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绝缘膜生产工艺技术加工制造方法

发布时间:2022-01-21   作者:admin   浏览次数:189

1、一种绝缘膜
 [简介]:本技术揭示了一种绝缘膜,包括第一粘合剂层、基材层和第二粘合剂层,基材层设置于第一粘合剂层和第二粘合剂层之间,第一粘合剂层和基材层之间还设置有第一阻隔层,基材层和第二粘合剂层之间还设置有第二阻隔层。本技术通过增设多层阻隔层,使绝缘条产品具有更高的阻水汽性能,较好的老化性能,从而提高绝缘条产品的竞争优势。
2、一种锂电池绝缘膜超声焊接装置及方法
 [简介]:本技术提出了一种锂电池绝缘膜超声焊接方法,包括以下步骤:S1、将包裹有绝缘膜的卷芯进行固定,并将卷芯表面绝缘膜抚平;S2、在卷芯表面放置电池盖板,使用超声焊接装置将卷芯表面绝缘膜焊接到电池盖板的PP塑料膜上;S3、翻转卷芯并再次固定,将卷芯表面绝缘膜抚平;S4、在卷芯表面再放置电池盖板,使用超声焊接装置将卷芯表面绝缘膜焊接到电池盖板的PP塑料膜上。本技术使用超声焊将绝缘膜焊接在电池盖板上,在固定绝缘膜与盖板时无任何拉丝现象出现,从而避免了合盖焊接时的XX点,解决了电池XX点后的漏液情况,也大大提高了合盖激光焊接合格率。
3、一种热压绝缘膜及包含该绝缘膜的柔性扁平线缆
 [简介]:本技术提供了一种热压绝缘膜及包含该绝缘膜的柔性扁平线缆。本技术提供一种热压绝缘膜,所述热压绝缘膜包括基材层及形成在基材层表面上的粘合剂层,按质量百分比计,粘合剂层的原料包括30%~50%的饱和聚酯树脂A,5%~20%的饱和聚酯树脂B,25%~45%的阻燃剂,5%~10%的固化剂,0.01~0.1%的固化促进剂,0.1~1%的分散助剂,0.1~1%的耐水解助剂;饱和聚酯树脂A的玻璃化温度Tg为0℃~30℃,且树脂A的酸值<3KOHmg/g;饱和聚酯树脂B的玻璃化温度Tg为40℃~120℃;饱和聚酯树脂A和饱和聚酯树脂B的数均分子量Mn为5000~40000。本技术的热压绝缘膜可满足长期户外使用要求。
4、一种柔性电路板、显示面板及绝缘膜
 [简介]:本技术提供了一种柔性电路板,包括电路板基材层、器件、氟化液层和绝缘膜;所述器件设置于所述电路板基材层上,且所述器件远离所述电路板基材层的表面覆盖有氟化液;所述绝缘膜包括绝缘膜基材层与含氟胶层;所述含氟胶层包括树脂胶粘剂与含氟物质;所述含氟胶层与所述氟化液相接触。与现有技术相比,本技术通过在与氟化液相接触的胶层中添加含氟物质,其可与氟化液中的氟元素形成氟键,使氟化液与绝缘膜之间除分子间作用力之外还增加氟键作用力,从而使绝缘膜与氟化液粘结牢固,可以使得在不增加绝缘膜面积的情况下使绝缘膜贴都在器件上不脱落,且不翘起。
5、液晶显示元件及其制造方法、感放射线性组合物、层间绝缘膜及其制造方法
 [简介]:本技术提供一种可使气泡的产生得到充分抑制的液晶显示元件及其制造方法、感放射线性组合物、层间绝缘膜及其制造方法。一种液晶显示元件的制造方法,包括:形成工序,在基板上形成层间绝缘膜;以及照射工序,在层间绝缘膜的形成后对具有层间绝缘膜的对象物照射光,所述制造方法中,使用含有(A)成分、(B)成分及(C)成分的感放射线性组合物形成层间绝缘膜。(A)聚合物成分,包含:源自选自由具有环元数5以上的杂环结构的丙烯酸酯化合物及具有碳数3以下的烷基的丙烯酸酯化合物所组成的群组中的至少一种的第一结构单元、具有酸基的第二结构单元、以及具有环元数3或4的环状醚基的第三结构单元。(B)醌二叠氮化合物。(C)溶媒。
6、用于制造电子装置的绝缘膜
 [简介]:本技术提供如下用于制造电子装置的绝缘膜:上述绝缘膜为组合物的固化物,上述组合物包含:热固性树脂,包含环氧成分;热塑性树脂;固化剂;以及填料,平均粒度(D50)为0.1μm至3μm,可以通过限定玻璃化转变温度(Tg)之前的热膨胀系数(Coefficient of Thermal Expansion)与玻璃化转变温度之后的热膨胀系数之间的关系,来防止在电子配件及绝缘膜的层叠成型过程中在基板上发生裂纹或者发生弯曲或翘曲,并且表现出优秀的柔韧性,从而不仅可以应用于柔性基板,还可以用作可以减薄多层印刷电路板的层间粘合膜。
7、一种耐湿导热绝缘膜及其配方技术
 [简介]:本技术属于膜技术领域,具体涉及一种耐湿导热绝缘膜,包括:载体膜、形成在所述载体膜上的绝缘层,形成在所述绝缘层上的疏水膜,所述载体膜由弹性聚合物乙丙橡胶、疏水改性高空位缺陷的Al2O3/GaN、单硬脂酸甘油酯组成,所述绝缘层由绝缘聚合物聚酰亚胺、疏水改性高空位缺陷的Al2O3/GaN、单硬脂酸甘油酯组成,所述疏水膜由含石蜡?硅的氟化液涂覆在聚四氟乙烯板上制得,所述疏水改性高空位缺陷的Al2O3/GaN是通过水热反应、煅烧、高温退火、疏水改性制得,本技术中的含石蜡?硅的氟化液涂覆在聚四氟乙烯板上制得的疏水膜具有疏水作用,疏水改性高空位缺陷的Al2O3/GaN可以捕获水中的电荷载流子,加速电荷复合,抑制导电,疏水改性高空位缺陷的Al2O3/GaN可以与疏水膜起到协同耐湿的作用。
8、一种变压器线圈的双层绝缘膜及其配方技术和装置
 [简介]:本申请属于变压器技术领域,尤其涉及一种变压器线圈的双层绝缘膜及其配方技术和装置。本申请提供了一种变压器线圈的双层绝缘膜及其配方技术和装置;其中,变压器线圈的双层绝缘膜包括第一金属氧化物陶瓷层和第二金属氧化物陶瓷层,由于第二金属氧化物陶瓷层的过渡层与第一金属氧化物陶瓷层的多孔层结合,降低了绝缘膜中疏松多孔的多孔层在绝缘膜中的厚度,从提高了变压器线圈的双层绝缘膜的耐磨性、腐蚀性以及绝缘性能;本申请提供的一种变压器线圈的双层绝缘膜及其配方技术和装置可以解决现有技术中较多孔隙的多孔层导致的金属氧化物陶瓷层的耐磨性、腐蚀性以及绝缘性能下降技术问题。
9、一种用于FFC的热压绝缘膜及含该热压绝缘膜的FFC
 [简介]:本技术涉及一种用于FFC的热压绝缘膜及含该热压绝缘膜的FFC。为了提供一种成本低且性能可满足新能源电车的使用要求的FFC电缆,本技术提供了一种用于FFC的热压绝缘膜,其粘合剂层的原料包括饱和聚酯树脂、热塑性树脂、异氰酸酯固化剂、阻燃剂、离子捕捉剂和钛白粉,其中,饱和聚酯树脂由多元酸单体、多元醇单体以及低聚多元醇聚合而成,低聚多元醇的质量为饱和聚酯树脂的原料的总质量的5%~30%,饱和树脂的玻璃化转变温度Tg为?10℃~30℃,极限粘度IV为0.3~1.2dl/g。本技术制备的绝缘膜的粘接性能、耐冷热冲击性能、耐高温高湿性能都得到进一步提升,且实现了主体树脂自主合成,降低了生产成本。
10、电池包外壳热贴绝缘膜的方法
 [简介]:本技术涉及贴膜方法领域,尤其是电池包外壳热贴绝缘膜的方法。该方法的步骤为:(a)将绝缘膜和电池包外壳依次放置到加热基板上的治具内,治具的定位槽与电池包外壳相配合,绝缘膜被压到治具内之后,将超出治具的部分绝缘膜折弯,使得折弯的绝缘膜贴合在电池包外壳折弯的两侧,绝缘膜平整的部分与治具的平面相贴合;在绝缘膜与电池包外壳之间涂胶;(b)接着将加热盖板盖在电池包外壳上,让加热基板与加热盖板夹住电池包,再通过螺丝将加热盖板及加热基板固定连接在一起。本技术给治具加热,从而让胶融化。融化的胶能够消除绝缘膜与电池包外壳之间的气泡,并且增加了电池包贴膜的均匀性与粘合度。
11、绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置及绝缘膜制造方法
12、一种高性能芳纶绝缘膜及其配方技术
13、绝缘膜及锂离子电池包膜方法
14、一种电池绝缘膜包膜工艺
15、一种多层复合的导热反光绝缘膜及其配方技术
16、一种多层母线排用热压绝缘膜及其配方技术
17、一种绝缘膜贴合机
18、两面覆金属层叠体和其制造方法、绝缘膜及电子电路基板
19、光敏树脂组合物和由其制备的绝缘膜
20、一种热压绝缘膜及汇流排
21、一种有机绝缘膜及显示面板
22、蚀刻组合物,使用其蚀刻半导体器件的绝缘膜的方法以及制备半导体器件的方法
23、用于电池导热的绝缘膜及其电池
24、多层绝缘膜堆叠
25、一种钛合金球阀表面耐磨绝缘膜层的配方技术
26、一种电机定子槽口绝缘膜安装机构的定子上料机构
27、树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜及电子零件
28、一种采用微弧氧化制备钛合金表面耐磨绝缘膜层的方法
29、一种电力结构壳体的绝缘膜贴设装置
30、具有绝缘膜的电极组件、其制造方法和包含其的锂二次电池
31、电子装置的制造方法、负型感放射线性树脂组合物、绝缘膜及显示装置
32、蚀刻组合物、使用蚀刻组合物蚀刻半导体器件的绝缘膜的方法以及制备半导体器件的方法
33、锂电池绝缘膜及其配方技术
34、一种导热聚酰亚胺绝缘膜及其配方技术
35、感放射线性组合物、显示装置用绝缘膜及其形成方法、显示装置、及倍半硅氧烷
36、绝缘膜、粘接膜和扁平电缆
37、一种金属件表面PVD镀透明绝缘膜工艺
38、一种新能源汽车电池组散热用石墨烯/高分子复合导热绝缘膜及其配方技术
39、一种有机绝缘膜
40、光敏树脂组合物和由其制备的绝缘膜
41、用于沉积绝缘膜的物理气相沉积设备
42、绝缘膜及包括其的印刷电路板
43、碱溶性树脂、感光性树脂组合物、感光性片材、固化膜、层间绝缘膜或半导体保护膜、固化膜的浮凸图案的制造方法、电子部件或半导体器件
44、绝缘膜形成用树脂组合物、绝缘膜形成用树脂组合物的制造方法、干膜、印刷配线板和印刷配线板的制造方法
45、一种热熔胶及FFC绝缘膜补强板
46、感光性树脂组合物、图案固化物的制造方法、固化物、层间绝缘膜、覆盖涂层、表面保护膜及电子部件
47、发热管绝缘膜自动穿膜机
48、组合物、以及抗蚀剂图案的形成方法和绝缘膜的形成方法
49、一种动力锂电侧板绝缘膜及动力锂电池模组
50、包括绝缘膜的电气装置及电气设备
51、感光性树脂组合物、图案固化物的制造方法、固化物、层间绝缘膜、覆盖涂层、表面保护膜及电子部件
52、树脂组合物及使用该树脂组合物的绝缘膜和产品
53、一种锂离子用高导热性绝缘膜及其配方技术
54、外壳绝缘膜的包膜方法和方形锂离子电池
55、一种高频树脂预聚物及使用其制备的高频树脂组合物、半固化片、层压板和层间绝缘膜
56、感光性树脂组合物、图案固化物的制造方法、固化物、层间绝缘膜、覆盖涂层、表面保护膜及电子部件
57、绝缘膜用树脂组合物
58、感光性树脂组合物、图案固化物的制造方法、固化物、层间绝缘膜、覆盖涂层、表面保护膜及电子部件
59、正型感光性树脂组合物、绝缘膜以及图像显示装置
60、用于电子产品白铜屏蔽罩绝缘膜的单组份丝印绝缘油墨
61、树脂组合物、绝缘膜和使用该绝缘膜的产品
62、一种包绝缘膜机
63、导体与绝缘被膜的层叠体、线圈、旋转电机、绝缘涂料和绝缘膜
64、低损耗绝缘树脂组合物及绝缘膜和产品
65、绝缘膜、绝缘导体及金属基底基板
66、蚀刻剂组合物、蚀刻绝缘膜的方法、制造半导体器件的方法和硅烷化合物
67、化合物、包含其的组合物、以及抗蚀图案的形成方法和绝缘膜的形成方法
68、感光性树脂组合物、图案固化膜的制造方法、固化膜、层间绝缘膜、覆盖涂层、表面保护膜及电子部件
69、正型感光性树脂组合物、绝缘膜及图像显示装置
70、化合物、和包含其的组合物、以及抗蚀图案的形成方法和绝缘膜的形成方法
71、用于干式变压器绕包的绝缘膜
72、复合绝缘膜
73、一种薄挡板折弯贴绝缘膜机构
74、用于油浸式变压器的高耐热绝缘膜
75、一种高频树脂组合物及使用其制备的半固化片、层压板和层间绝缘膜
76、光交联性聚合物、绝缘膜、平坦化膜、亲疏图案化膜和包含其的有机场效应晶体管器件
77、感光性树脂组合物、感光性树脂组合物膜、绝缘膜及电子部件
78、一种包膜动力电池的绝缘膜剪切装置
79、一种用于绝缘膜的卷膜设备
80、抑制钴、氧化铝、层间绝缘膜、氮化硅的损伤的组成液及使用其的清洗方法
81、电激发标记分子的方法和绝缘膜涂覆的电极
82、用于制造绝缘膜和半导体封装的方法
83、绝缘膜形成用组合物、绝缘膜、及具备绝缘膜的半导体器件
84、感光性树脂组合物、图案固化物的制造方法、固化物、层间绝缘膜、覆盖涂层、表面保护膜以及电子部件
85、感光性树脂组合物、固化图案的制造方法、固化物、层间绝缘膜、覆盖涂层、表面保护膜和电子部件
86、变压器线圈的绝缘膜
87、包括吸收层和绝缘膜的电池外壳
88、一种锂电池电芯及锂电池电芯包绝缘膜方法
89、一种高导热纳米纤维素基电气绝缘膜材料的配方技术
90、电池绝缘膜包膜装置
91、一种绝缘膜组合式石英压电传感器及其标定方法
92、一种NOX传感器陶瓷芯片用绝缘膜带及绝缘层制备工艺
93、一种锂电池绝缘膜叠片装置及方法
94、绝缘膜的自动冲切上料机构
95、感光性组合物、硬化膜、彩色滤光片、层间绝缘膜及涂布型偏光板
96、一种高频树脂组合物及使用其制备的半固化片、层间绝缘膜及层压板
97、绝缘膜的成膜方法、基板处理装置和基板处理系统
98、一种绝缘膜料卷收废料装置
99、绝缘膜的成膜方法、绝缘膜的成膜装置及基板处理系统
100、油浸式变压器的绝缘膜
101、树脂组合物、固化物、图案固化物、固化物的制造方法、层间绝缘膜、表面保护膜和电子部件
102、二次电池的绝缘膜封装装置
103、一种用于柔性电路板的复合绝缘膜及其配方技术
104、树脂组合物及使用其制作的半固化片、金属箔层压板及层间绝缘膜
105、绝缘膜、半导体装置的制造方法以及半导体装置
106、复合绝缘膜
107、一种长条形绝缘膜搬运吸附机构
108、绝缘膜、半导体装置的制造方法以及半导体装置
109、用于干式变压器线圈绕包的绝缘膜
110、感光性树脂组合物、其固化物、层间绝缘膜、表面保护膜和电子部件
111、绝缘膜
112、高容量小型纽扣式锂电池内壳与绝缘膜固定加工方法
113、化学增幅型正型感光性有机绝缘膜树脂组合物及绝缘膜
114、化学增幅型感光性树脂组合物及由其制造的绝缘膜
115、栅极绝缘膜层制作方法
116、树脂组合物及使用其制作的半固化片、金属箔层压板及层间绝缘膜
117、一种母线槽绝缘膜的生产线
118、层间绝缘膜及其制造方法
119、感光性树脂组合物、固化物、层间绝缘膜、TFT有源矩阵基板及图像显示装置
120、正型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜
121、一种吸膜及热熔机构以及绝缘膜上料、热熔和转移机构
122、树脂组合物及使用其制作的半固化片、金属箔层压板及层间绝缘膜
123、一种树脂组合物及使用其制作的半固化片、金属箔层压板及层间绝缘膜
124、光敏树脂组合物和由其制备的有机绝缘膜
125、感光性树脂组合物、固化膜、保护膜、绝缘膜和电子装置
126、绝缘膜、电动机、制冷剂压缩机和制冷循环装置
127、树脂组合物及使用其制作的半固化片、层压板和层间绝缘膜
128、一种电池包装用聚氯乙烯绝缘膜及其配方技术
129、一种电池包装用绝缘膜及其配方技术
130、屏蔽罩绝缘膜贴合方法及其使用的绝缘膜结构
131、感光性树脂组合物、感光性树脂组合物膜、固化物、绝缘膜及多层布线基板
132、光敏树脂组合物和由其制备的有机绝缘膜
133、一种锂电池绝缘膜的连续上料装置
134、化学增幅型感光性树脂组合物及由其制造的绝缘膜
135、彩色光阻剂或有机系绝缘膜剥离液组合物
136、采用柔性版印刷的绝缘膜的形成方法及柔性版印刷版
137、热熔胶水和用于FFC软质排线的绝缘膜及其高频传输线
138、光敏性绝缘树脂组合物及其绝缘膜的制造方法
139、一种热熔胶水和用于FFC排线的绝缘膜及其高频传输线
140、引入绝缘膜和至少一个电导体的方法
141、硅通孔中一步法化学接枝有机绝缘膜的方法
142、一种软磁合金粉体表面包覆二氧化硅绝缘膜层的方法
143、一种树脂组合物及使用其制作的半固化片、层压板和层间绝缘膜
144、一种碳纤维镁合金层合板层间多孔结构绝缘膜的配方技术
145、感光性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、绝缘膜、滤色器及显示装置
146、感放射线性树脂组合物、绝缘膜及显示元件
147、树脂组合物、使用其的绝缘膜及半导体装置
148、绝缘膜切口顶压装置及其方法和叠焊机
149、绝缘膜的蚀刻方法
150、基材带有绝缘膜的高性能电机定子
151、涂布型绝缘膜形成用组合物
152、用于绝缘膜的树脂组合物和绝缘膜
153、感放射线性树脂组合物、显示元件用间隔件及层间绝缘膜的形成方法、以及显示元件
154、在具有高纵横比的凹陷部上蒸镀绝缘膜的方法
155、感光性树脂组合物和使用所述组合物的绝缘膜和电学装置
156、感光性树脂组合物、固化膜、保护膜、绝缘膜和电子装置
157、用于形成有机EL显示元件中的绝缘膜的感光性树脂组合物
158、基材带有绝缘膜的高效正方形电机定子
159、永久绝缘膜用树脂组合物、永久绝缘膜、多层印刷电路板及其制造方法
160、一种能实现非绞线方式束多股漆包线的绝缘膜缠绕设备以及工艺
161、正型感光性树脂组合物、图案固化膜的制造方法、固化物、层间绝缘膜、覆盖涂层、表面保护膜和电子部件
162、负型感光性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法
163、用于生产耐热老化绝缘膜的PET复合物及其配方技术
164、190℃级PET绝缘膜及其配方技术
165、一种绝缘膜的卸料架
166、聚合物、绝缘膜以及软性铜箔基板
167、绝缘膜形成墨水、绝缘膜制造方法和半导体制造方法
168、具有绝缘膜的温控开关
169、树脂组合物、使用了该树脂组合物的绝缘膜和半导体装置
170、元件、绝缘膜及其制造方法以及感放射线性树脂组合物
171、负型感光性有机?无机混合绝缘膜组合物
172、绝缘膜及扁平线缆
173、绝缘材料用树脂组合物、绝缘墨液、绝缘膜及使用该绝缘膜的有机场效应晶体管
174、树脂组合物及栅极绝缘膜
175、用于金属玻璃的快速放电形成的涂覆有绝缘膜的进料桶
176、绝缘膜用感光性树脂组合物及固化物
177、耐热老化绝缘膜的PET复合物及其配方技术
178、用于印刷电路板的绝缘树脂组合物、绝缘膜、半固化片和印刷电路板
179、显示或照明装置及绝缘膜的形成方法
180、感光性树脂组合物、保护膜或绝缘膜、触摸面板及其制造方法
181、感光性树脂组合物、光学间隔件、彩色滤色器用保护膜和触摸面板的保护膜或绝缘膜
182、透明绝缘膜形成用组合物
183、带绝缘膜的电磁钢板
184、栅绝缘膜、有机薄膜晶体管及有机薄膜晶体管的制造方法
185、一种母线槽绝缘膜定型机的自动切料装置
186、一种太阳电池组件用绝缘膜及其配方技术
187、膜用树脂组合物、绝缘膜和半导体装置
188、屏蔽罩内覆绝缘膜连续成型方法
189、栅极绝缘膜、感放射线性组合物、硬化膜、半导体元件、半导体元件的制造方法及显示装置
190、一种母线槽绝缘膜定型设备以及其定型方法
191、栅绝缘膜、有机薄膜晶体管及有机薄膜晶体管的制造方法
192、栅极绝缘膜形成用组合物、有机薄膜晶体管、电子纸及显示装置
193、用于彩色光阻和有机绝缘膜的剥离组合物
194、感光性树脂组合物、使其热固化而成的保护膜或绝缘膜、使用其的触摸面板及其制造方法
195、液晶面板和绝缘膜的槽部形成方法
196、一种快闪存储器的隔离绝缘膜及其制作方法
197、讯号传输线的绝缘膜及包含该绝缘膜的讯号传输线
198、一种母线槽绝缘膜定型设备
199、用于屏蔽罩内覆绝缘膜的组合物及屏蔽罩内覆膜的方法
200、一种电器开关绝缘膜
201、用于印刷电路板的绝缘膜和具有该绝缘膜的产品
202、用于印刷电路板的绝缘树脂组合物、绝缘膜、半固化片和印刷电路板
203、用于内置绝缘膜的环氧树脂组合物及其形成的绝缘膜和有该绝缘膜的多层印刷电路板
204、热固化性树脂组合物、以及使用了该组合物的预浸料、带支撑体的绝缘膜、层叠板及印刷布线板
205、用于绝缘膜的清洗液以及清洗绝缘膜的方法
206、扁平电缆用绝缘膜以及扁平电缆
207、一种含有导热绝缘膜的电容器
208、用于印刷电路板的树脂组合物和绝缘膜及半固化片以及印刷电路板
209、绝缘膜、半导体装置的制造方法以及半导体装置
210、用于印刷电路板的树脂组合物和绝缘膜及半固化片以及印刷电路板
211、具有金属层的绝缘膜
212、多层基板的制造方法、多层绝缘膜及多层基板
213、绝缘膜以及绝缘膜的配方技术
214、固化性树脂组合物、绝缘膜、预浸料、固化物、复合体、以及电子材料用基板
215、复合绝缘膜
216、制造多孔绝缘膜的方法和包含所述多孔绝缘膜的半导体器件
217、一种电绝缘膜及其配方技术
218、一种无绝缘膜的EAS电子标签单元及其制造方法
219、绝缘膜形成用感光性树脂组合物、绝缘膜、以及绝缘膜的形成方法
220、感放射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜以及其形成方法
221、正感光性树脂组合物、由其制造的有机绝缘膜和显示装置
222、印刷电路基板用树脂组合物和绝缘膜及预浸料坯和印刷电路基板
223、感光性树脂组合物、固化物、层间绝缘膜、TFT 有源阵列基板及液晶显示装置
224、用于在有机绝缘膜中形成过孔的掩膜板和方法
225、用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物、使用其的显示装置绝缘膜、及使用其的显示装置
226、正型光敏树脂组合物以及使用该组合物形成的绝缘膜和OLED
227、用于印刷电路板的环氧树脂组合物、绝缘膜、半固化片以及多层印刷电路板
228、树脂组合物、涂膜及触控面板用绝缘膜
229、绝缘膜
230、绝缘膜
231、一种负型感光性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、绝缘膜、滤色器及显示装置
232、化学放大型正感光型有机绝缘膜组合物及利用该组合物的有机绝缘膜的形成方法
233、绝缘膜的形成方法
234、绝缘膜用树脂组成物及含有其的绝缘膜、电路板
235、绝缘膜用树脂组合物及其利用
236、一种在不锈钢基底表面制备绝缘膜的方法及其在湿敏电容元件中的应用
237、用于印刷电路板的环氧树脂组合物、绝缘膜、半固化片以及多层印刷电路板
238、复合绝缘膜
239、新颖的绝缘膜及附带绝缘膜的印刷线路板
240、绝缘膜结构及其制造方法
241、有机半导体绝缘膜用组合物及有机半导体绝缘膜
242、用于高-k金属栅极器件的自对准绝缘膜
243、导电膜形成方法、导电膜、绝缘化方法以及绝缘膜
244、树脂图案、图案基板、薄膜晶体管基板、层间绝缘膜及显示装置的制造方法
245、绝缘膜被覆金属箔
246、绝缘膜用组合物及三维垂直孔的孔壁上形成绝缘膜的方法
247、绝缘膜及其制造方法
248、绝缘膜的黏贴设备及其黏贴方法
249、用于层间绝缘膜和保护膜的树脂及感光树脂组合物
250、具有张应力增加的绝缘膜的半导体器件及其制造方法
251、新颖的含颜料绝缘膜用树脂组合物及其利用
252、一种双向拉伸聚酯绝缘膜及其配方技术
253、负型感光性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法
254、绝缘膜的改性方法
255、激光照射装置、激光照射方法及绝缘膜形成装置
256、无芯电机子的绝缘膜形成方法、发电机及马达
257、正型感光性树脂组成物、硬化膜及其形成方法、层间绝缘膜以及显示装置
258、具有低介电性绝缘膜的半导体器件及其制造方法
259、正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法
260、二次电池及其制造方法以及二次电池用热粘接性绝缘膜
261、太阳能电池内的绝缘膜形成用聚酰亚胺树脂组合物以及使用其的太阳能电池内的绝缘膜形成方法
262、光敏复合物和具有光敏复合物的积层绝缘膜、以及使用积层绝缘膜制造电路板的方法
263、光敏树脂组合物和介电绝缘膜以及使用该介电绝缘膜的电子器件
264、液晶显示元件、正型放射线敏感性组合物、液晶显示元件用层间绝缘膜及其形成方法
265、正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法
266、正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法
267、厚绝缘膜的工艺实现方法
268、正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法
269、树脂组合物、绝缘膜、膜形成方法及电子部件
270、聚合物树脂组合物、利用该聚合物树脂组合物制造的绝缘膜、以及制造该绝缘膜的方法
271、低介电常数层间绝缘膜及低介电常数层间绝缘膜的成膜方法
272、正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法
273、显示元件用放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜、保护膜和隔片以及它们的形成方法
274、喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法
275、成膜用组合物、绝缘膜以及半导体装置
276、用于电机的涂层绝缘膜及其制造方法
277、放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法
278、感射线性树脂组合物以及层间绝缘膜及其制造方法
279、绝缘膜材料、使用该绝缘膜材料的成膜方法和绝缘膜
280、具有绝缘膜下埋入背控制栅极的SeOI上一致晶体管电路
281、绝缘膜形成方法
282、正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法
283、正型放射线敏感性组合物、固化膜、层间绝缘膜及其形成方法、显示元件以及硅氧烷聚合物
284、用于三极式场发射*极的无机绝缘膜和聚酰亚胺复合膜
285、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法
286、热固化性树脂组合物、以及使用了该组合物的预浸料、带支撑体的绝缘膜、层叠板及印刷布线板
287、绝缘膜和使用该绝缘膜的扁平电缆
288、栅极绝缘膜介质击穿寿命评估方法、评估装置及评估程序
289、正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法
290、层间绝缘膜、布线结构以及它们的制造方法
291、LED印刷电路板的非晶金刚石散热绝缘膜层的配方技术
292、正型感光性树脂组合物、和使用它的固化膜、保护膜、绝缘膜、半导体装置以及显示装置
293、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其制造方法
294、放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法
295、一种陶瓷绝缘膜导热基板及其制作方法
296、电磁线圈用绝缘膜以及具备其的马达和变压器
297、放射线敏感性树脂组合物、作为显示元件用保护膜、绝缘膜或分隔物的固化物及其形成方法
298、成膜方法、半导体元件的制造方法、绝缘膜以及半导体元件
299、绝缘膜形成用涂布液、使用该涂布液的绝缘膜及该涂布液中使用的化合物的制造方法
300、放射线敏感性树脂组合物以及层间绝缘膜的形成方法
301、正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法
302、适用于辊印法的有机绝缘膜形成用油墨组合物
303、绝缘膜的评价方法及测量电路
304、薄膜形成方法和用于形成含硅绝缘膜的装置
305、感射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法
306、带绝缘膜的PCB软板折弯装置
307、正型感光性树脂组合物、固化膜、保护膜、绝缘膜及使用它们的半导体装置、显示器装置
308、薄膜晶体管用栅极绝缘膜形成用组合物
309、染料敏化型太阳能电池用糊剂、染料敏化型太阳能电池用透明性绝缘膜、染料敏化型太阳能电池、以及染料敏化型太阳能电池的制造方法
310、正型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物
311、绝缘膜形成用油墨组合物、由该油墨组合物形成的绝缘膜
312、绝缘膜材料、使用该绝缘膜材料的成膜方法和绝缘膜
313、制造硅烷化多孔绝缘膜的方法、制造半导体装置的方法和硅烷化材料
314、感射线性树脂组合物以及层间绝缘膜和微透镜的制造方法
315、栅极绝缘材料、栅极绝缘膜及有机场效应型晶体管
316、正型感光性树脂组合物,固化膜,保护膜,绝缘膜以及使用它们的半导体装置,显示器装置
317、正型感光性树脂组合物、固化膜、保护膜和绝缘膜以及使用它们的半导体装置和显示装置
318、丝网印版、层间绝缘膜、电路板、有源矩阵电路板和图像显示设备
319、组合物及其制造方法、多孔质材料及其形成方法、层间绝缘膜、半导体材料、半导体器件以及低折射率表面保护膜
320、电连接构件
321、制备电绝缘膜的方法及在通孔金属化中的应用
322、化学气相沉积法用材料和含硅绝缘膜及其制造方法
323、绝缘膜材料、使用该绝缘膜材料的成膜方法和绝缘膜
324、一种复合导热绝缘膜及其制造方法
325、薄膜晶体管用栅极绝缘膜形成剂
326、使用绝缘膜保护半导体芯片的侧壁
327、形成掺杂有金属的含硅绝缘膜的成膜方法和装置
328、感射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制造方法
329、具有层间绝缘膜布线层叠构造部的半导体装置及其制造方法
330、正型感光性树脂组合物、固化膜、保护膜、绝缘膜及电子器件和显示器件
331、一种制备附着在触摸屏上绝缘膜的方法
332、用于形成绝缘膜的涂料溶液、用于形成无取向电工钢板绝缘膜的方法及使用其形成的无取向电工钢板
333、表面平坦性绝缘膜形成用涂布溶液、表面平坦性绝缘膜被覆基材和该基材的制造方法
334、绝缘膜的制造方法及半导体器件的制造方法
335、放射线敏感性树脂组合物、以及层间绝缘膜和微透镜及它们的配方技术
336、感光性树脂组合物、固化膜、保护膜、绝缘膜及使用它们的半导体装置和显示装置
337、透明绝缘膜及其制造方法、以及溅射靶
338、感放射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜及其形成方法
339、层间绝缘膜和布线结构以及它们的制造方法
340、绝缘膜
341、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及微透镜以及它们的配方技术
342、液晶显示元件用平坦化绝缘膜形成用组合物以及液晶显示元件用平坦化绝缘膜的制造方法
343、薄膜晶体管用栅极绝缘膜形成剂
344、具有低介电性绝缘膜的半导体器件及其制造方法
345、贮存用于形成半导体器件用夹层绝缘膜的涂布溶液的方法
346、用于形成半导体器件中的层间绝缘膜的方法
347、绝缘膜材料、多层布线基板及其制造方法和半导体装置及其制造方法
348、电绝缘膜及其配方技术
349、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法
350、氧化硅膜、其配方技术以及具有使用其的栅极绝缘膜的半导体器件
351、电绝缘膜
352、正型感光性树脂组合物、固化膜、保护膜、绝缘膜以及半导体装置
353、具有载体材料的层间绝缘膜和使用该层间绝缘膜的多层印刷电路板
354、有机绝缘材料、使用该有机绝缘材料的有机绝缘膜用清漆、有机绝缘膜及半导体装置
355、绝缘膜形成用聚合物、绝缘膜形成用组合物、绝缘膜及具有该绝缘膜的电子器件
356、绝缘膜材料、多层互连结构及其制造方法和半导体器件的制造方法
357、用于微型麦克风的组合绝缘膜环及其制作方法
358、含硅膜形成用材料、以及含硅绝缘膜及其形成方法
359、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的配方技术
360、层间绝缘膜和布线构造及它们的制造方法
361、膜形成用材料、以及含硅绝缘膜及其形成方法
362、绝缘膜的形成方法和半导体装置的制造方法
363、绝缘膜研磨用CMP研磨剂、研磨方法、通过该研磨方法研磨的半导体电子部件
364、LCD基板盖板绝缘膜片V-com过孔结构
365、用于形成有机绝缘膜的光敏树脂组合物和使用该组合物的设备
366、含有有机硅烷、有机硅氧烷化合物形成的绝缘膜用材料、其制造方法和半导体器件
367、双(氨基苯酚)衍生物及其制造方法以及聚酰胺树脂类、正型感光性树脂组合物、保护膜、层间绝缘膜、半导体装置和显示元件
368、放射线敏感性组合物、二氧化硅系覆膜的形成方法、二氧化硅系覆膜、具有二氧化硅系覆膜的装置和部件以及绝缘膜用感光剂
369、绝缘膜、半导体器件及其制造方法
370、层间绝缘膜的干式蚀刻方法
371、层间绝缘膜用感光性树脂组合物及层间绝缘膜的形成方法
372、用于形成具有优良耐腐蚀性以及膜紧密粘合性和膜强度的绝缘膜的不含铬的涂层溶液以及一种使用其在无取向电工钢板上制造所述绝缘膜的方法
373、感光性树脂组合物、绝缘膜、保护膜以及电子设备
374、光敏树脂组合物及由其制备的有机绝缘膜
375、形成绝缘膜的方法和制造半导体器件的方法
376、形成绝缘膜的方法
377、硅点形成方法及装置以及带硅点和绝缘膜的基板的形成方法及装置
378、用于半导体器件的绝缘膜沉积方法
379、硅系绝缘膜的蚀刻后处理剂、半导体装置的制造方法以及半导体装置
380、多孔质绝缘膜的形成方法
381、电绝缘膜
382、绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法
383、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及微透镜的形成
384、电解电容器铝壳体绝缘膜的涂覆方法
385、绝缘膜的制造方法和等离子体处理装置
386、薄膜电容元件用组合物、绝缘膜、薄膜电容元件和电容器
387、绝缘膜用接着剂的主剂
388、基板的氮化处理方法和绝缘膜的形成方法
389、固化性树脂组合物和层间绝缘膜
390、基底绝缘膜的形成方法
391、形成绝缘膜的组合物以及制造半导体器件的方法
392、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜的形成
393、层间绝缘膜、布线结构以及它们的制造方法
394、一种电工绝缘膜聚酯切片的配方技术
395、具有栅极绝缘膜的半导体装置及其制造方法
396、形成含硅的绝缘膜的方法和装置
397、有源矩阵基板、显示装置、电视接收机、有源矩阵基板的制造方法、栅极绝缘膜形成方法
398、射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法
399、掺氟氧化硅玻璃层间绝缘膜的集成方法
400、有机绝缘体组合物、有机绝缘膜、有机薄膜晶体管和电子设备以及形成这些产品的方法
401、具有铁电膜作为栅极绝缘膜的半导体器件及其制造方法
402、用于压电式作用力或压力传感器的、通过电绝缘膜固定在一起的部件
403、具有低介电性绝缘膜的半导体器件及其制造方法
404、采用阳极处理工艺使电解电容器铝壳体披覆绝缘膜的方法
405、正型感光树脂组合物以及由其获得的层间绝缘膜和微透镜
406、TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法
407、辐射敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的配方技术
408、形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物和层间绝缘膜
409、含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置
410、检测绝缘膜的方法和装置,对其打孔的装置及控制方法
411、绝缘膜形成方法及基板处理方法
412、栅极绝缘膜的形成方法、半导体装置和计算机记录介质
413、绝缘膜以及半导体器件的制造方法
414、电容绝缘膜及其制造方法、电容元件及其制造方法和半导体存储装置及其制造方法
415、绝缘膜半导体装置及方法
416、在涂覆形成的夹层绝缘膜上具有透明导电膜的液晶显示器
417、绝缘膜成形方法、绝缘膜成形装置和等离子体膜成形装置
418、栅极绝缘膜的形成方法
419、含硅感光性组合物、使用该组合物的薄膜图案的制造方法、电子机器用保护膜、栅极绝缘膜和薄膜晶体管
420、形成有机绝缘膜的组合物及用其形成有机绝缘膜图案的方法
421、含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置
422、绝缘膜形成用组合物和其制法及二氧化硅系绝缘膜和其形成法
423、用于介电绝缘膜的涂料组合物以及由其制备的介电绝缘膜和包括该绝缘膜的电气或电子装置
424、评价用于半导体装置的绝缘膜的特性的方法以及形成该绝缘膜的方法
425、半导体装置的绝缘膜形成方法及半导体装置
426、形成绝缘性能改进的绝缘膜的方法
427、形成多孔膜的组合物、多孔膜及其形成方法、层间绝缘膜和半导体器件
428、低介电常数绝缘膜的制造
429、在绝缘膜上设置开口部的分析用具
430、有机绝缘膜、其制造方法、使用该有机绝缘膜的半导体器件及其制造方法
431、多孔膜形成用组合物、多孔膜制造法、多孔膜、层间绝缘膜及半导体装置
432、薄膜电容元件用组合物、高介电常数绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜积层电容器及薄膜电容元件的制造方法
433、使用绝缘膜成膜用原料的成膜方法
434、绝缘膜的形成方法及其形成系统、半导体装置的制造方法
435、形成多孔膜的组合物,多孔膜和其配方技术,层间绝缘膜和半导体器件
436、多孔膜形成用组合物,多孔膜的配方技术,多孔膜、层间绝缘膜和半导体器件
437、硅氧烷基的树脂和使用其制造的半导体器件的层间绝缘膜
438、含有电路元件和绝缘膜的半导体模块及其制造方法以及其应用
439、硅氧烷基树脂及用其制造的半导体的层间绝缘膜
440、具有改善的机械特性的绝缘膜合成物
441、薄膜电容元件用组合物、高介电常数绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜积层电容器及薄膜电容元件的制造方法
442、有机无机混合绝缘膜的形成方法
443、高介电常数绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜叠层电容器及薄膜电容元件的制造方法
444、有机硅氧烷树脂以及使用该有机硅氧烷树脂的绝缘膜
445、包含锗的硅氧烷基树脂和使用该树脂的半导体器件用间层绝缘膜
446、生产绝缘膜的涂料组合物、制备绝缘膜的方法、绝缘膜及含有该绝缘膜的半导体器件
447、绝缘膜上硅(SOI)晶片上接触区的制造方法
448、绝缘膜的改性方法
449、光敏性聚酰亚胺树脂组合物、使用该组合物的绝缘膜、其制造方法及使用绝缘膜的电子器件
450、在绝缘膜上形成凹状图形的半导体装置及其制造方法
451、多官能环状硅酸盐(或酯)化合物,由该化合物制得的基于硅氧烷的聚合物和使用该聚合物制备绝缘膜的方法
452、新颖的硅氧烷基树脂和使用该树脂形成的层间绝缘膜
453、耐热绝缘膜和绝缘方法
454、基底绝缘膜的形成方法
455、氧化膜的制造装置
456、低介电常数绝缘膜形成用材料、低介电常数绝缘膜、低介电常数绝缘膜的形成方法及半导体器件
457、一种制备绝缘膜和显示器的射线敏感组合物
458、薄膜电容元件用组合物、高介电常数的绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜积层电容器、电路和电子仪器
459、含有有机硅烷、有机硅氧烷化合物形成的绝缘膜用材料、其制造方法和半导体器件
460、沸石溶胶及其制法、多孔膜形成用组合物、多孔膜及其制法、层间绝缘膜和半导体装置
461、在硅基底中形成绝缘膜的方法
462、将电荷俘获在绝缘膜内非易失性地存储信息的存储器
463、具有不同厚度栅极绝缘膜的半导体器件的制造方法
464、有机硅酸盐聚合体和含有该有机硅酸盐聚合体的绝缘膜
465、树脂组合物,形成绝缘膜的方法,有源矩阵板和平板显示设备,和生产平板显示设备的方法
466、绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法
467、用于夹层绝缘膜的光敏组合物及形成带图形夹层绝缘膜的方法
468、层间绝缘膜及其形成方法以及聚合物组合物
469、高分子材料的合成方法、高分子薄膜的形成方法以及层间绝缘膜的形成方法
470、多孔膜形成用组合物、多孔膜及其制造方法、层间绝缘膜和半导体装置
471、形成含硅绝缘膜的CVD方法和装置
472、绝缘膜的形成方法
473、含低介电常数绝缘膜的半导体装置的制造方法
474、清漆、成型物、电绝缘膜、层压物、阻燃剂淤浆以及阻燃剂粒子和清漆的制造方法
475、非取向型电磁钢板的配方技术及所用的绝缘膜形成剂
476、在基板上形成绝缘膜的方法、半导体装置的制造方法和基板处理装置
477、含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置
478、形成半导体基体上的绝缘膜的方法
479、印刷电路板、半导体封装、基底绝缘膜以及互连衬底的制造方法
480、薄膜电容元件用组合物、绝缘膜、薄膜电容元件和电容器
481、栅绝缘膜的形成方法
482、绝缘膜氮化方法、半导体装置及其制造方法、基板处理装置和基板处理方法
483、电池以及引线绝缘膜
484、绝缘膜形成材料,绝缘膜,形成绝缘膜的方法及半导体器件
485、有机硅酸酯聚合物和从其得到的绝缘膜
486、低介电常数绝缘膜用组合物、绝缘膜形成方法及电子零件
487、低介电常数绝缘膜及其形成方法,以及使用它的电路
488、带有不同硅厚度的绝缘膜上硅装置
489、绝缘膜的形成方法及半导体器件的制造方法
490、薄膜电容元件用组合物、高电容率绝缘膜、薄膜电容元件和薄膜叠层电容器
491、在涂覆形成的夹层绝缘膜上具有透明导电膜的液晶显示器
492、绝缘膜刻蚀装置
493、绝缘膜的形成方法和半导体装置的制造方法
494、沉积方法、沉积设备、绝缘膜及半导体集成电路
495、含高介电常数绝缘膜的半导体设备和该设备的制造方法
496、有机绝缘膜的蚀刻方法和双波纹处理方法
497、制造光敏绝缘膜图案和反射电极及其液晶显示器的方法
498、糊料、透明绝缘膜、等离子显示板的制造方法
499、硅氧烷聚合物的配方技术,用该方法制备的聚硅氧烷聚合物,热固性树指组合物和树脂膜
500、绝缘膜形成用涂料及用该涂料的等离子显示板的制造方法
501、耐热性树脂的预聚体,耐热性树脂,绝缘膜和半导体装置
502、绝缘膜的蚀刻方法
503、绝缘膜用材料、绝缘膜用罩光清漆,以及绝缘膜和采用该膜或该清漆的半导体装置
504、金属高温绝缘膜
505、具有含氮栅绝缘膜的半导体器件及其制造方法
506、具有元件分离绝缘膜的半导体装置的制造方法
507、用于形成绝缘膜的涂料组合物,用此涂料组合物涂覆的未取向电工钢板,以及在该钢板上形成该绝缘膜的方法
508、改进了高温下收缩性的双轴取向聚丙烯膜
509、用于半导体装置中的绝缘膜和半导体装置
510、具有低介电常数绝缘膜的半导体器件及其制造方法
511、介电常数降低的改进二氧化硅绝缘膜及其形成方法
512、用牺牲可流动氧化物双嵌埋形成多共面金属/绝缘膜的方法
513、具有金属-绝缘膜-半导体三层结构的晶体管的制造方法
514、一种层间绝缘膜受到保护的半导体器件和制作方法
515、形状记忆合金表面绝缘膜的原位配方技术及其所制备的绝缘膜
516、非取向型电磁钢板
517、通过电子束辐射制作绝缘膜线路图形的方法
518、形成半导体器件的层间绝缘膜的方法
519、场绝缘膜上表面平坦的半导体器件及其方法
520、包括绝缘膜的半导体器件及其制造方法
521、评价用于形成绝缘膜的硅氧烷的方法、形成绝缘膜的涂布液及其制备、半导体器件用绝缘膜成型方法以及采用绝缘膜成膜法制备半导体器件的方法
522、半导体装置的层间绝缘膜的形成方法
 
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