1 复合铜膜结构用蚀刻液
简介：本技术提供了复合铜膜结构用蚀刻液，包括溶剂；第一蚀刻剂，溶于溶剂中，第一蚀刻剂与溶剂的体积比为1:1‑1:6；第一蚀刻剂为硝酸和亚硝酸中的至少一种；第二蚀刻剂，溶于溶剂中，第二蚀刻剂与溶剂的体积比为1:1‑1:6；第二蚀刻剂为硫酸、过氧硫酸和亚硝酸中的至少一种；第三蚀刻剂，溶于溶剂中，第三蚀刻剂与溶剂的体积比为1:2‑1:21；第三蚀刻剂为盐酸、次氯酸和高氯酸中的至少一种；第二蚀刻剂、第三蚀刻剂与第一蚀刻剂三者的体积比介于1:1:1至1:0.25:0.25之间。本蚀刻液能够完全蚀刻掉未被光阻保护的电阻层区域，避免铜膜上金属线路的边缘出现黑边，且不会蚀刻铜膜，有效提高加工精度。
2 一种酸性氯化铜蚀刻液再生系统及再生方法
简介：本技术提供了一种酸性氯化铜蚀刻液再生系统，包括电连接的控制器、自动加液系统和传感器，传感器伸入盛放蚀刻液的蚀刻槽中，自动加液系统包括两个储液罐，两个储液罐分别盛装盐酸和过氧化氢，储液罐上分别设有注射器，注射器的注射口朝向蚀刻槽。或，一种酸性氯化铜蚀刻液再生方法，包括以下步骤，实时检测蚀刻槽内蚀刻液中铜离子的浓度；当检测到铜离子的浓度超过第一阈值时，向蚀刻液中加入至少一次盐酸和过氧化氢；当检测到铜离子的浓度低于第二阈值时，停止向蚀刻液中加入盐酸和过氧化氢。本技术的酸性氯化铜蚀刻液再生系统延长了蚀刻液的使用时间，进而降低废液的处理成本，利于保护环境，且再生过程中不会产生有毒有害气体，安全性强。
3 蚀刻钼/铜/钼或钼合金/铜/钼合金三层金属配线结构的蚀刻液组合物及其应用
简介：本申请提供了一种可以蚀刻钼/铜/钼或钼合金/铜/钼合金三层金属配线结构的蚀刻液组合物及其应用。所述蚀刻液组合物组分包含过氧化氢、二元醇、蚀刻抑制剂、螯合剂、蚀刻添加剂、pH调节剂和水；所述二元醇为乙二醇、丙二醇、二甘醇、丙烷‑1,2‑二醇、三甘醇、1,2‑丙二醇、1,3‑丙二醇、1,4‑丁二醇、1,5‑戊二醇、1,6‑己二醇、1,7‑庚二醇、1,8‑辛二醇、1,9‑壬二醇、1,10‑癸二醇、环戊烷‑1,2‑二醇和环已烷‑1,4‑二醇中的一种或几种。本技术的蚀刻液不仅减缓双氧水的分解，还延长蚀刻液的寿命至3000‑4000ppm，极大的降低了生产制造过程中的蚀刻液成本，提高了蚀刻液的安全系数。
4 一种蚀刻TFT铜钼合层的过硫酸铵体系蚀刻液
简介：本技术属于金属材料的化学法蚀刻技术领域，具体提供了一种蚀刻TFT铜钼合层的过硫酸铵体系蚀刻液。该蚀刻液由以下重量百分含量的原料组成：5%~30%的过硫酸铵、0.01%~1%稳定剂、0.1%~10%调节剂、0.05%~0.5%缓蚀剂A、0.05%~0.5%缓蚀剂B和余量的超纯水。本技术的蚀刻TFT铜钼合层的过硫酸铵体系蚀刻液蚀刻特性好，蚀刻斜面直线度好，无钼残、无底切，具有非常大的工业价值。
5 TFT-LCD制程用铜钼合层蚀刻液 简介：本技术属于金属材料的化学法蚀刻技术领域，具体提供了TFT‑LCD制程用铜钼合层的蚀刻液。该蚀刻液由以下重量百分含量的原料组成：5%~25%的过氧化氢、2%~4%的螯合剂、1%~2%调节剂、0.05%~0.5%稳定剂、0.05%~0.5%缓蚀剂A、0.05%~0.5%缓蚀剂B、0.5%~1%多功能添加剂和余量的超纯水。本技术的TFT‑LCD制程用铜钼合层用蚀刻液蚀刻特性好，蚀刻液中铜离子含量从1000~7000ppm均能保持蚀刻角度在35~50°，CDloss在0.80±0.20um，蚀刻斜面直线度好，无钼残，无底切。可代替进口产品，具有非常大的工业价值。
6 一种用于电子级铜蚀刻液的制备装置及制备工艺
简介：一种用于电子级铜蚀刻液的制备装置及制备工艺，涉及感光化学技术领域。制备装置包括用于储备原料磷酸的第一储槽、用于储备原料双氧水的第二储槽、用于储备原料超纯水的第三储槽、用于储备原料表面活性剂的第四储槽、混配槽、以及精密过滤器。第一储槽、第二储槽、第三储槽和第四储槽均同混配槽选择性地连通，混配槽的出口同精密过滤器的进口连通。其结构简单，实现了化繁为简，有助于简化生产流程并降低了操作难度，对于提高生产效率具有积极意义。制备工艺，其依托于至本装置，操作简单、易于实施，使整个生产过程更加精简，生产效率得到了提升。
7 酸性蚀刻液及其电解提铜再生利用装置和方法
简介：本技术提供一种酸性蚀刻液及其电解提铜再生利用装置和方法，具备出色的蚀刻稳定性、蚀刻速度、精细度，具备简单可控原位电解循环利用方式，获得平整光亮的铜板，无蚀刻液膨胀，无氯气产生，无需调配缸进行人为干预调整，再生液可直接回蚀刻机蚀刻线路生产。
8 碱性蚀刻液及其原位电解提铜再生利用装置和方法
简介：本技术提供一种碱性蚀刻液及其原位电解提铜再生利用装置和方法，具备出色的蚀刻稳定性、蚀刻速度、精细度和高铜离子浓度180‑200g/L，节省蚀刻药水用量；具备简单的可控的蚀刻液原位电解循环利用方式，获得平整光亮的高纯度铜板，无电解尾液需要深度环保处理，无需调配缸进行人为干预再生液调配，可直接回到蚀刻机蚀刻线路板生产。
9 一种电解碱性蚀刻液回收铜用的添加剂及使用其制备铜的方法
简介：本技术涉及蚀刻废液回收再利用技术领域，尤其涉及一种电解碱性蚀刻液回收铜用的添加剂及使用其制备铜的方法。本技术的每升添加剂的水溶液中含有如下组分：30‑110ppm结晶细化剂、5‑50ppm光亮剂、5‑30ppm整平剂、5‑20ppm表面活性剂。本技术的电解碱性蚀刻液回收铜用的添加剂，通过在碱性蚀刻液中加入包含光亮剂、整平剂和表面活性剂的添加剂，可以提高过电位，增加极化，减慢电极反应速率，最终获得晶粒细小、光亮的铜镀层，从而可以回收得到表面光亮平整，纯度高，结构致密，富有延展性的铜层。
10 一种铜蚀刻液组合物
简介：本技术提供了一种铜蚀刻液组合物，所述的铜蚀刻液为组合物,包括双氧水、有机酸、络合剂、甲基磺酸和去离子水，目前市场上的铜蚀刻液主要由双氧水、硫酸和去离子水组成，在该蚀刻液蚀刻过程中，蚀刻快，速度难以控制，生成的铜离子会加速双氧水分解，从而缩短蚀刻液寿命，同时制程中液体温度急剧上升，易导致安全事故发生，本技术通过加入一定比例的络合剂和甲基磺酸，来稳定蚀刻液铜离子浓度和PH值，有效延长了蚀刻液的使用寿命，提高了蚀刻速度和稳定性。
11 一种适用于电解提铜的印刷线路板碱性蚀刻液
12 一种利用废酸性蚀刻液制备氧化铜的方法及其装置
13 一种废酸、碱性蚀刻液联合制备氧化铜和氯化铵的方法及其装置
14 一种碱式蚀刻液二次蒸氨法制备高纯活性氧化铜的方法
15 一种用于铜/钼（铌）/IGZO膜层的蚀刻液、蚀刻补充液及其配方技术和应用
16 一种液晶面板含铜叠层薄膜蚀刻液及其应用
17 一种从酸性含铜蚀刻液中回收铜并制备氧化亚铜的方法
18 一种铜制程面板中调节蚀刻锥角的蚀刻液及调节方法
19 一种铜制程面板中稳定蚀刻锥角的蚀刻液及稳定方法
20 一种蚀刻速率稳定的铜蚀刻液
21 一种长蚀刻寿命的铜蚀刻液
22 一种覆铜陶瓷基板的活性金属层的蚀刻液及其刻蚀方法
23 一种酸性蚀刻废液在线回收铜、氯气及蚀刻液再生的方法
24 液晶显示装置用阵列基板的制造方法及用于其的铜系金属膜蚀刻液组合物
25 含铜酸性蚀刻液循环再生的方法
26 一种废铜蚀刻液的回收处理装置
27 一种高世代平板用铜钼蚀刻液
28 一种酸性铜蚀刻液的生产工艺
29 蚀刻液组合物及铜钼膜层的蚀刻方法
30 一种铜蚀刻液及其配方技术和应用
31 一种钼/铜复合金属层的蚀刻液、蚀刻方法与应用
32 一种铜蚀刻液
33 用于晶圆级封装的铜种子蚀刻液
34 对废微蚀刻液进行电积铜的装置
35 一种碱性蚀刻液的氢氧化铜及其配方技术
36 一种酸性蚀刻液的氢氧化铜及其配方技术
37 用于蚀刻由铜层及钼层构成的金属层的蚀刻液及其应用
38 电路板蚀刻液中铜回收并重复利用装置及回收方法
39 铜箔用蚀刻液和使用其的印刷电路板的制造方法以及电解铜层用蚀刻液和使用其的铜柱的制造方法
40 铜蚀刻液及其废液的再生利用方法和循环再生利用系统
41 一种碱性蚀刻液再生及其铜回收系统
42 一种碱性蚀刻液再生及其铜回收方法
43 以酸性、碱性蚀刻液为原料生产硫酸铜的方法
44 一种PCB减铜蚀刻液以及制作工艺
45 一种高效电解铜的碱性蚀刻液循环再生处理系统及再生方法
46 一种无氯气产生的酸性蚀刻液再生和铜回收装置及其方法
47 TFT-LCD铜钼合金蚀刻液
48 一种用含氯化铜废蚀刻液制取高纯铜粉和回收结晶氯化铝的配方技术
49 一种从蚀刻液中回收99.98%铜粉并制备99.999%*极铜的方法
50 一种蚀刻液铜回收系统及方法
51 铜/钼膜层用蚀刻液组合物
52 一种高效铜钼蚀刻液及蚀刻方法
53 一种高寿命铜钼蚀刻液及蚀刻方法
54 用于铜钼金属膜层的蚀刻液及蚀刻方法
55 酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统及回收再生方法
56 一种内循环蚀刻液制作电解铜箔的工艺流程
57 一种铜/钼蚀刻液组合物及其应用
58 一种铜/钼蚀刻液组合物及其应用
59 一种硫酸铜蚀刻液的再生循环系统及再生循环方法
60 一种PCB酸性蚀刻液提取铜的方法及装置
61 铜蚀刻液
62 一种硫酸铜蚀刻液的铜回收系统及回收方法
63 一种用于硫酸铜蚀刻液废水的再生处理剂及其配方技术
64 一种废酸性蚀刻液铜回收和再生系统及方法
65 用于酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理的系统
66 一种H2SO4/S2O82-微蚀刻废液的铜回收及同步再生微蚀刻液系统及方法
67 一种应用于薄膜晶体管线路的无氟铜钼蚀刻液
68 蚀刻液、补给液以及铜布线的形成方法
69 一种应用于铜钼膜层的金属蚀刻液
70 一种利用废酸性蚀刻液生产高纯结晶硫酸铜的方法
71 铜厚膜用蚀刻液
72 一种酸性蚀刻液体处理酸液及回收铜的工艺
73 用于铜/钼膜层的蚀刻液及其应用
74 一种碱性蚀刻液提铜及循环再生工艺
75 一种面板行业环保型高稳定性新型铜蚀刻液
76 一种面板行业高稳定性铜蚀刻液
77 用于铜/钼膜层的蚀刻液及其应用
78 一种酸性氯化铜蚀刻液原位电解再生及铜回收方法
79 一种用于AMOLED阵列基板铜导线的蚀刻液
80 一种高效且环保的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液
81 一种从酸性废蚀刻液中回收铜的方法
82 一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液
83 铜系金属膜的蚀刻液组合物及其应用
84 一种利用碱性蚀刻液生产碱式硫酸铜的方法
85 一种铜钼合金膜用蚀刻液
86 一种用于TFT‑LCD铜蚀刻液的生成处理方法
87 一种用于液晶面板制造工艺的铜蚀刻液
88 一种铜镍多层薄膜用蚀刻液
89 一种将酸、碱废蚀刻液混搭回收铜的方法
90 铜系金属膜的蚀刻液组合物及其应用
91 一种电解反应系统、酸性蚀刻液再生及提铜工艺
92 含铜碱性蚀刻液循环再生回用设备及方法
93 含铜、镍和铬的三氯化铁蚀刻液再生回用设备及方法
94 含铜酸性蚀刻液循环再生回用设备及方法
95 一种氯化铜蚀刻液及其配方技术
96 用于铜基金属膜的蚀刻液组合物和利用其制造液晶显示装置用阵列基板的方法
97 一种铜蚀刻液及其应用
98 一种铜或铜合金的选择性蚀刻液
99 一种回收酸性蚀刻液中铜的工艺及系统装置
100 一种侧蚀小的铜蚀刻液
101 一种酸性蚀刻液再生循环使用铜回收设备
102 铜蚀刻液组合物
103 一种印刷电路板中氯化铜酸性蚀刻液的回收方法
104 用于铜/钼膜层的金属蚀刻液及其蚀刻方法
105 显示基板的制造方法及铜系金属膜用蚀刻液组合物
106 用于制作精细铜引线柔性触摸屏的蚀刻液及其配方技术
107 铜系金属膜用蚀刻液组合物、利用其的显示装置用阵列基板及其制造方法
108 铜系金属膜和金属氧化物膜蚀刻液组合物及蚀刻方法
109 一种高世代平板铜钛膜酸性蚀刻液
110 一种高含铜蚀刻液再生循环系统
111 一种蚀刻液再生与铜回收的装置及方法
112 高效零排放废酸性铜蚀刻液回收及再生系统
113 一种酸性氯化铜蚀刻液的电解回收及再生工艺
114 铜蚀刻液添加剂以及铜蚀刻液的生成方法
115 蚀刻液、补给液及铜布线的形成方法
116 利用酸性蚀刻液和碱性蚀刻液制备氧氯化铜的方法及装置
117 一种用于TFT铜钼叠层的双氧水系蚀刻液
118 含铜废蚀刻液回收方法
119 一种蚀刻废液铜回收及蚀刻液再生方法
120 铜表面粗化微蚀刻液及其应用方法
121 一种失效碱性含铜蚀刻液的回收方法
122 一种酸性蚀刻液提铜系统添加剂配方
123 一种碱性蚀刻液再生提铜系统
124 铜选择性蚀刻液和钛选择性蚀刻液
125 铜、钼金属层叠膜蚀刻液组合物、使用该组合物的蚀刻方法及延长该组合物的寿命的方法
126 一种酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置
127 一种酸性蚀刻液铜电解装置
128 一种碱性CuCl＆lt;base:Sub＆gt;2＆lt;/base:Sub＆gt;废蚀刻液脱铜再生方法
129 一种从酸性CuCl＆lt;base:Sub＆gt;2＆lt;/base:Sub＆gt;蚀刻液中分离回收铜的方法
130 一种铜蚀刻液
131 一种印刷电路板酸性蚀刻液亚铜离子氧化装置
132 一种从酸性废蚀刻液中回收铜的方法
133 一种蚀刻液循环再生及提铜装置及方法
134 包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法
135 一种高质高效且安全的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液
136 高效高质型酸性氯化铜线路板蚀刻液
137 —种液晶面板铜钼膜蚀刻液
138 一种酸性蚀刻液电解提铜装置及其工艺
139 酸性蚀刻液在线循环的铜回收系统
140 一种TFT铜钼层叠膜蚀刻液组合物及蚀刻方法
141 一种双氧水系铜钼合金膜用蚀刻液
142 蚀刻液、补给液以及铜布线的形成方法
143 铜蚀刻液及其配方技术和应用、铜蚀刻方法
144 含铜蚀刻液电解获得铜板并再生循环利用方法及系统
145 铜及钼含有膜的蚀刻液组合物
146 铜及钼含有膜的蚀刻液组合物
147 铜及钼含有膜的蚀刻液组合物
148 一种铜蚀刻液以及制作印制电路板的方法
149 铜蚀刻液置换生成硫酸铜的工艺装置
150 酸性氯化铜蚀刻液电解再生循环及铜板回收装置及方法
151 线路板低酸高效型酸性氯化铜蚀刻液
152 PCB厂酸性蚀刻液置换提取铜和制备聚合氯化铁的方法
153 铜蚀刻液
154 铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物
155 铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物
156 铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物
157 蚀刻液、补给液及铜配线的形成方法
158 一种混合氯化铜废蚀刻液综合回收处理方法
159 铜钼合金膜的蚀刻液组合物
160 一种从碱性废蚀刻液中回收铜的方法
161 蚀刻液、补给液及铜配线的形成方法
162 一种从酸性废蚀刻液中回收铜的方法
163 铜微蚀刻液及其补充液、以及配线基板的制造方法
164 一种从酸性蚀刻液中回收铜以及稀盐酸的方法
165 铜钼合金膜的蚀刻液组合物
166 蚀刻液、补给液以及铜布线的形成方法
167 多级错流与逆流联用回收蚀刻液中铜的方法
168 从酸性蚀刻液中回收铜的方法及其专用装置
169 一种含铜蚀刻液的处理方法
170 含有铜层和/或铜合金层的金属膜用蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法
171 一种酸性铜蚀刻液及其制备工艺
172 铜及铜合金的蚀刻液组合物及蚀刻方法
173 用于酸性蚀刻液循环再生系统的铜粉收集系统
174 用于蚀刻液回收系统中铜粉的离心甩干设备
175 用于在电解蚀刻液中电极连接的铜排结构
176 增大蚀刻液蚀刻用量的铜/钼合金膜的蚀刻方法
177 铜/钼系多层薄膜用蚀刻液
178 铜膜蚀刻工序控制方法及铜膜蚀刻液组合物的再生方法
179 铜或以铜为主要成分的化合物的蚀刻液
180 TFT阵列基板铜导线的蚀刻液
181 电路板酸性废蚀刻液氯化亚铜(Cu+,CuCL)离子隔膜电积再生
182 一种酸性蚀刻液在线回用及提取制作铜板的方法
183 以铜为主成分的金属薄膜的蚀刻液组合物
184 旋流电解处理酸性氯化铜蚀刻液回收铜工艺
185 酸性氯化物蚀刻液的循环再生工艺方法及金属铜回收系统
186 用于包括铜和钛的金属层的蚀刻液组合物
187 酸性蚀刻液循环再生与铜回收装置
188 一种以酸性蚀刻液为原料制备氧化铜的方法
189 用于包含铜层和钼层的多层结构膜的蚀刻液
190 镍或镍／铜合金的蚀刻液组合物
191 用于含铜和钛的金属层的蚀刻液组合物
192 用于含铜和钛的金属层的蚀刻液组合物
193 用于含铜和钛的金属层的蚀刻液组合物
194 铜的蚀刻液和基板的制造方法
195 包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液
196 铜／钛系多层薄膜用蚀刻液
197 氧化铜用蚀刻液以及使用其的蚀刻方法
198 氧化铜用蚀刻液以及使用其的蚀刻方法
199 含铜层积膜用蚀刻液
200 从酸性氯化铜蚀刻液中回收铜的方法
201 一种再生酸性蚀刻液和回收铜的方法及其专用装置
202 碱性铜蚀刻液的再生液及提高其蚀刻速度的方法
203 铜金属表面处理的微蚀刻液
204 铜或铜合金用的蚀刻液、蚀刻方法及蚀刻液的再生管理方法
205 液晶显示器系统中的铜、铜／钼或铜／钼合金电极蚀刻液体
206 印制板酸性蚀刻废液的铜回收系统及蚀刻液再生方法
207 一种碱性蚀刻废液回收铜及碱性蚀刻液的回收方法
208 ＰＣＢ酸性氯型铜蚀刻液废水制备高纯*极铜的方法
209 一种高精度控制废蚀刻液内各离子浓度提铜的方法
210 蚀刻液和使用了该蚀刻液的铜配线的形成方法
211 用于铜或铜合金的蚀刻液、蚀刻前处理液及蚀刻方法
212 全闭路ＰＣＢ碱性蚀刻液再生及铜回收系统
213 废蚀刻液循环再生及铜的回收处理系统
214 用于铜/钼金属的蚀刻液组成物及蚀刻方法
215 一种铜蚀刻液组合物及其生产方法
216 铜蚀刻液再生循环方法及装置
217 铜锡电镀污泥与线路板蚀刻液联合处理方法
218 氯化物体系线路版废蚀刻液中铜的提取方法
219 从酸性蚀刻液中回收盐酸和硫酸铜的方法
220 一种铜蚀刻液及其循环使用方法
221 铜的蚀刻液以及蚀刻方法
222 铜蚀刻液用添加剂
223 废蚀刻液中铜的回收方法
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
