阻剂、彩色滤光片及含有其的显示装置
31 亲水性单体、亲水性光阻剂组成物及光阻图形形成方法
32 一种含有特定粘合剂及增塑剂的干膜光阻剂
33 一种含有粘着添加剂及增塑剂的干膜光阻剂
34 颜料分散体及其配方技术、颜料光阻剂及彩色滤光片
35 彩色滤光片用彩色光阻剂
36 颜料分散液、颜料光阻剂和彩色滤光片
37 光阻剂清洗液组成物及其应用
38 用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物
39 一种水性彩色光阻剂的配方技术
40 光阻剂组成物及形成半导体器件的图案的方法
41 正型光阻剂
42 光阻剂
43 光阻剂清洗液组成物及其应用
44 高解析度负型光阻剂
45 提高图案化性能的光阻剂
46 改善彩色光阻特性的方法及彩色光阻剂
47 负型光阻剂
48 负型光阻剂组合物
49 光阻剂剥离液组合物
50 含苯醌-环戊二烯加成物的树脂化合物及含此的光阻剂组成物
51 正型光阻剂组成物及其应用
52 干燥薄膜光阻剂
53 用于光阻剂的清洁溶液及使用该溶液形成图案的方法
54 正型光阻剂组合物及形成光阻图样的方法
55 含有金刚烷基烷基乙烯醚的光敏聚合物及含有该聚合物的光阻剂组合物
56 含有金刚烷基烷基乙烯醚的光敏聚合物及含有该聚合物的光阻剂组合物
57 化学增幅光阻剂组成物
58 化学增幅光阻剂组成物
59 光敏聚合物和含有该聚合物化学放大型的光阻剂组合物
60 化学增幅光阻剂组成物
61 化学增幅型光阻剂组成物的高分子聚合物
62 化学增幅型光阻剂组成物的高分子单体
63 多重反应模式的混合负型光阻剂及形成光阻图案的方法
64 光阻剂组合物
65 含由苯醌-环戊二烯加成物衍生的官能团的树脂化合物及含此化合物的光阻剂组成物
66 含有四氢呋喃甲基氧羰基官能基的可聚合烯类化合物及含其的光阻剂
67 新单体和用作光阻剂的聚合物及用其制成的光阻剂
68 共聚物树脂,其配方技术及用其制成的光阻剂
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
