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有机溶剂清洗剂配方生产工艺制作流程

发布时间:2021-09-13   作者:admin   浏览次数:103

1、一种新型全天候炮用清洗剂的配方技术
 [简介]:本技术涉及清洗剂制备领域,本技术提供了一种新型全天候炮用清洗剂的配方技术,由表面活性剂、无机碱、有机溶剂、助剂、水和石墨烯改性油酸铁/硼酸聚合物混合制备而成,本技术的清洗剂不仅采用复配的表面活性剂,而且添加了一种具有去污功能石墨烯改性油酸铁/硼酸聚合物,本技术的清洗剂适用于多种油污的清除,适用于浸洗、机械清洗和人工清洗等多种清洗方式,而且其使用温度低、除油除积碳的效果好;而且本技术的清洗剂用量少、成本低、操作简单、无毒,对环境无污染,对金属无腐蚀,防锈、除锈的功能;还具有使用温度范围广的特点,是一种在?40至90极端环境下都能够迅速清除积碳和重油污的水基碱性清洗剂组合物,对军用装置上的重油积碳有较强的清洗功效。
2、清洗剂及其配方技术和应用
 [简介]:本技术提供了一种清洗剂及其配方技术和应用。此清洗剂由包括如下各重量百分数的原料制备而成:1%~25%的非离子表面活性剂、1%~10%的C21二元酸、5%~25%的助洗剂、1%~10%的水溶性有机溶剂以及余量的水,其中,C21二元酸是由妥尔油脂肪酸、大豆油脂肪酸和亚油酸中的至少一种经过狄尔斯?阿尔德反应反应合成。上述清洗剂原料中无磷添加,非离子表面活性剂与C21二元酸的协同作用下,使清洗剂体系的稳定性和耐硬水等性能协同增强,清洗剂还可以有效地去除污垢,清洗能力强,在加入助洗剂后协同增强此清洗剂的清洗能力的还增强了防锈能力,使用上述清洗剂清洗金属后金属表面光滑洁净,无需额外添加防锈剂。上述清洗剂的配方技术操作简单、原料无磷且易得,利于广泛推广应用。
3、一种金属清洗剂及其配方技术
 [简介]:本申请属于金属清洗剂的技术领域,尤其涉及一种金属清洗剂及其配方技术。本申请第一方面提供了一种金属清洗剂,包括:正庚酸三异丙醇胺皂、异构十三醇聚氧乙烯醚、十二烷基苯磺酸三乙醇胺盐、棕榈油酸钾盐、碱性助剂、有机溶剂、螯合剂和水;所述正庚酸三异丙醇胺皂的结构式如式Ⅰ所示。本申请第二方面提供了一种金属清洗剂的配方技术,将正庚酸三异丙醇胺皂、异构十三醇聚氧乙烯醚、十二烷基苯磺酸三乙醇胺盐、棕榈油酸钾盐、碱性助剂、有机溶剂、螯合剂和水混合,制得金属清洗剂。本申请的金属清洗剂及其配方技术有效解决现有现有的金属清洗剂往往无法兼备缓蚀、清洗、无/低泡、耐碱和抗硬水性能的缺陷。
4、一种数码彩釉玻璃清洁剂
 [简介]:本技术提供了一种数码彩釉玻璃清洁剂,按质量百分比计算包括如下组分:10%~20%金属离子可溶性无机盐、20%~40%酸性溶液、2.5%~10%表面活性剂、2.5%~5%有机溶剂、0.05%~0.2%防腐剂、0.05%~0.2%抗菌剂、0%~1%悬浮剂、0%~0.3%香精、水余量;所述数码彩釉玻璃清洁剂具有表面活性佳、润湿能力好、泡沫丰富、去污能力强,符合QB/T 4086?2010《玻璃清洗剂》行业标准的要求;使用所述数码彩釉玻璃清洁剂处理后的玻璃表面干净、光泽度高,无水印、水渍残留,常规储存条件下放置15天无返碱发生,抗霉变能力强,可达到长效清洁的效果;而且玻璃表面不发粘,因此干燥后的玻璃可以层叠放置,有利于减少存放空间。
5、电气、机械设备带电绝缘清洗剂、配方技术及应用
 [简介]:本技术提供一种电气、机械设备带电绝缘清洗剂,以重量份数计,由以下成分制成:三氯乙烯15?20份,二乙烯基乙二醇20?25份,乙酸乙酯5?10份,乙酸甲酯16?35份。该清洗剂清洗彻底,干净,有机溶剂可完全挥发,不留残迹;对金属材料和复合材料及油漆表面安全无腐蚀。
6、一种新型环保硅晶片清洗试剂及其配方技术及其应用
 [简介]:一种新型环保硅晶片清洗试剂及其配方技术及其应用,包括如下质量浓度的物质:氢氧化钾0.2?1.0g/L;硅酸钠0.1?0.8g/L;焦磷酸钾0.1?1.0g/L;络合剂0.01?0.1g/L;渗透剂0.05?0.5g/L;乳化剂0.05?0.5g/L;余量为蒸馏水。本技术的配方中不含有任何有机溶剂和氟离子表面活性剂,本技术所制备的清洗试剂特别适用于单晶硅、多晶硅等硅晶片的清洗,清洗表面均匀光洁,无任何花斑、砂粒、研磨料、金属离子及指纹等残留,通过滤纸擦拭,无任何硅粉等物质残留,能极好的满足客户生产需求,且该工艺环保,生产过程无任何有机溶剂添加,产品环保无污染。
7、一种半导体清洗剂及其配方技术
 [简介]:本申请提供了一种半导体清洗剂及其配方技术,属于半导体清洗技术领域。该半导体清洗剂包括非离子表面活性剂、*离子表面活性剂及有机溶剂,按质量份数计,非离子表面活性剂2?5份,*离子表面活性剂9?12份、有机溶剂3?6份。通过半导体清洗剂配方技术制备的半导体清洗剂对硅片表面的研磨剂、金属离子等具有极佳的分散性能和容忍度,清洗表面均匀光洁,极好的满足了客户的生产需求,同时降低了对环境的污染。
8、一种用于清洁半导体芯片洗涤剂及其配方技术
 [简介]:本技术提供一种用于清洁半导体芯片洗涤剂及其配方技术。该清洁剂各组分以及各组分含量如下:乙二胺四乙酸钠5~10wt%、氢氟酸10~15wt%、氧化剂10~15wt%、表面活性剂5~20wt%、抗静电剂3~5wt%、有机溶剂15~30wt%金属防锈剂1~10wt%以及去离子水。本申请提供的供一种用于清洁半导体芯片洗涤剂,可彻底清除半导体材料器件的表面的石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面玷污的金属原子和金属原子,且该清洁剂中添加了抗静电剂克服了现有技术中清洁剂引起的静电现象,影响半导体器件的性能。同时本申请的清洁半导体芯片洗涤剂为水基清洁剂,不仅制备成本低,而且无毒性、无腐蚀性,不会对操作人员的安全和健康产生危害。
9、一种水性浓缩型柴油车DPF清洗剂及其配方技术
 [简介]:本技术涉及DPF清洗剂技术领域,具体涉及一种水性浓缩型柴油车DPF清洗剂及其配方技术,其配方是由按质量百分比计的碱性助剂1~3%、金属络合剂0.1~2%、有机溶剂1~5%、润湿剂3~10%、防锈缓蚀剂0.1~3%以及去离子水79~94%制成。与现有技术相比,本技术各组分协同作用,能够使附着在柴油DPF空隙里的碳颗粒和碳灰烬等物质从载体上分离,达到彻底清洗的效果,而且不会对DPF以及整个尾气系统造成损坏,从而解决了由于柴油机排气温度燃烧微粒不完全而导致DPF堵塞的问题。
10、一种金属清洗剂及其配方技术
 [简介]:本技术涉及一种金属清洗剂及其配方技术,所述金属清洗剂的原料包括有机溶剂1%?20%、缓蚀剂1%?5%、乳化剂1%?7%、渗透剂1%?5%、分散剂1%?10%、助洗剂1%?5%、表面活性剂1%?10%、螯合剂0.5%?3%、水余量。所述配方技术包括如下步骤:将助洗剂、有机溶剂进行混合均匀,然后加入表面活性剂、分散剂、乳化剂、缓蚀剂、渗透剂、螯合剂和去离子水并混合均匀,得到所述金属清洗剂。本技术金属清洗剂不仅具有去重油污能力强、清洗速度快的优点,而且具有优良的金属抗腐蚀性、可生物降解性的优点。
11、混合型油墨清洗剂
12、一种用于报废输油管道的清洗剂及其配方技术
13、一种金属零件清洗剂
14、一种高效重油污清洗剂及其配方技术以及重油污清洗方法
15、一种高效重油污清洗剂及其配方技术以及重油污清洗方法
16、一种飞机零部件微乳液型水基清洗剂
17、一种增强清洗效果的无磷除灰剂
18、一种性能高效的军用飞机发动机专用清洁剂及配方技术
19、一种油污清洗剂及其配方技术
20、一种金属表面油污清洁剂
21、一种用于金属零件的可循环式清洗剂
22、一种高效去污型油脂清洗剂
23、清洗剂组合物和清洗方法
24、一种渗透型油脂清洗剂
25、应用于清洗哈氏合金带材的水基清洗剂及超声清洗方法
26、一种金属制品清洗剂
27、一种铝合金表面水基微乳防锈清洗剂
28、高亮金属带材常温无泡除油清洗剂
29、水基金属清洗剂
30、一种电厂清洗用氢氟酸缓蚀剂
31、基于香椿叶提取物的金属表面清洁剂及其配方技术
32、环保型水基清洗剂及应用
33、一种高效、多功能工业清洗剂及其配方技术
34、基于梧桐皮提取物的金属表面清洁剂及其配方技术
35、基于榆钱皮提取物的金属表面清洁剂及其配方技术
36、清洗剂及其使用方法
37、一种金属渣油水基清洗剂
38、一种金属清洗剂及其应用
39、基于枫树球提取物的金属表面清洁剂及其配方技术
40、一种高压防污闪清洗剂
41、油墨转移型模内装饰模具用清洗剂
42、一种无残留的电气机械设备用清洗剂
43、可用于机械和油漆材料的清洗剂
44、一种镁铝合金水基清洗剂及其配方技术
45、汽车燃料系统清洗剂
46、一种水基钕铁硼油泥废料清洗剂及其配方技术
47、一种金属表面油污专用高效清洗剂
48、一种用于电气机械设备的清洗剂
49、一种电器类设备专用清洗剂
50、一种电器设备清洗剂
51、铜材及其合金用清洗剂及生产方法
52、清洁制剂
53、一种五金件油污清洗剂及其配方技术
54、可废水处理的亲环境金属脱脂清洗剂及其制造方法
55、电器清洗剂
56、除锈清洗剂
57、一种清除铝电解阳极导杆表面污垢的快速清洗剂
58、一种黑色金属清洗剂
59、一种电器清洗剂的配方技术
60、一种除锈清洗剂的配方技术
61、含金属薄膜的制造方法中的残存水分子除去工艺及清洗溶剂
62、不用有机溶剂而清洁润湿受污基材的方法
63、环保型多功能金属表面清洗剂
64、半导体蚀刻残渣清除剂和清洁剂组合物
65、工业油污清洗剂的配置方法
66、基板用清洗剂及清洗方法
67、清洁剂组合物
 
  以上为本套技术的目录及部分简要介绍,内容都包括具体的配方配比生产制作过程,收费260元,购买或咨询更多相关技术内容可联系:微信/电话:13510921263



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