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电池片镀膜工艺技术加工制作方法

发布时间:2020-05-11   作者:admin   浏览次数:171

1 镀膜装置、制造异质结太阳能电池片和叠瓦组件的方法 
   简介:本技术涉及一种镀膜装置和制造异质结太阳能电池片、叠瓦组件的方法。镀膜装置用于制造异质结太阳能电池片的透光导电膜,镀膜装置包括壳体、阳极板和*极板、射频电源发生器。壳体内具有中空的腔室且腔室能够被抽真空;阳极板和*极板设置在腔室内且阳极板和*极板之间存在间隔以使得用于制造透光导电膜的靶材能够容纳在该间隔处;射频电源发生器设置在壳体外并与阳极板、*极板电连接,并且射频电源发生器被构造为能够向阳极板、*极板供直流电和交流电。根据本技术,在制造透光导电膜时,在用直流电生成高浓度的电浆之后通过施加交流电场来向电浆提供反向加速度,从而降低透光导电膜的能量,在透光导电膜施加到非晶硅层时避免对非晶硅层的伤害。
2 一种改善电池片发灰的镀膜工艺 
   简介:本技术提供了一种改善电池片发灰的镀膜工艺,本工艺的工艺条件为:第一层膜中通入的NH3和SiH4流量比为4‑5。本工艺能有效的避免电池发灰的现象,提高电池镀膜质量,提高使用效率,更便于使用。
3 一种用*罩掩膜镀膜制造HBC电池片及电池的方法 
   简介:本技术提供了一种*罩掩膜镀膜制造HBC电池片的方法,包括如下工艺步骤:1)首先根据镀膜尺寸设计对应尺寸的N区镀膜*罩及P区镀膜*罩;2)镀膜前,将硅片放置在镀膜*罩内定位好以遮挡P区或N区;3)采用PVD镀膜工艺在硅片上形成N膜或P膜;4)再将硅片在镀膜*罩内定位好以遮挡N区或P区;5)再采用PVD镀膜工艺在硅片上形成P膜或N膜。该技术用PVD镀膜结合*罩掩膜的方法在硅片背面分别单独形成P膜及N膜,从而有效避免了现有技术使用的掩膜刻蚀方法存在的工艺流程长效率低且由于刻蚀污染薄层性能而影响电池性能的不足,具有工艺步骤短、生产成本低的优点,且有效提升了转换效率。
4 一种硅片背面退火和正面镀膜一体化的方法以及一种电池片的配方技术 
   简介:本技术提供了一种硅片背面退火和正面镀膜一体化的方法,包括以下步骤:利用激光设备对硅片的背面进行激光开槽,将激光开槽后的硅片放入沉积设备中,向所述沉积设备的沉积腔中通入反应气体SiH4和NH3以及N2进行沉积以在硅片的正面镀膜。本技术的一种硅片背面退火和正面镀膜一体化的方法,将激光开槽移至正面镀膜之前进行,利用了PECVD的中高温无氧环境进行背面退火的同时还能实现正面镀膜同步完成,没有增加额外的退火工序;且该方法恢复和修复了背面高能量激光开槽后带来的热冲击、热损伤和晶格缺陷,进一步降低了激光后硅片受损表面的复合速率,还能对背面开槽(开窗)位置进行氢钝化,从而提高受激光损伤硅片的少子寿命,进一步提高太阳能电池效率。
5 一种太阳能多晶电池片的镀膜工艺 
   简介:本技术提供了一种太阳能电池片的镀膜工艺,主要步骤包括:进舟、反应准备、镀膜、抽真空、回压、退舟。本技术在氮化硅膜上再镀上氮氧化硅膜从而提升少子寿命,提高电池的开路电压和短路电流,从而提升电池的转化效率。氮氧化硅膜与氮化硅膜相比其性能介于氮化硅与二氧化硅之间,具有更优异的钝化效果。
6 一种太阳能电池片钝化用Al2O3镀膜系统和方法 
   简介:本技术提供了一种太阳能电池片钝化用Al2O3镀膜系统,包括依次连接的上料台、红外加热腔、缓冲腔一、工艺腔、缓冲腔二、卸载腔、缓存台及自动上下料装置,通过底部设置的下传输装置将装载有待镀膜硅片的载板从自动上下料装置传输至上料台。镀膜时,三甲基铝通过N2或Ar携带并从分气块进入工艺腔的腔体,O2或N2O从离子源进入腔体,三甲基铝和O2或N2O经过射频电离后在硅片表面产生沉积而完成Al2O3镀膜;陶瓷板用于隔离三甲基铝与O2或N2O并起绝缘作用。该技术实现了太阳能电池片的高效Al2O3镀膜钝化,具有系统自动化程度高、镀膜速度快、成本低、镀膜质量高并适于工业化量产的优点。
7 一种降低PERC电池片衰减的镀膜工艺方法 
   简介:本技术涉及一种降低PERC电池片衰减的镀膜工艺方法,采用氨气、硅烷和甲烷作为反应气体,在硅片表面沉积碳化硅和氮化硅双层钝化减反膜,一方面由于碳化硅和氮化硅具有较好的体钝化效果,提升了硅片表面的钝化效果,提升了光电转换效率,另一方面碳化硅膜中含有较多的碳,其会通过高温扩散到硅材料中,与氧来形成碳氧相关的复合体,减少硅中氧的浓度,间接降低了硅片内部氧的含量,降低了光致衰减。
8 一种电池片PECVD镀膜后返工片的处理方法 
   简介:本技术提供了一种电池片PECVD镀膜后返工片的处理方法,包括以下步骤:S1、氮化硅切割:使用玻璃刀对电池片表面氮化硅进行切割去除,S1的具体步骤为:使用玻璃刀切割时,若玻璃刀的切割面位于电池片与氮化硅接触面上,则直接进行步骤S2;S2、切割后镀膜:采用管式PECVD镀膜工序对电池片表面进行重新镀膜。本技术的处理方法可以在不使用HF酸液或者少量HF酸液的情况下,很好的去除掉氮化硅,且不影响制绒面和PN结,然后重新在电池片上进行PECVD镀膜,能够有效降低对电池片的损伤和电池片碎片率,减少了原料酸液的消耗,降低了生产成本,提高了工作效率,很好的对色差返工片进行处理,十分有效。
9 一种用于太阳能电池片生产的原子层沉积真空镀膜装置 
   简介:本技术提供了一种用于太阳能电池片生产的原子层沉积真空镀膜装置,所述装置包含有外腔体,内腔体,喷淋板,加热系统,冷却系统,工艺气体系统,尾气处理装置和真空泵;内腔体设于外腔体内的支架上,喷淋板设于内腔体顶部且同时为内腔体的顶盖;加热系统设于内腔体外侧,冷却系统设于外腔体外侧,工艺气体系统通过工艺气体管道及脉冲阀与内腔体连接,内腔体通过真空管道依次与尾气处理装置、真空泵连接;所述喷淋板通过内腔体的内法兰与内腔体固定连接,所述喷淋板通过连接轴及弹簧与外腔体盖固定。太阳能电池片批量垂直放置在承载舟上,多个承载舟同时置于内腔体;所述太阳能电池片平行于工艺气体流动方向。
10 太阳能电池片镀膜机石墨柜 
   简介:本技术涉及太阳能电池片镀膜技术领域,尤其涉及一种包括石墨承载框架,石墨承载框架由纵横交错的石墨框筋组成,石墨承载框架上安装有挂钩和挡撑。本技术的太阳能电池片镀膜机石墨柜,通过对挂钩底部的钩子结构进行改进,使得钩子与硅片底部无接触点,解决了硅片镀膜留下钩印的技术问题,提高了电池片的转换效率。挡撑底部的弧面设计,使得在清理硅片时,硅片挡臂不易变形,而且更有利于清理死角,提高了镀膜质量。
11 太阳能电池片镀膜机石墨柜挂钩
12 太阳能电池片镀膜机石墨柜挡撑
13 一种用于生产太阳能电池片的镀膜系统及镀膜方法
14 一种晶体硅太阳能电池片镀膜工艺
15 一种太阳能电池片镀膜的方法
16 太阳能电池片镀膜工艺
 
  以上为本套技术的目录及部分简要介绍,内容都包括具体的生产制作过程,收费180元,购买或咨询更多相关技术内容可联系:微信/电话:13510921263



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