1、一种浸没式ArF光刻用光产酸剂及光刻胶组合物
[简介]：本技术提供了一种浸没式ArF光刻用光产酸剂及光刻胶组合物。本技术的光产酸剂如式I所示。含有本技术的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。
2、一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及光刻胶组合物
[简介]：本技术提供了一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及光刻胶组合物。本技术的光产酸剂如式I所示。含有本技术的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。
3、一种浸没式ArF光刻用的光产酸剂及其中间体
[简介]：本技术提供了一种浸没式ArF光刻用的光产酸剂及其中间体。本技术的光产酸剂如式I所示。含有本技术的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。
4、一种193nm浸没式光刻用光产酸剂的配方技术
[简介]：本技术提供了一种193nm浸没式光刻用光产酸剂的配方技术。本技术的配方技术包括以下步骤：在溶剂中，将化合物II和化合物III进行如下式的成盐反应，得到所述的如式I所示的化合物。含有通过本技术制得的光产酸剂的光刻胶具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。
5、一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的配方技术
[简介]：本技术提供了一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的配方技术。该配方技术制备得到的鎓盐具有*离子和鎓离子，所述*离子具有式(I)所示的结构，所述鎓离子具有式(A)或式(B)所示的结构，所述鎓离子的个数使所述鎓盐的电荷保持中性。包含本技术配方技术制备得到的鎓盐的光刻胶具有更好的分辨率、灵敏度和线宽粗糙度。
6、一种浸没式ArF光刻用光产酸剂的配方技术
[简介]：本技术提供了一种浸没式ArF光刻用的光产酸剂的配方技术。本技术的配方技术包括以下步骤：在溶剂中，将化合物II和化合物III进行如下式的成盐反应，得到所述的如式I所示的化合物。含有通过本技术制得的光产酸剂的光刻胶具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。
7、锍盐、光产酸剂及感光性组合物
[简介]：本申请涉及锍盐、光产酸剂及感光性组合物。本技术提供对活性能量射线的敏感度高的新型锍盐、由该锍盐形成的光产酸剂、及含有该光产酸剂的感光性组合物。本技术涉及的锍盐由式(a1)表示。式中，R1和R2独立地表示可被卤素原子取代的烷基或式(a2)表示的基团，R1和R2可相互键合并与式中的硫原子共同形成环，R3表示式(a3)表示的基团或式(a4)表示的基团，A1表示S等，X?表示1价的*离子，其中，R1和R2不会同时为可被卤素原子取代的烷基。式(a2)～(a4)中，环Z1表示芳香族烃环，R4、R6、R9、和R10表示特定的1价基团，R5、R7、和R8表示特定的2价基团，A2及A3表示S等，m1表示0以上的整数，n1和n2表示0或1。
8、一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的应用
[简介]：本技术提供了一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的应用。该光产酸剂为具有*离子和鎓离子的鎓盐，所述*离子具有式(I)所示的结构，所述鎓离子具有式(A)或式(B)所示的结构，所述鎓离子的个数使所述鎓盐的电荷保持中性。包含本技术鎓盐的光刻胶具有更好的分辨率、灵敏度和线宽粗糙度。
9、一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂
[简介]：本技术提供了一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂。该光产酸剂为具有*离子和鎓离子的鎓盐，所述*离子具有式(I)所示的结构，所述鎓离子具有式(A)或式(B)所示的结构，所述鎓离子的个数使所述鎓盐的电荷保持中性。包含本技术鎓盐的光刻胶具有更好的分辨率、灵敏度和线宽粗糙度。
10、一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及其中间体
[简介]：本技术提供了一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及其中间体。本技术的光产酸剂如式I所示。含有本技术的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。
11、一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法
12、一种由苦参碱合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法
13、一种由松香酸合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法
14、由长春布宁合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法
15、一种高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂
16、一种非离子型肟酯类光产酸剂
17、能够在I线高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂
18、锍盐、光产酸剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物
19、一种磺酸酯基硫杂蒽酮类光产酸剂及其配方技术
20、一种光产酸剂及其配方技术和应用
21、锍盐、光产酸剂及感光性组合物
22、芳香族锍盐化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物
23、磺酸衍生物化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物
24、新型磺酰亚胺盐化合物、其制造方法和包含其的光产酸剂以及感光性树脂组合物
25、一种磺酸肟酯类光产酸剂
26、新型磺酸衍生物化合物、光产酸剂、阳离子聚合引发剂、抗蚀剂组合物以及阳离子聚合性组合物
27、锍盐、光产酸剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物
28、可聚合光产酸剂
29、具有含氟碳负离子结构的盐及其衍生物、光产酸剂以及使用其的抗蚀材料和图案形成方法
30、光产酸剂用化合物以及使用它的抗蚀剂组合物、图案形成方法
31、N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯类光产酸剂及其合成方法
32、带有光产酸剂的含光自由基产生剂的光致抗蚀剂组合物
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,内容都包括具体的配方配比生产制作过程，费用260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
