1 一种用于化学机械抛光的保持环和承载头
简介：本技术提供了一种用于化学机械抛光的保持环和承载头，所述环形部包括顶面、底面、外侧面和内侧面，所述顶面与承载头固定连接，所述底面与抛光表面抵接，所述外侧面设置于环形部的外侧并连接于顶面与底面之间，所述内侧面设置于环形部的内侧并连接于顶面与底面之间。
2 一种用于化学机械抛光的保持环和承载头
简介：本技术提供了一种用于化学机械抛光的保持环和承载头，所述保持环由环形部构成，所述环形部由金属部和非金属部组成，所述非金属部模制形成于金属部的外周侧；所述环形部包括顶面、底面、外侧面和内侧面，所述顶面与承载头固定连接，所述底面与抛光表面抵接，所述外侧面设置于环形部的外侧并连接顶面与底面，所述内侧面设置于环形部的内侧并连接顶面与底面，所述底面设置有连通内侧面和外侧面的供液槽；所述顶面设置有螺纹孔，所述螺纹孔位于所述供液槽的竖直上方。
3 一种电热控温式的化学机械抛光平台
简介：本技术提供了一种电热控温式的化学机械抛光平台，包括抛光盘和旋转轴，还包括温度控制器和加热器，抛光盘包括面板、底座和中空的连接座，底座上表面开设有凹槽，凹槽内设置有陶瓷盘，陶瓷盘中部开设有连接避位孔，陶瓷盘上开设有盘旋槽，盘旋槽内设置有加热丝；连接座固定连接在旋转轴的顶部；凹槽内还设置有热电偶和连接线，旋转轴的外侧壁上绝缘设置有两组金属圈，旋转轴对应两组金属圈的位置开设有连接孔，热电偶和连接线与两组金属圈连接。本技术技术方案简单实用，旨在采用温度控制器通过热电偶实时测量并控制加热器以调节抛光盘的表面温度，从而将抛光盘恒定在所需温度下，实现精准控制抛光温度的目的。
4 一种用于精密铜合金工件的化学抛光液
简介：本技术提供了一种用于精密铜合金工件的化学抛光液，由下列重量份的原料制成：85wt%磷酸1000‑1200份、98wt%硫酸350‑500份、磷酸铝3‑10份、过硫酸钾10‑30份、二苯基硫脲0.1‑0.5份、缓蚀剂3‑5份，所述缓蚀剂为2‑乙基‑3，5‑二甲基吡嗪、硫脲、山梨醇和磺基水杨酸的混合物，四者的质量比为1：1‑3：3‑5：5‑10。与现有技术相比，本技术的铜合金化学抛光液环保无黄烟、腐蚀速度慢、可以达到镜面光亮的效果，尤其适用于尺寸要求严苛的铜合金精密零部件的抛光。
5 一种单晶金刚石晶片的双面化学机械抛光方法
简介：本技术提供了一种单晶金刚石晶片的双面化学机械抛光方法，属于超精密加工技术领域。该方法包括粗抛和精抛两个阶段，其中粗抛采用聚氨酯抛光垫，精抛采用绒布抛光垫；粗抛和精抛时滴加不同配方的抛光液并设置不同的抛光参数，其中，粗、精抛时抛光液的主要成分包括碳化硼、氧化铈等磨粒，熊果酸、碘酒、煤油等化学试剂。本技术提供的双面抛光方法可实现单晶金刚石晶片材料的快速去除，并保证抛光表面的超低损伤及超光滑，研制的抛光液绿色环保。
6 TSV盲孔电镀铜硬翘曲晶圆化学机械抛光前的预处理方法
简介：本技术提供TSV盲孔电镀铜硬翘曲晶圆化学机械抛光前的预处理方法，包括如下步骤，步骤1，先在TSV盲孔电镀铜硬翘曲晶圆的图形面喷涂一层光刻胶，再将所述晶圆的中心位置遮挡后进行定向曝光，该晶圆未曝光的区域为边缘区域，最后去除该晶圆边缘区域的光刻胶；步骤2，将步骤1得到的晶圆去胶处理后浸泡在腐蚀液中，得到去除面铜，以及铜凸点或铜凸块的晶圆；步骤3，将步骤2得到的晶圆图形面的光刻胶去除，并对所得晶圆的背面进行减薄处理，完成TSV盲孔电镀铜硬翘曲晶圆化学机械抛光前的预处理。本技术将晶圆自身的硬翘曲转变为软翘曲，从而更容易实现晶圆与抛光垫的完全接触，实现全局平坦化。
7 微型轴承核心元件超精密柔性化学机械抛光装置及方法
简介：本技术提供了微型轴承核心元件超精密柔性化学机械抛光装置及方法。核心元件包括内套圈、保持架、滚动体、外套圈。抛光装置包括元件自转模块、外套圈转向模块、元件夹持模块、抛光液池旋转模块、支架。其中，元件夹持模块针对性提供内套圈夹具、保持架夹具、滚动体夹具、外套圈夹具。抛光方法包括安装调试抛光装置、配制柔性化学机械抛光液、设置抛光工艺参数、测量表面质量并反馈。柔性化学机械抛光液包括非牛顿流体、0.01‑40wt％的研磨颗粒、0‑10wt％的氧化剂、0‑10wt％的金属络合剂、0‑5wt％的金属缓蚀剂、以及余量的水，pH值2.0‑10.0。本技术通过优化化学反应和力流变效应机械力的协同作用，能够实现核心元件表面超精密低损伤加工以及复杂曲面保形加工，且绿色环保。
8 实时侦测系统、实时侦测方法及化学机械抛光设备
简介：本技术提供一种实时侦测系统，用于实时侦测研磨垫沟槽状况以管控研磨垫寿命，所述实时侦测系统包括图像采集模块、数据处理模块和界面管理模块。本技术还提供一种实时侦测方法，包括：实时采集所述研磨垫沟槽的图像；对所述图像进行实时分析，确认所述研磨垫是否到达寿命，实时输出分析结果。本技术还提供一种包括所述实时侦测系统的化学机械抛光设备。通过图像采集模块采集图像信息，并通过数据处理模块对图像进行分析处理，实时得出研磨垫是否达到寿命的结果，最后通过界面管理模块进行系统控制和状态显示，使得研磨垫寿命管控变得及时、可靠，同时减少了人力，解决了现有技术中研磨垫寿命管控缺乏即时性和可靠性且浪费人力的问题。
9 一种铝材化学抛光废酸液提纯回用设备及方法
简介：本技术提供了一种铝材化学抛光废酸液提纯回用设备，包括依次连接的化学抛光槽、废酸液收集槽、废酸液池、沉淀池、过滤器、原料废酸液桶、料酸液箱，在废酸液收集槽上依次连接有第一清洗槽、第二清洗槽，第二清洗槽和纯水连接。提纯回用方法包括废酸液的收集、废酸液的预处理、提纯等步骤。本技术具有能够适用于处理浓度高达50％的混酸、可以同时去除铝、铁、铜、镍、铬等中的多种金属离子、处理后的废混酸液可100％回用于产线，回用效率高、有效解决阳极氧化废水存在的严重问题，从源头着手减排是关键，并且尽可能将有价酸进行回用，并完善化抛废混酸液的回用，因此可以广泛适用于铝材化学抛光废酸液提纯回用。
10 一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液
简介：本技术提供了一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，包括：磨料、氧化剂、生物缓冲液、pH调节剂和水性介质，所述磨料为硅溶胶(SiO2)和铝溶胶(Al2O3)中的其中一种或者两者的混合物，所述磨料的重量百分比浓度为1％‑40％，所述生物缓冲液的重量百分比浓度为0.05％‑5％，所述氧化剂的重量百分比浓度为0.2％‑10％；所述抛光液的pH值为7‑11。本技术技术方案旨在提出一种能在碱性溶液中有效达成优良去除率和粗糙度的抛光液。
11 一种化学机械抛光机
12 一种用于化学机械抛光的浆料分布设备
13 用于硅晶圆基材的复合磨料化学机械抛光浆料及配方技术
14 一种用于化学机械抛光的承载头及晶圆承载装置
15 一种提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法
16 一种化学机械抛光垫的抛光层及其应用
17 一种基于振镜的激光复合化学抛光钛合金的方法
18 一种扫描式激光复合化学抛光装置及方法
19 一种化学机械抛光研磨剂的配方技术及化学机械抛光方法
20 一种金属辅助化学刻蚀抛光硅片的方法
21 一种血管支架的电化学抛光装置
22 用于化学机械平坦化设备的抛光头压力控制设备及方法
23 一种相变材料复合磨料的化学机械抛光液及其应用
24 一种铜化学机械抛光液及其配方技术
25 一种便于清理的化学机械抛光设备
26 一种具有防护功能的化学机械抛光设备
27 一种压铸铝合金化学抛光方法
28 一种铜材料表面的电化学抛光方法
29 电化学抛光用供液装置
30 用于Ge-As-Se硫系玻璃光学表面加工的化学机械抛光液
31 环保型铝合金化学抛光液
32 一种电化学抛光中的支架抛光装置
33 一种卸载装置及化学机械抛光辅助设备
34 抛光垫及化学机械抛光设备
35 一种外置LDS天线的外表面喷涂工艺及其化学抛光液
36 面向复杂曲面加工的三电极体系可控电化学辅助力流变超精密抛光装置
37 一种不含磷元素和氮元素的环境友好型铝材化学抛光液
38 化学机械抛光垫和抛光方法
39 化学机械抛光垫和抛光方法
40 一种钛质*极辊用电化学抛光液及利用该抛光液抛光*极辊的方法
41 一种便于固定的化学机械抛光设备
42 一种便于固定的化学机械抛光设备
43 一种缓蚀剂及其在铜金属酸洗液和化学抛光液中的应用
44 一种电化学抛光装置及方法
45 一种半导体CMP化学机械抛光设备保持环及其加工方法
46 一种用于化学机械抛光承载头的驱动装置
47 一种化学机械抛光装置
48 抛光垫及其配方技术、化学机械研磨设备
49 一种筒形细长薄壁纯铜样品池的化学机械抛光方法
50 用于钨的化学机械抛光组合物和方法
51 用于钨的化学机械抛光组合物和方法
52 一种蓝宝石磁流变化学机械抛光液的配方技术
53 一种二氧化硅溶胶的配方技术及蓝宝石化学机械抛光液
54 一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
55 用于控制抛光均匀性的化学机械抛光装置
56 用于化学机械抛光后的非TMAH碱清洗液及其配方技术
57 化学机械抛光设备与不规律机械运动预测系统及方法
58 一种防溅罩及化学机械抛光机台
59 浅沟槽隔离化学机械平面化抛光中的高氧化物:氮化物选择性、低且均匀的氧化物沟槽凹陷
60 用于铅化学机械抛光的粗抛抛光液及抗氧化工艺
61 一种控制抛光工艺的方法和化学机械抛光装置
62 用于铅化学机械抛光的抛光液及抗氧化工艺
63 一种铝合金碱性化学抛光液
64 一种终点检测方法和化学机械抛光装置
65 一种用于半导体基板的化学机械抛光方法、装置
66 抛光二氧化硅多于氮化硅的化学机械抛光组合物和方法
67 一种蓝宝石衬底的高效混合磨料化学机械抛光液
68 用于化学机械抛光的浆料组合物
69 化学液体加热系统与化学机械抛光的方法
70 一种半导体材料加工用化学抛光机
71 一种高强度钢化玻璃盖板化学抛光试剂及抛光方法
72 氧化物化学机械平面化(CMP)抛光组合物
73 用于抛光氧化物材料的化学机械平面化组合物及其使用方法
74 一种毛刷式高耐用化学机械抛光聚氨酯材料及其配方技术
75 一种光学石英玻璃的绿色经济环保化学机械抛光方法
76 一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法
77 一种使用化学试剂对有机玻璃制品进行表面抛光的方法
78 化学机械抛光设备和方法
79 一种铝材三酸化学抛光液水洗废酸浓缩装置及工艺
80 电诱导辅助化学机械抛光测试装置
81 用于减少的氧化物侵蚀的钨化学机械抛光
82 一种通用化学机械抛光液
83 一种螺旋桨的化学机械抛光液及抛光方法
84 一种铝合金化学抛光液及其抛光方法
85 化学机械抛光设备和制造半导体装置的方法
86 用于钨的中性至碱性化学机械抛光组合物和方法
87 低氧化物沟槽凹陷化学机械抛光
88 低氧化物沟槽凹陷化学机械抛光
89 低氧化物沟槽凹陷化学机械抛光
90 一种整体叶轮的绿色环保混合化学机械抛光液与抛光方法
91 一种FV520B材料叶轮叶片的化学机械抛光方法与抛光液
92 一种整体叶轮的旋转化学机械抛光方法
93 一种整体叶轮的化学机械抛光方法与抛光装置
94 氮化镓化学机械抛光液及其配方技术
95 一种超声电化学机械抛光蓝宝石衬底材料的装置
96 钨化学机械抛光组合物
97 用于化学机械抛光的装置及方法
98 一种不锈钢电化学抛光液及抛光工艺
99 一种化学预处理和介电泳协同作用的碳化硅平面抛光方法和装置
100 SiC单晶片的超声辅助电化学机械抛光加工装置及方法
101 基于光谱的化学机械抛光在线终点检测方法
102 一种蓝宝石衬底化学机械抛光方法
103 一种压力控制装置和化学机械抛光装置
104 镍钛合金电化学抛光液、表面处理方法及左心耳封堵器
105 一种膜厚测量方法、系统及化学机械抛光装置
106 一种膜厚测量方法、系统及化学机械抛光装置
107 一种超导腔零部件表面化学缓冲全自动抛光设备
108 一种终点检测方法、系统及化学机械抛光装置
109 一种超导腔表面化学缓冲抛光全自动酸液配制设备和方法
110 长效型化学机械抛光后清洗液、其配方技术和应用
111 稳定型化学机械抛光后清洗液、其配方技术和应用
112 一种化学机械抛光液用硅溶胶及其配方技术
113 一种化学机械抛光液用氧化铝及其制备工艺
114 一种SiC单晶等离子体电化学抛光装置及其抛光方法
115 采用定向晶粒控制的电化学机械抛光工件的预处理方法
116 用于钨的化学机械抛光方法
117 一种SiC单晶纳米尺度的等离子体电化学抛光方法
118 一种UV光催化辅助化学机械抛光装置及抛光方法
119 一种钇铝石榴石晶体的高效高质量化学机械抛光液
120 块体钌的化学机械抛光组合物
121 用于可潮解晶体超精密加工的无水基剪切增稠-化学协同抛光液
122 一种用于Co-Cr合金支架的电化学抛光液及其抛光方法
123 一种电化学增稠抛光装置
124 阻挡物钌的化学机械抛光浆料
125 一种电化学增稠抛光方法
126 化学机械抛光期间的振动的监测
127 化学机械抛光方法以及化学抛光系统
128 一种化学机械抛光设备
129 一种3D打印钛合金的化学磨粒流抛光方法
130 一种化学机械抛光设备及其晶圆交换机构和晶圆传输方法
131 调节器和包括该调节器的化学机械抛光设备
132 一种铝制品化学抛光液及使用该抛光液的抛光方法
133 一种化学机械抛光设备
134 化学机械抛光设备支撑结构及化学机械抛光设备
135 一种镁合金化学抛光剂及其前处理工艺
136 一种化学机械抛光的优化方法及装置
137 化学机械抛光工作台及化学机械抛光设备
138 一种承载头及化学机械抛光装置
139 一种教学用电化学抛光装置
140 一种用于化学机械抛光的弹性膜
141 一种大型金属管道电化学抛光装置及抛光方法
142 一种用于黄铜紫铜焊接材料的化学抛光液及其使用方法
143 一种化学机械抛光液
144 一种化学机械抛光液及其应用
145 一种化学机械抛光液及其应用
146 一种化学机械抛光液及其应用
147 太阳能电池表面的化学抛光及所得的结构
148 一种化学机械抛光液及其应用
149 一种化学机械抛光液及其应用
150 一种化学机械抛光液及其应用
151 一种化学机械抛光液
152 一种化学机械抛光液
153 一种化学机械抛光液及其应用
154 一种化学机械抛光液及其应用
155 一种化学机械抛光液
156 一种化学机械抛光液
157 一种用于抛光钨的化学机械抛光液
158 一种化学机械抛光液
159 一种镍合金的绿色环保化学机械抛光方法
160 一种化学机械抛光液
161 一种化学机械抛光液
162 一种化学机械抛光液及其应用
163 一种化学机械抛光系统及其工作过程
164 一种光化学与机械抛光相结合的半导体晶片加工装置
165 一种半导体晶片光电化学机械抛光加工方法
166 一种半导体晶片光电化学机械抛光加工装置
167 一种光化学与机械抛光相结合的半导体晶片加工方法
168 氧化物光学元件化学机械抛光后残留物清洗剂及其配方技术
169 一种用于硒化镉晶体的化学机械抛光方法
170 一种电致化学抛光装置及其工作方法
171 一种3D打印高温合金管路内表面化学抛光装置及方法
172 一种高温合金化学抛光剂及其配方技术
173 一种不锈钢化学抛光液及配方技术
174 一种用于铝及铝合金高光泽度抛光的环保型化学抛光液
175 得自含胺引发的多元醇的固化剂的高去除速率化学机械抛光垫
176 对晶片进行化学机械抛光的装置
177 一种电化学机械复合抛光不锈钢衬底的设备及工艺
178 化学机械抛光组合物
179 一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及其应用
180 一种激光陀螺腔体内腔的化学抛光方法
181 一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法
182 具有刮擦固定装置的化学机械抛光设备
183 化学机械抛光系统及方法、晶圆的后处理单元
184 晶圆的处理装置及处理方法、化学机械抛光系统
185 一种化学机械抛光用液
186 用臭氧进行化学机械抛光（CMP）处理的方法
187 一种金属铀的电化学抛光方法
188 一种多层纳米纤维化学机械抛光垫
189 一种卷到卷高效连续化学机械抛光机
190 一种铜业生产用化学抛光浸泡机
191 用于混合接合的化学机械抛光
192 用于钨化学机械抛光的组合物
193 一种使用钌阻挡层的金属互连线路的化学机械抛光方法
194 抛光垫修整器及化学机械平坦化的方法
195 一种化学机械抛光垫及其平坦化基材的方法
196 一种电解铜箔用钛*极辊化学抛光液及抛光方法
197 抛光头和化学机械抛光设备
198 一种铝材无烟化学抛光剂的研制方法
199 用于钴的化学机械抛光方法
200 用于钴的化学机械抛光方法
201 一种利用高分子聚合物对金属锂片化学抛光的方法
202 一种*极辊化学抛光液及抛光方法
203 一种蓝宝石化学机械抛光液及其配方技术
204 铝合金化学抛光剂及铝合金表面抛光方法
205 化学机械抛光方法和制造半导体器件的方法
206 用于TiN-SiN化学机械抛光应用的高选择性的氮化物抑制剂
207 超导带材电化学抛光系统
208 一种铝型材化学抛光槽废酸循环使用的处理方法
209 一种琉璃化学抛光液
210 一种自动控制电流、电压及时间的化学抛光设备及其方法
211 可更换抛光液的光化学机械加工平台及抛光液更换方法
212 钨的化学机械抛光方法
213 一种化学机械抛光机
214 一种用于化学机械抛光承载头的外部夹环
215 一种大尺寸金刚石单晶片表面化学机械抛光装置
216 不锈钢管内表面电化学抛光加工系统及其使用方法
217 不锈钢衬底的电化学抛光方法和太阳能薄膜电池
218 一种钇铝石榴石晶体的高效化学机械抛光方法
219 一种铝合金碱性化学抛光液、配方技术及抛光方法
220 一种铜片化学机械抛光液
221 电化学抛光铝的工艺
222 化学机械抛光浆料组合物及使用其制作半导体器件的方法
223 一种铝制品化学抛光液及其配方技术
224 晶片定位环的研磨方法、晶片定位环及其应用和化学机械抛光装置
225 钛及钛合金的电化学抛光电解液及其使用方法
226 一种用于双面电化学机械抛光平面构件的设备及方法
227 适用于蓝宝石抛光的化学机械抛光液
228 适用于不锈钢抛光的化学机械抛光液及其用途
229 一种环保型不锈钢化学抛光液及其制备和抛光方法
230 用于钴应用的化学机械抛光浆料
231 化学机械抛光垫
232 用于陶瓷材料的化学机械抛光的氧化流体
233 去除速率和平坦化改善的化学机械抛光垫
234 基于光刻和化学机械抛光的薄膜微光学结构的配方技术
235 一种化学抛光液及采用该化学抛光液的抛光工艺
236 化学机械研磨的抛光垫图像检测系统及方法
237 制造具有改进均匀性的化学机械抛光层的方法
238 化学机械抛光装置
239 一种激光增材制造异形钛合金的电化学抛光液及抛光方法
240 一种激光增材制造异形钛合金的化学抛光液及抛光方法
241 一种新能源汽车钢管内表面电化学抛光装置
242 一种新能源汽车钢管内表面电化学定位抛光装置
243 氮化铝单晶片电解抛光及化学机械抛光相结合的抛光方法
244 一种定点释放化学作用的力流变抛光方法
245 一种化学机械抛光设备
246 用于化学机械抛光的浆料组合物
247 一种化学机械抛光垫的制造方法及其产品和模具
248 用于化学机械平面化抛光垫的胶凝减缩工具
249 化学机械抛光垫
250 用于化学机械抛光的无粘合剂载具
251 一种金属铜表面化学抛光处理系统
252 一种镁合金管材内表面电化学抛光结构
253 一种研磨抛光用化学品设备
254 一种研磨抛光用化学品装置
255 一种化学抛光液及化学抛光工艺
256 一种高效超精密剪切增稠-化学协同抛光装置
257 一种电化学抛光冷却循环装置及其应用
258 一种高效超精密剪切增稠-化学协同抛光方法
259 一种用于清洗经化学机械抛光的晶片的清洗组合物
260 一种化学机械抛光垫
261 用于改善的对比分辨度的化学机械抛光
262 钨的化学机械抛光方法
263 化学机械研磨抛光垫修整器及其制造方法
264 一种用于相变材料GeSbTe的化学机械抛光液
265 使用聚二醇和聚二醇衍生物的钨的化学机械抛光方法
266 针对钨的化学机械抛光方法
267 一种钢铁化学抛光液及其应用
268 一种用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光液及其配方技术和用途
269 一种化学机械抛光液
270 一种化学机械抛光液
271 一种化学机械抛光液
272 一种化学机械抛光液
273 一种化学机械抛光液
274 一种化学机械抛光液
275 一种化学机械抛光液
276 一种化学机械抛光液
277 一种基于电化学抛光的多层圆台剥层夹具
278 一种基于电化学抛光的多层台阶构造夹具
279 一种化学机械抛光垫的修整设备的结构及其制造方法
280 一种半导体晶圆用化学机械抛光设备
281 可提高抛光性能的化学机械抛光方法
282 化学机械抛光液
283 一种LED灯生产用晶片化学抛光设备
284 一种高光铝型材电化学抛光处理工艺
285 一种2系铝型材电化学抛光处理工艺
286 一种7系铝型材电化学抛光处理工艺
287 一种铝型材电化学抛光处理工艺
288 抛光垫修整方法及包含其的化学机械抛光方法
289 一种化学机械抛光研磨速率的实时侦测装置及其侦测方法
290 用于制造化学机械平面化（CMP）抛光垫的无气雾化方法
291 用于化学机械抛光垫的改进组合物以及由其制备的CMP垫
292 用于制备化学机械平面化（CMP）抛光垫的气溶胶方法
293 用来制造具有整体窗口的化学机械平面化（CMP）抛光垫的方法
294 一种磨粒浮动式自适应电化学机械抛光加工方法及装置
295 一种回转体活钝交替电化学机械高效抛光加工方法及装置
296 一种氧化铝基化学机械抛光液
297 一种Ni-Ti合金电化学抛光液及抛光方法
298 一种压铸铝合金化学抛光方法
299 一种铝合金制品化学镜面抛光槽液
300 一种化学抛光装置
301 超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统及方法
302 半导体晶片光电化学机械抛光装置
303 一种氮化镓晶片光电化学机械抛光液及抛光方法
304 一种半导体晶片光电化学机械抛光的方法
305 一种低污染环保型化学机械抛光液
306 具有改善的凹陷及图案选择性的对氧化物及氮化物有选择性的化学机械抛光组合物
307 用于化学机械抛光的实时轮廓控制
308 化学机械抛光设备及其操作方法
309 一种铝制品化学抛光工艺
310 一种用于镍钛合金电化学抛光的抛光液及用途
311 铝合金碱性化学铣切加工及抛光方法
312 一种化学机械抛光工艺中氧化物晶圆的后清洗方法
313 使化学机械抛光垫的表面成形的方法
314 一种环保节能型化学抛光液及其抛光方法
315 用于使化学机械抛光垫表面成形的装置
316 具有一致的垫表面微纹理的化学机械抛光垫
317 一种化学机械抛光中光谱终点的检测方法、装置及系统
318 一种失效电化学抛光液的活化方法
319 化学机械抛光系统
320 一种镁合金化学抛光工艺
321 化学机械抛光智能环
322 一种基于纳米镍粉的金刚石晶体表面机械化学抛光方法
323 高平坦化效率化学机械抛光垫和配方技术
324 一种钛及钛合金的电化学抛光液及抛光方法
325 包括接触翼片的化学机械抛光装置用承载头
326 化学机械抛光垫的抛光层
327 一种电化学抛光方法与电化学抛光装置
328 用于化学机械抛光的抛光垫厚度的监测
329 化学机械抛光方法、制造半导体器件的方法和半导体制造装置
330 一种金属及其合金电化学抛光的装置及方法
331 用于化学机械抛光工艺的在线终点检测控制系统及方法
332 用于化学机械抛光工艺终点检测的离线调试系统及方法
333 具有自适应性的抛光头和具有其的化学机械抛光装置
334 微晶玻璃化学机械抛光方法及微晶玻璃
335 一种钢表面环保型化学抛光液
336 高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺
337 用于化学机械抛光的保持环
338 用于制造化学机械抛光垫的自动锁扣装置和方法
339 混凝土化学物理混合抛光的方法
340 一种化学机械抛光液
341 一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液
342 一种铝制品化学抛光液及其配方技术
343 一种化学机械抛光液
344 一种化学机械抛光液
345 一种化学机械抛光液
346 一种化学机械抛光液
347 一种化学机械抛光液
348 一种化学机械抛光液
349 用于钴化学机械抛光的替代性氧化剂
350 一种化学机械抛光液
351 一种化学机械抛光液
352 一种化学机械抛光液
353 一种化学机械抛光液
354 一种微晶玻璃高光亮度化学抛光液及配方技术
355 用于MEMS器件的化学机械抛光工艺
356 一种硬质合金刀片化学机械抛光表面粗糙度的预测方法
357 一种研磨-化学机械抛光氮化镓晶圆片的方法
358 用于化学机械抛光的浆料分布设备
359 一种精密加工用化学机械抛光液
360 一种化学抛光剂
361 含钴衬底的化学机械抛光(CMP)
362 高移除率化学机械抛光垫和制造方法
363 一种铜的环保化学机械抛光方法
364 一种用于硬质合金刀片的化学机械抛光机器人末端装置
365 用于化学机械抛光后清洁的组合物
366 废化学抛光剂中含磷化合物的回收方法
367 化学抛光废磷酸处理方法及肥料的配方技术
368 化学抛光废磷酸处理方法和磷酸一铵的配方技术
369 化学机械抛光头、化学机械抛光系统和方法
370 化学机械抛光浆料、化学机械抛光的方法及半导体结构的制造方法
371 用于化学机械抛光的浆料组合物
372 一种不锈钢化学抛光液
373 一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其配方技术
374 一种A向蓝宝石化学机械抛光用抛光液及其配方技术
375 一种磁流变抛光液电化学保质装置及方法
376 一种不含硝酸的无黄烟铝合金化学抛光液及其配方技术
377 化学机械抛光终点检测装置
378 一种化学抛光清洗剂及其配方技术
379 一种用于半导体、光学材料和磁性材料表面平坦化的化学机械抛光垫
380 一种化学机械抛光液
381 一种化学研磨抛光液及研磨抛光方法
382 用于化学机械抛光的纹理化的小垫
383 一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法
384 一种化学机械抛光设备
385 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途
386 一种电化学抛光方法及石墨烯薄膜配方技术
387 一种钛及钛合金的电化学抛光电解液及其抛光方法
388 一种304不锈钢化学机械抛光用抛光剂和抛光液及其配方技术
389 用于化学抛光的系统、装置和方法
390 一种适用于砷化镓晶片的化学机械抛光组合物
391 一种添加金属钙离子二酸化学抛光液
392 多孔化学机械抛光垫
393 包含烷基胺及环糊精的化学机械抛光加工组合物
394 一种金属化学机械抛光的方法
395 一种化学机械抛光方法
396 一种氧化铈晶体的配方技术及其在化学机械抛光液中的应用
397 一种化学机械抛光液
398 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
399 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
400 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
401 一种化学机械抛光液及其应用
402 一种化学机械抛光液及其应用
403 一种采用化学机械抛光技术制造LDMOS器件的方法
404 一种化学机械抛光液及其应用
405 一种化学机械抛光液
406 减小三维堆叠中牺牲层在化学机械抛光中凹陷变形的方法
407 用于化学机械抛光后清洁的组合物
408 用于化学机械抛光后清洁的组合物
409 激光辅助氮化镓晶体化学机械抛光方法
410 铝合金化学抛光添加剂
411 7系列铝合金化学抛光添加剂
412 用于化学机械抛光的小型垫的载体
413 化学机械抛光机及用于其的抛光组件
414 一种化学机械抛光液及其配方技术
415 一种具有高氮化硅选择性的化学机械抛光液
416 化学机械抛光设备和化学机械抛光方法
417 一种氮化硅化学机械抛光液
418 一种氮化硅化学机械抛光液
419 一种碲镉汞薄膜材料的化学抛光方法
420 磷化铟晶圆片减薄抛光方法及化学腐蚀装置
421 一种晶圆化学机械抛光保持环的清洗装置及清洗方法
422 化学机械抛光系统和用于抛光晶圆的方法
423 一种气囊式电化学机械抛光头、抛光装置及抛光方法
424 化学机械抛光方法
425 一种砷化镓衬底的化学抛光方法
426 用于化学机械抛光的浆料组合物、其制法、抛光方法、制造半导体器件的方法和抛光设备
427 一种铝合金化学抛光液及其配方技术和抛光工艺
428 具有高模量比的聚氨酯化学机械抛光垫
429 用于化学机械抛光承载头的外部夹环
430 降低化学机械抛光工艺热点检测漏报率的方法
431 化学机械抛光方法和装置
432 金属锂表面的电化学抛光方法
433 一种金属锂表面及电化学抛光方法
434 一种适用于塔材抛光的化学抛光剂及使用方法
435 镁合金表面电化学抛光液及其处理方法
436 化学机械抛光装置及其方法
437 一种氧化铝基化学机械抛光液
438 不锈钢零件内孔电化学抛光工装
439 一种不锈钢弹簧用化学抛光剂及其配方技术
440 一种不锈钢丝化学抛光机
441 一种绿色无毒化学机械抛光液的配方技术
442 化学机械抛光(CMP)组合物用于抛光含钴基材的用途
443 一种化学机械抛光液
444 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
445 一种用于SiC单晶片的磁流变化学机械抛光液及其使用方法
446 一种蓝宝石灯丝晶片的化学抛光方法
447 用于金属抛光的化学抛光液及其配方技术
448 化学机械研磨抛光垫修整器
449 一种不锈铁常温化学抛光液及其配方技术和使用方法
450 一种阳极氧化化学抛光工艺中产生的含磷废水的除磷方法
451 一种环保型化学抛光液
452 钛合金研磨及化学机械抛光方法
453 一种紫铜管工件的化学抛光表面处理方法
454 一种金相样品化学抛光溶液及其使用方法
455 制备用于化学机械抛光垫的复合抛光层的方法
456 化学机械抛光垫复合抛光层配制品
457 制备用于化学机械抛光垫的抛光层的方法
458 化学机械抛光垫及其配方技术
459 镍基合金固结磨料研磨及化学机械抛光方法
460 一种化学机械抛光垫、缓冲层及其配方技术
461 一种抛光层及其配方技术以及化学机械抛光垫
462 一种抛光层及其配方技术以及低损伤化学机械抛光垫
463 化学机械抛光垫的检测窗及其配方技术
464 检测硝酸、磷酸化学抛光液中硝酸浓度的方法
465 检测硫酸、磷酸化学抛光液中硫酸、磷酸浓度的方法
466 一种化学机械抛光的平坦化方法
467 一种用于精密合金3J1化学抛光的槽液配方
468 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途
469 电化学抛光铝或不锈钢制品的工艺
470 化学机械抛光仿真的方法和装置
471 用于化学机械抛光圆片级超薄硅片的临时黏合方法
472 一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
473 用于哈氏合金基带的电化学抛光液、配方技术及抛光方法
474 化学机械抛光多区压力在线控制算法
475 具有窗口的化学机械抛光垫
476 一种铝制品化学抛光废液的回收方法
477 一种半导体硅片化学机械抛光清洗液
478 一种化学机械抛光液及其配方技术
479 钨化学机械抛光中的凹陷减少
480 化学机械抛光装置及其方法
481 化学机械抛光工艺后光刻对准标记的制作方法
482 多层纳米纤维化学机械抛光垫
483 一种蓝宝石化学机械抛光液
484 用于移除硅氮化物的化学机械抛光组合物
485 低凹陷的铜化学机械抛光
486 化学机械抛光装置
487 一种锌合金器件电化学抛光液及其抛光方法
488 多工位化学机械抛光系统中晶圆传送的控制方法
489 用于在化学机械抛光后清洁半导体晶片的清洁组合物及方法
490 一种连续电化学抛光镍钛丝
491 一种制造化学机械抛光垫修整盘的方法
492 化学机械抛光机
493 化学机械抛光后调配物及其使用方法
494 一种化学机械抛光液及其在抛光ULK-铜互连制程中阻挡层的应用
495 一种化学机械抛光液及其应用
496 金属化学机械抛光浆料
497 一种碱性的阻挡层化学机械抛光液
498 一种用于STI领域的化学机械抛光液及其应用
499 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
500 一种酸性化学机械抛光液
501 一种酸性化学机械抛光液
502 一种酸性化学机械抛光液
503 化学机械抛光装置及方法
504 化学机械抛光装置
505 一种氧化铈配方技术及其在STI化学机械抛光中的应用
506 一种碱性化学机械抛光液
507 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途
508 制造化学机械抛光垫的方法
509 化学机械抛光垫、抛光层分析器和方法
510 一种电化学抛光装置及使用该装置的电化学抛光方法
511 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途
512 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途
513 电化学抛光机床
514 一种低污染环保型化学机械抛光液
515 一种化学抛光剂及电站锅炉受热面管金相的现场检测方法
516 用于高效率抛光含锗基材的化学机械抛光(CMP)组合物
517 一种钛合金的化学抛光溶液
518 化学机械抛光后清洁及设备
519 一种支架的电化学抛光装置和抛光方法
520 用于化学机械抛光工具的部件
521 在浅沟槽隔离晶片的抛光中展现出减小的凹陷的化学机械抛光组合物
522 用于局部轮廓控制的化学机械抛光(CMP)平台
523 用于化学机械抛光的经涂覆的压缩性副垫
524 一种镁合金化学抛光工艺
525 产生微静电场的抛光组件及化学抛光设备
526 一种铜及铜合金高光亮化学抛光液
527 在恒压模式下电化学抛光的方法
528 运用于化学机械抛光工艺中的保持环的轮廓及表面制备的方法和设备
529 一种不锈钢化学抛光液
530 运用于化学机械抛光工艺中的保持环的轮廓及表面制备的方法和设备
531 一种无应力电化学抛光铜时去除二氧化硅的方法
532 一种不锈钢化学抛光液
533 一种钴铬合金血管支架的电化学抛光液、其配方技术及抛光方法
534 一种铝化学抛光液及使用该抛光液的抛光方法
535 防冲孔铝化学抛光添加剂及其应用
536 一种基于化学镀抛光复合工艺的高光洁金属表面配方技术
537 抛光制品以及用于制造化学机械抛光制品的集成式系统与方法
538 一种马口铁化学抛光工艺
539 一种铝或铝合金电化学抛光方法
540 晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置及方法
541 一种Roll‑to‑Roll化学机械抛光机用固结磨料抛光辊的刚性层及其配方技术
542 一种Roll-to-Roll化学机械抛光机用固结磨料抛光辊及其配方技术
543 一种Roll-to-Roll化学机械抛光机用固结磨料抛光辊的弹性层及其配方技术
544 化学机械抛光研磨剂及其制造方法、以及基板的研磨方法
545 一种环保不锈钢化学抛光剂
546 一种蓝宝石衬底片浸没式化学机械抛光方法
547 一种化学抛光液配方及其配制工序
548 耐候性化学机械抛光垫
549 镁制血管支架的电化学抛光方法
550 含钴衬底的化学机械抛光(CMP)
551 用于化学机械抛光含有钌和铜的衬底的方法
552 包含有机/无机复合粒子的化学机械抛光组合物
553 化学机械抛光设备和方法
554 一种层间介电层的化学机械抛光方法及其器件和电子装置
555 化学机械抛光(CMP)组合物
556 一种Roll‑to‑Roll化学机械抛光机用固结磨料抛光辊光固化机
557 电化学机械抛光装置
558 胶态氧化硅化学‑机械抛光浓缩物
559 铜阻挡物的化学机械抛光组合物
560 化学-机械抛光组合物的制造方法
561 化学机械抛光浆液
562 钨化学机械抛光组合物
563 胶态氧化硅化学-机械抛光组合物
564 胶态氧化硅化学-机械抛光组合物
565 用于机械抛光含有清洗增亮化学成份研磨介质及配方技术
566 用于铝抛光的化学机械抛光浆料组合物和方法
567 锗的化学机械抛光
568 具有调整耐受性的化学机械抛光层调配物
569 化学机械抛光组合物和用于抛光钨的方法
570 化学机械抛光方法
571 化学机械抛光过程中抛光界面的温度检测装置及温度信号的利用
572 一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机
573 一种化学机械抛光过程中粘结抛光垫的方法
574 提高铝合金焊接接头疲劳强度的电化学抛光系统
575 具有集成传感器的化学机械抛光保持环
576 具有集成传感器的化学机械抛光保持环
577 无应力电化学抛光方法
578 用于化学机械抛光的多层抛光垫
579 用于钴阻挡层结构化学机械抛光的抛光液及其应用
580 化学机械抛光垫
581 具有端点检测窗的化学机械抛光垫
582 具有清晰端点检测窗的化学机械抛光垫
583 一种铝及铝合金化学抛光废液零排放及回收工艺
584 一种相变材料化学机械抛光方法及设备
585 一种SiC材料化学机械抛光方法
586 一种7075铝合金碱性化学抛光方法及其采用的碱性化学抛光液
587 碱性化学抛光方法及其采用的碱性化学抛光液
588 具有窗口的软性且可修整的化学机械抛光垫
589 具有终点检测窗口的化学机械抛光垫
590 一种1060铝合金碱性化学抛光方法及其采用的碱性化学抛光液
591 具有抛光层和窗口的化学机械抛光垫
592 一种高硅铝合金化学抛光剂及使用方法
593 混合研磨剂型的钨化学机械抛光组合物
594 混合研磨剂型的钨化学机械抛光组合物
595 用于钨化学机械抛光的组合物
596 用于钨化学机械抛光的组合物
597 用于钨化学机械抛光的组合物
598 一种细长管道内表面的电化学抛光装置
599 用于钨材料的化学机械抛光的组合物及方法
600 制备化学机械抛光层的改进方法
601 制备化学机械抛光层的方法
602 用于抑制氮化钛及钛/氮化钛移除的化学机械抛光方法
603 包含聚氨基酸的化学机械抛光(CMP)组合物
604 一种用于碲锌镉材料化学抛光的腐蚀液
605 一种锑化铟晶片化学抛光方法
606 一种环保型酸性化学抛光液及化学抛光方法
607 一种含有石墨烯的化学机械抛光液
608 一种含复合磨料的化学机械抛光液
609 一种化学机械抛光液
610 一种化学机械抛光液
611 一种不锈钢化学抛光液及其配方技术
612 一种不锈钢常温化学抛光液及抛光工艺
613 一种氮唑类化合物在提高化学机械抛光液稳定性中的应用
614 一种化学机械抛光液及其应用
615 一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
616 一种化学机械抛光液及其应用
617 一种化学机械抛光液
618 一种化学机械抛光液及其应用
619 一种化学机械抛光液及其应用
620 一种用于钛的化学机械抛光液
621 一种氧化铝基化学机械抛光液
622 一种化学机械抛光液
623 一种用于蓝宝石化学机械平坦化的抛光液
624 一种硅化学机械抛光液
625 用于化学机械抛光和清洗的系统和方法
626 用于化学机械抛光和清洗的系统和方法
627 一种利用合成树脂锡盘的碳化硅单晶片化学机械抛光方法
628 锗晶体化学机械抛光的抛光液及使用方法
629 一种高效电化学电极抛光机及其使用方法
630 一种无烟镜面化学抛光液
631 抛光头，化学机械抛光系统和抛光衬底的方法
632 一种电动自行车曲柄化学抛光装置
633 一种风扇叶片化学抛光装置
634 一种铜或铜合金化学抛光液及其配方技术
635 用于选择性移除硅氮化物的化学机械抛光组合物及方法
636 一种铸造不锈钢件电化学抛光的方法
637 一种用于钴基合金的电化学抛光液
638 一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
639 一种适用于钴阻挡层的碱性化学机械抛光液
640 一种适用于蓝宝石A面的化学机械抛光组合物
641 一种不锈钢化学抛光液
642 一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
643 具有受控孔隙率的打印化学机械抛光垫
644 具有受控孔隙率的打印化学机械抛光垫
645 一种铝和铝合金化学抛光液
646 一种无黄烟铝合金化学抛光液
647 一种化学机械抛光后芯片表面形貌评测方法及系统
648 一种铝合金焊丝的电化学抛光液及电化学抛光方法
649 一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其配方技术和用途
650 用于铝合金磨砂外饰件的化学抛光液及其应用
651 一种复合磨料及配方技术和在化学机械抛光中的用途
652 一种化学机械抛光组合物
653 用于化学机械平坦化后的基板抛光预清洁的系统、方法和装置
654 用于化学机械抛光硅晶片的方法
655 一种化学抛光剂及其应用
656 具有磨料在其中的打印的化学机械抛光垫
657 具有磨料在其中的打印的化学机械抛光垫
658 固结磨料化学机械抛光铜的加工方法
659 一种固结磨料化学机械抛光钽的加工方法
660 化学机械抛光方法、其抛光时间制程的设置方法及晶圆
661 具有偏置的同心凹槽图案的边缘排除区域的化学机械抛光抛光垫
662 装配有枢纽臂的化学机械抛光机
663 从电化学抛光液中析出金属离子的装置
664 一种电化学抛光金属互连晶圆结构的方法
665 用于抛光硅晶片的化学机械抛光组合物及相关方法
666 一种化学机械抛光液及其配方技术
667 化学机械抛光方法
668 一种不锈钢化学抛光液及其配方技术
669 一种不锈钢化学抛光液
670 低缺陷化学机械抛光组合物
671 一种氮化硅陶瓷化学机械抛光的方法
672 对基材进行化学机械抛光的方法
673 化学机械抛光垫
674 磷化铟切割片化学抛光液及磷化铟切割片的位错测定方法
675 用于抛光蓝宝石表面的化学机械抛光组合物及其使用方法
676 一种碱性无污染铝合金电化学抛光液
677 一种酸性无铬铝合金电化学抛光液及其抛光工艺
678 脉冲电化学抛光工艺中优化工艺配方的方法
679 电化学抛光设备
680 一种化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用
681 一种化学机械抛光液
682 一种化学机械抛光液
683 一种内燃机凸轮轴的凸轮表面带反向脉冲的电化学复合抛光轮研磨光整加工方法
684 用于氧化硅、氮化硅、和多晶硅材料的化学机械抛光的组合物和方法
685 用于氧化硅、氮化硅、和多晶硅材料的化学机械抛光的组合物和方法
686 化学机械抛光方法及芯片版图等效特征参数提取方法
687 一种锗的化学机械抛光方法
688 化学机械抛光垫
689 一种纯铝以及铝合金铸件的化学抛光液及其配方技术
690 一种具有防锈作用的化学机械抛光液及其配方技术
691 一种添加石墨的混合型化学抛光液及其配方技术
692 一种用于铝件的化学抛光液及其配方技术
693 包含苯并三唑衍生物作为缓蚀剂的化学机械抛光组合物
694 一种化学抛光组合物
695 一种高性能存储器化学抛光物
696 化学机械抛光浆料组合物和将其用于铜和硅通孔应用的方法
697 一种存储器用化学抛光组合物
698 一种存储器化学抛光润滑物
699 一种半导体晶片化学抛光抗腐蚀剂
700 一种无磷酸含硅铝合金电化学抛光工艺
701 一种考虑抛光液影响的特征尺寸级化学机械抛光工艺仿真方法
702 一种基于化学机械抛光工艺的铟柱配方技术
703 一种用于化合物半导体的化学机械抛光剂
704 柔软且可修整的化学机械抛光垫层叠体
705 柔软且可修整的化学机械窗口抛光垫
706 具有柔软且可修整的抛光层的多层化学机械抛光垫层叠体
707 一种铌酸锂晶体高效超光滑化学机械抛光方法
708 具有高的移除速率和低的缺陷率的对于氧化物和氮化物有选择性的化学机械抛光组合物
709 电化学抛光终点检测装置及方法
710 电化学抛光供液装置
711 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光含有至少一种III-V族材料的基材或层中的用途
712 包含N,N,N＇,N＇‑四(2‑羟基丙基)乙二胺或甲磺酸的化学机械抛光组合物
713 一种铸造铝合金化学抛光液及抛光工艺方法
714 包含一种或多种选自N-乙烯基均聚物和N-乙烯基共聚物的聚合物的化学机械抛光组合物
715 包含聚乙烯亚胺的化学机械抛光组合物
716 电致化学抛光方法
717 一种铜及其合金的化学抛光方法
718 多盘化学机械抛光衬垫调节器与方法
719 一种用于不锈钢表面的电化学抛光液及其配方技术
720 用于多晶薄膜太阳能电池的保护性绝缘层和化学机械抛光
721 电化学抛光的金属阳极及其密封结构
722 化学机械抛光的抛光垫及其配方技术
723 一种电工硅钢EBSD样品化学抛光方法
724 在太阳能电池制造中用于改善低粘度印刷的湿化学抛光方法
725 具有低的固体物含量的化学机械抛光组合物及与其相关的方法
726 用于化学-机械抛光的方法和装置
727 具有广谱终点检测窗口的多层化学机械抛光垫
728 多层化学机械抛光垫
729 具有广谱终点检测窗口的化学机械抛光垫以及使用该抛光垫进行抛光的方法
730 对于利用用于化学机械抛光的晶片及晶片边缘/斜角清洁模块的盘/垫清洁的设计
731 一种利用萃余磷酸制备铝合金表面化学抛光液的方法
732 新型电化学抛光装置
733 用于化学机械抛光的浆液组合物
734 用于化学机械抛光的浆液组合物
735 电化学抛光溶液及电化学抛光石墨栅极的方法、石墨栅极
736 一种纯镍化学抛光浸蚀液及其使用方法
737 电化学抛光装置及方法
738 大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光工艺
739 一种不锈钢化学抛光剂及抛光方法
740 化学机械抛光方法
741 化学机械抛光方法
742 含氧化锆及金属氧化剂的化学机械抛光组合物
743 一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
744 一种硅通孔的化学机械抛光方法及系统
745 用于加热元件上的水垢防止的纳米结构化学机械抛光引起的活性纳米结构
746 化学机械抛光设备及方法
747 化学机械抛光设备及方法
748 一种化学机械抛光液
749 一种化学机械抛光液
750 一种化学机械抛光液及使用方法
751 一种应用于STI领域的化学机械抛光液及其使用方法
752 一种化学机械抛光液以及抛光方法
753 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
754 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
755 一种化学机械抛光液及其应用
756 一种化学机械抛光液以及抛光方法
757 一种用于铝的化学机械抛光液及使用方法
758 一种化学机械抛光液以及抛光方法
759 一种用于钴阻挡层抛光的化学机械抛光液
760 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
761 化学机械抛光的方法
762 一种化学机械抛光液及其使用方法
763 基于无线传输的化学机械抛光界面温度检测控制系统
764 一种碱性化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用
765 钛镍合金工件化学抛光工作液及生产方法
766 铝镁合金工件化学抛光工作液及生产方法
767 不锈钢工件化学抛光工作液及生产方法
768 铜及铜合金工件化学抛光工作液及生产方法
769 化学机械抛光控制系统的远程访问客户端
770 化学机械抛光的方法
771 一种减少单晶硅晶圆抛光片化学灼伤的有蜡抛光方法
772 一种用于钢铁基体化学镀铜的化学抛光液
773 化学机械抛光装置及方法
774 一种用于抛光二氧化硅基材的化学机械抛光液
775 一种用于抛光钽的化学机械抛光方法
776 一种化学机械抛光液及其应用
777 一种化学机械抛光液及其应用
778 化学机械抛光模拟方法及其去除率计算方法
779 一种钯及其合金的电化学抛光方法
780 柔软可修整的化学机械抛光垫
781 用于浅沟槽隔离（STI）应用的化学机械抛光（CMP）组合物及其配方技术
782 门窗铝型材的碱性化学抛光方法
783 一种对InP基RFIC晶圆进行电化学减薄抛光的方法
784 化学机械抛光组合物和方法
785 一种相变材料化学机械抛光方法
786 化学机械抛光刷子包装
787 制备有凹槽的化学机械抛光层的方法
788 一种用于晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整器
789 应用在晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整装置
790 化学机械抛光晶圆承载器
791 一种自停止的GST化学机械抛光液及其配方技术和应用
792 用于在化学机械抛光之后清洁半导体器件基板的清洁组合物和方法
793 涂层导体Ni-5at.％W合金基带的电化学抛光方法
794 一种二氧化硅介电材料用化学机械抛光液及其配方技术
795 一种化学机械设备抛光液
796 一种电脑硬盘用高效无腐蚀化学抛光组合物
797 一种环保介电层材料化学机械抛光液
798 一种介电层材料化学机械抛光液
799 一种硬盘用化学抛光组合物
800 一种用于化学机械抛光工艺的抛光垫修整方法
801 一种环保型铜制品用化学抛光液及其配方技术
802 化学机械抛光装置用扣环结构物及其制造方法
803 化学机械抛光装置用扣环结构物
804 不锈钢管内壁电化学抛光液及抛光方法和装置
805 一种用于抛光硅材料的化学机械抛光液
806 一种碱性阻挡层化学机械抛光液
807 一种用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
808 一种化学机械抛光液以及应用
809 含硅有机化合物在延长化学机械抛光液中研磨颗粒稳定性中的应用
810 一种化学机械抛光用液
811 一种化学机械抛光模拟方法
812 一种适用于塔材抛光的化学抛光剂及使用方法
813 用于化学机械抛光层纹理预处理的方法
814 一种用于不锈钢基板的化学抛光液
815 一种光学零件的化学抛光装置
816 锗‑锑‑碲化学机械抛光浆料
817 一种铝及铝合金化学抛光液
818 包含非离子性表面活性剂及含有至少一个酸基团的芳族化合物的化学机械抛光(CMP)组合物
819 一种化学抛光液及其配制方法、可伐件化学抛光的方法
820 液相外延衬底化学抛光系统
821 包含非离子表面活性剂和碳酸盐的化学机械抛光组合物
822 包含非离子表面活性剂和碳酸盐的化学机械抛光组合物
823 用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法
824 包括在包含特定非离子表面活性剂的化学机械抛光组合物存在下进行III-V族材料的化学机械抛光的制造半导体装置的方法
825 一种通过电化学抛光在纯铝表面形成纳米级多孔膜层的方法
826 通过电化学抛光在纯铝表面形成纳米级多孔膜层的方法
827 化学机械抛光设备
828 化学机械抛光设备
829 具有化学添加剂的化学机械抛光组合物及其使用方法
830 半导体区的生长中的化学机械抛光
831 用于不锈钢产品表面抛光的化学抛光剂和配制方法以及抛光方法
832 化学机械抛光水性组合物及其用途
833 用于抛光模组的预化学机械平坦化的方法与设备
834 用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法
835 一种化学机械抛光用纳米抛光液
836 用于化学机械抛光系统的载具头
837 化学机械抛光层的制造方法
838 具有窗口的化学机械抛光层的制造方法
839 电化学抛光装置和方法
840 确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法及检测系统
841 一种用于化学抛光机的过滤装置
842 一种对InP衬底进行化学机械抛光的方法
843 一种不锈钢电化学抛光溶液及使用方法
844 终点侦测方法及化学机械抛光系统的抛光方法
845 包含蛋白质的化学机械抛光(CMP)组合物
846 包含具体含硫化合物和糖醇或多元羧酸的化学机械抛光后的清洗组合物
847 镁合金电化学抛光液及其对镁合金处理的方法
848 用于玻璃化学抛光的有机玻璃密封操作箱
849 化学机械抛光传输机器人晶圆抓取自适应控制方法及装置
850 基于组织超细化和电化学抛光的提高钛材生物医用性能的方法
851 一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
852 一种化学机械抛光方法
853 一种GST中性化学机械抛光液
854 一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
855 一种计算机硬盘的化学机械抛光液
856 一种化学机械抛光方法
857 一种化学机械抛光液及其应用
858 一种化学机械抛光液及抛光方法
859 一种化学机械抛光液及抛光方法
860 一种用于化学机械抛光设备的清洗装置
861 一种化学机械抛光液
862 一种化学机械抛光液及其应用
863 一种金属化学机械抛光浆料及其应用
864 一种化学机械抛光液的应用
865 一种化学抛光方法
866 一种燃气轮机大型结构复杂的零件电化学抛光的方法
867 一种碱性化学机械抛光液
868 一种化学机械抛光液
869 一种化学机械抛光工艺
870 一种用于硅通孔平坦化的化学机械抛光液
871 一种化学机械抛光液
872 一种酸性化学机械抛光液
873 一种酸性化学机械抛光液
874 一种酸性化学机械抛光液
875 一种不锈钢化学抛光液
876 一种化学机械抛光液
877 一种碱性化学抛光液及碱性化学抛光方法
878 化学机械抛光装置
879 一种碱性化学机械抛光液
880 基于化学机械抛光和离子束抛光组合工艺的氟化钙单晶超精密加工方法
881 一种碱性化学机械抛光液
882 一种降低化学机械抛光后微粒缺陷的方法
883 丙烯酸酯聚氨酯化学机械抛光层
884 化学机械抛光后清洁装置及方法
885 一种化学机械抛光液
886 环境友好型钛合金化学机械抛光液
887 高温氧化不锈钢的化学抛光方法
888 化学-机械抛光金属的浆料及其用途
889 应用于自动化生产的铝合金化学抛光剂
890 一种氧化硅介电材料用化学机械抛光液
891 包含苷的化学机械抛光(CMP)组合物
892 化学机械抛光装置及化学机械抛光的方法
893 用于清洁后化学机械抛光的基板的组合物
894 一种电化学抛光/电镀装置及方法
895 制备化学机械抛光层的方法
896 用于化学机械抛光钨的方法
897 用来化学机械抛光铜的方法
898 多工位高压水电化学去毛刺抛光数控机床及其工作方法
899 一种制造半导体装置的方法，其包括在包含特定有机化合物的CMP组合物的存在下化学机械抛光元素锗及/或Si1-xGex材料
900 一种制造半导体装置的方法，其包括在具有3.0至5.5的pH值的CMP组合物的存在下化学机械抛光元素锗及/或Si1-xGex材料
901 一种化学抛光液
902 钛酸钡化学机械抛光水性组合物及其应用
903 化学机械抛光水性组合物及钛基片化学机械抛光工艺方法
904 一种铜及合金表面处理用的化学抛光剂及其配方技术
905 超低介电材料的化学机械抛光方法
906 Al衬底用化学机械抛光液
907 一种LED衬底片用的蓝宝石或碳化硅晶片的表面处理用的化学机械抛光液及其配方技术
908 一种用于硅通孔平坦化的化学机械抛光液
909 化学机械抛光工具及用于清洁化学机械抛光垫的方法
910 一种无黄烟铝合金化学抛光液及其配方技术
911 非氰化物为基础的电化学抛光
912 化学机械抛光设备
913 一种逐步电化学抛光装置
914 脉冲电化学抛光方法及装置
915 一种用于行波管螺旋线的电化学抛光方法
916 一种用于行波管螺旋线的化学抛光方法
917 一种化学抛光法制作异质结单晶硅薄膜太阳能电池
918 组合式修整器及其制造方法与化学机械抛光方法
919 锆合金的电化学抛光电解液及其电化学抛光方法
920 用来抛光相变合金的化学机械抛光组合物和方法
921 用来对锗-锑-碲合金进行抛光的化学机械抛光组合物和方法
922 软脆易潮解晶体化学机械抛光用无水无磨料抛光液
923 一种化学机械抛光液
924 一种电化学、机械复合抛光装置
925 无应力电化学抛光用喷嘴
926 化学机械抛光垫及化学机械抛光方法
927 一种电镀设备振动机构及在化学抛光槽中的应用
928 一种硅片化学机械抛光浆料配方
929 化学机械抛光垫修整器
930 稳定的、可浓缩的化学机械抛光组合物及其涉及的方法
931 稳定的、可浓缩并且无水溶性纤维素的化学机械抛光组合物
932 一种化学机械抛光传输机器人系统
933 化学机械抛光传输机器人的非线性模糊结合递归控制系统
934 化学机械抛光传输机器人的递归优化控制系统
935 高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物
936 钨化学机械抛光后清洗溶液及其使用方法
937 一种碱性化学机械抛光液
938 金属钝化的化学机械抛光组合物及方法
939 酸性化学机械抛光组合物
940 缓蚀剂、其配方技术及化学机械抛光组合物
941 化学机械抛光液、系统和方法
942 电场辅助化学机械抛光系统及其方法
943 一种化学机械抛光液
944 一种用于硅通孔阻挡层平坦化的化学机械抛光液
945 化学机械抛光预处理方法
946 一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液及其应用
947 一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液及其应用
948 一种金属化学机械抛光浆料及其应用
949 化学机械抛光浆料组合物及使用其制造半导体器件的方法
950 化学机械平坦化（CMP）抛光垫修整器及制造方法
951 一种抑制相变材料电化学腐蚀的抛光液
952 一种软磁不锈钢电化学抛光的溶液及方法
953 用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的基底的含水抛光组合物和方法
954 用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的基底的含水抛光组合物和方法
955 对不锈钢产品表面现场电化学抛光钝化用装置
956 化学机械抛光研磨液动压分布和研磨去除率的确定方法
957 用于化学机械抛光机的自适应逆控制系统
958 能减少残余浆料的化学机械抛光方法
959 一种化学抛光剂
960 电化学抛光金属物体的方法及其适用的电解质溶液
961 一种用于化学机械抛光液的复合磨料及其配方技术和应用
962 一种铝合金电化学抛光液及一种铝合金电化学抛光方法
963 化学机械抛光后损伤的超低介电常数薄膜的修复方法
964 作为化学－机械抛光停止层的介电保护层
965 一种适用于钛和钛合金电化学抛光电解液及其使用方法
966 一种用于硫系相变材料的化学机械抛光方法
967 一种用于氧化镍薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
968 一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法及抛光液
969 一种用于氧化钛薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
970 一种降低化学机械抛光后微粒缺陷的方法
971 一种降低铜的化学机械抛光形成表面蝶形凹陷的方法
972 半导体制造方法和化学机械抛光CMP系统
973 化学机械抛光后晶片清洗装置
974 化学机械抛光方法和化学机械抛光设备
975 含水抛光组合物及化学机械抛光具有图案化或未图案化低K电介质层的基材的方法
976 具有光稳性聚合物终点检测窗的化学机械抛光垫及相应的抛光方法
977 超低介电材料的化学机械抛光方法
978 用于化学机械抛光机的防溅装置和化学机械抛光机
979 化学机械抛光设备及方法
980 化学机械抛光方法
981 一种用于电化学抛光镁合金的离子液体抛光液及其配方技术
982 稳定的、可浓缩的化学机械抛光组合物和抛光基材的方法
983 一种铜化学机械抛光组合物
984 用于补偿化学机械抛光耗材中的可变性的设备及方法
985 化学机械抛光垫双面修整盘
986 化学机械抛光方法
987 化学机械抛光方法
988 化学机械抛光方法
989 化学机械抛光用于电子、机械和光学器件的衬底的含水抛光组合物和方法
990 用于化学机械抛光电子、机械和光学器件用基底材料的含水抛光组合物和方法
991 用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的衬底的含水抛光组合物和方法
992 一种无化学机械抛光的浅沟槽隔离工艺
993 一种化学机械抛光液
994 化学机械抛光浆料再循环系统及方法
995 化学机械抛光设备、化学机械抛光终点检测装置和方法
996 一种化学机械抛光液
997 电化学球面复合抛光装置
998 一种铝制品化学抛光液及其配方技术
999 一种化学机械抛光液
1000 一种两酸铝制品化学抛光液及其使用方法
1001 一种化学机械抛光方法
1002 化学机械抛光方法
1003 水基６Ｈ－ＳｉＣ单晶衬底化学机械抛光液及其配方技术
1004 一种化学机械抛光液
1005 化学机械抛光方法
1006 化学机械抛光方法
1007 化学机械抛光系统
1008 化学机械抛光的抛光液及输送系统
1009 化学机械抛光系统
1010 通过选择性改变检测不同层之间的界面以在化学机械抛光过程中进行的终点控制
1011 稳定的化学机械抛光组合物以及抛光基板的方法
1012 一种用于相变材料的化学机械抛光方法
1013 一种同时抛光相变材料和钨的化学机械抛光方法
1014 一种对化学机械抛光后硅片的清洗方法
1015 一种利于抛光后清洗的钨化学机械抛光液
1016 一种化学机械抛光液
1017 一种用于抛光铜的化学机械抛光浆料
1018 一种抛光钨的化学机械抛光液
1019 利用化学机械抛光设备进行化学机械抛光的方法
1020 化学机械抛光设备
1021 一种实现化学机械研磨过程中抛光液温度控制的系统
1022 用于化学机械抛光的气路正压系统及化学机械抛光设备
1023 化学机械抛光研磨液输送系统及化学机械抛光研磨设备
1024 一种消除金属表面突起物的化学机械抛光装置及方法
1025 一种用于氧化锌化学机械平坦化的酸性纳米抛光液及应用
1026 一种用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液及应用
1027 具有混合修整功能的化学机械抛光垫修整器及相关方法
1028 化学机械抛光机及其抛光垫部件
1029 化学机械抛光设备及化学机械抛光方法
1030 可降解镁合金血管内支架的电化学抛光方法
1031 化学机械抛光液
1032 化学机械抛光的方法
1033 ULSI多层铜布线铜的低下压力化学机械抛光的组合物
1034 使用适合提高氧化硅的去除的抛光组合物对基片进行化学机械抛光的方法
1035 抛光液厚度测量装置、测量方法和化学机械抛光设备
1036 抛光液物理参数测量装置、测量方法和化学机械抛光设备
1037 化学机械抛光后清洁刷
1038 用于铜互连层电化学机械抛光的电解液及其配方技术
1039 具有局部区域透明部的化学机械抛光垫
1040 一种高稳定性的硅晶片化学机械抛光组合物
1041 一种高去除低划伤的硅片化学机械抛光组合物及配方技术
1042 一种用于硬盘NiP的电化学机械抛光的抛光液
1043 一种集成电路铜互连结构中铜的电化学机械抛光液
1044 化学机械抛光淤浆组合物以及使用它们的抛光方法
1045 一种化学机械抛光液
1046 一种钨化学机械抛光后的清洗方法
1047 一种用于化学机械抛光设备的晶圆交换装置
1048 化学机械抛光头抛光压力控制方法及其装置
1049 化学机械抛光系统及其相关方法
1050 一种抛光硅和铜的化学机械平坦化浆料
1051 用于抛光半导体晶片的化学机械抛光液
1052 一种抛光钨的化学机械抛光液
1053 一种化学机械抛光液
1054 化学机械抛光设备及其预热方法
1055 一种含氮胺类化合物的化学机械抛光液
1056 一种化学机械抛光液
1057 一种化学机械抛光液
1058 一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
1059 一种用于抛光合金相变材料的化学机械抛光液
1060 一种含有机酸性物质的化学机械抛光液
1061 一种用于３Ｄ封装ＴＳＶ硅抛光的化学机械抛光液
1062 一种化学机械抛光浆料
1063 一种化学机械抛光液
1064 具有特殊缓冲体系的硅片化学机械抛光液
1065 化学机械抛光的方法、用于化学机械抛光的清洗装置
1066 一种化学机械抛光浆料
1067 一种化学机械抛光浆料
1068 使用化学机械抛光边缘斜切半导体晶片的方法和设备
1069 一种化学机械抛光液
1070 一种化学机械抛光液
1071 一种化学机械抛光清洗液
1072 一种化学机械抛光液
1073 从衬底去除本体材料层的方法以及适于该方法的化学机械抛光剂
1074 从衬底去除本体材料层的方法以及适于该方法的化学机械抛光剂
1075 一种化学机械抛光液及其应用
1076 一种化学机械抛光液
1077 铝的化学机械抛光方法
1078 核／壳型复合纳米磨料铜化学机械抛光液
1079 一种化学机械抛光液
1080 化学机械抛光组合物及其相关方法
1081 包含无机粒子与聚合物粒子的化学机械抛光(CMP)组合物
1082 一种化学机械抛光液
1083 化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法
1084 一种化学机械抛光液及其使用方法
1085 一种半导体晶片的化学机械抛光方法
1086 一种钨化学机械抛光方法
1087 采用化学机械抛光的半导体晶片再利用
1088 一种化学机械抛光液
1089 一种化学机械抛光液
1090 再循环从半导体处理工艺、特别是从化学机械抛光工艺中产生的含浆料的废水的再循环方法和装置
1091 无磨料的化学机械抛光组合物
1092 一种化学机械抛光自动化试生产方法和装置
1093 一种化学机械抛光液
1094 一种针对耦合电容影响的化学机械抛光工艺哑元金属填充方法
1095 一种化学机械抛光液
1096 化学机械抛光修整器
1097 一种金刚石表面化学机械复合研磨抛光方法与装置
1098 一种新型化学机械抛光装置
1099 化学机械抛光方法与系统
1100 一种化学机械抛光液
1101 一种化学机械抛光液
1102 硅片单面化学机械抛光方法和装置
1103 化学机械抛光心轴装置
1104 应用于化学机械抛光设备中的硅片定位装载装置
1105 一种化学机械抛光液
1106 一种化学机械抛光液
1107 化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备
1108 嵌入式化学机械抛光用的保持环
1109 用于完全非晶相变存储器孔隙单元的化学机械抛光停止层
1110 一种化学机械抛光液
1111 超大规模集成电路铜布线表面低压化学机械抛光方法
1112 铌酸锂晶体化学机械抛光后的应力控制方法
1113 超大规模集成电路硅衬底的化学机械抛光液配方技术
1114 钨钼合金化学机械抛光后表面清洗方法
1115 一种化学机械抛光液
1116 钽化学机械抛光液的配方技术
1117 二氧化硅介质化学机械抛光液的配方技术
1118 高浓度Ti阻挡层表面化学机械抛光液的配方技术
1119 镁铝合金化学机械抛光后表面清洗方法
1120 钽化学机械抛光工序中的表面清洗方法
1121 超大规模集成电路多层铜布线化学机械抛光后的洁净方法
1122 锑化铟晶片碱性化学机械抛光后的表面洁净方法
1123 ULSI铜表面高精密加工过程中化学机械抛光液的配方技术
1124 锑化铟材料表面化学机械抛光液的配方技术
1125 镁铝合金材料表面化学机械抛光液的配方技术
1126 钨钼合金材料化学机械抛光液的配方技术
1127 Ｔｉ阻挡层材料化学机械抛光后的表面洁净方法
1128 硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液
1129 沟槽式化学机械抛光抛光垫
1130 具有低缺陷整体窗的化学机械抛光垫
1131 纳米精度的电化学整平和抛光加工方法及其装置
1132 便携式手持电化学抛光、刻蚀与去毛刺复合装置
1133 一种用于化学机械平坦化的抛光垫及其制造方法
1134 化学机械抛光组合物以及用于抑制多晶硅移除速率的方法
1135 化学机械抛光组合物以及用于抑制多晶硅移除速率的方法
1136 一种大尺寸硅片用化学机械抛光液及其配方技术
1137 化学机械抛光液和抛光方法
1138 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用
1139 可控氧化硅去除速率的化学机械抛光液
1140 电化学抛光中的支架抛光装置及抛光方法
1141 以水XX辅助执行化学机械抛光处理程序的方法及其系统
1142 使用多个调节盘调节化学机械抛光设备的系统和方法
1143 用来对基板进行化学机械抛光的方法
1144 半导体晶片精密化学机械抛光剂
1145 化学机械抛光用浆料
1146 制造气体夹杂物缺陷减少的化学机械抛光垫抛光层的方法
1147 用于减少微划痕和提高合格率的在氧化物化学机械抛光（ＣＭＰ）之前的洗涤器清洁
1148 一种基于氧化和化学机械抛光工艺制备超细线条的方法
1149 用于动态调整化学机械抛光的时间界限的方法
1150 用于化学机械抛光设备及方法的抛光液分配器
1151 一种钛及钛合金电化学抛光的电解液及其表面抛光方法
1152 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法
1153 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
1154 一种化学机械抛光液
1155 一种化学机械抛光液
1156 一种化学机械抛光液
1157 电化学电极抛光装置
1158 一种化学机械抛光液
1159 一种化学机械抛光装置
1160 一种化学机械抛光液
1161 一种用于多晶硅抛光的化学机械抛光液
1162 一种化学机械抛光液
1163 一种减小微悬浮结构在化学机械减薄抛光中变形工艺方法
1164 应用于硅片化学机械抛光设备中的定位转换装置
1165 一种化学机械抛光液
1166 一种化学机械抛光方法
1167 一种化学机械抛光液
1168 一种化学机械抛光液
1169 一种化学机械抛光液
1170 一种化学机械抛光液
1171 一种化学机械抛光液
1172 一种化学机械抛光液
1173 化学机械抛光设备硅片定位装片装置
1174 化学机械抛光设备硅片清洗装置
1175 一种化学机械抛光液
1176 一种用于钽阻挡抛光的化学机械抛光液
1177 一种化学机械抛光浆料及其应用
1178 化学机械抛光组合物及其相关方法
1179 化学机械抛光心轴传动装置
1180 化学机械抛光的方法
1181 一种化学机械抛光液
1182 在直接化学机械抛光工艺的产品中共用ＳＬ掩模板的方法
1183 提高硅化学机械抛光效率的方法
1184 一种化学机械抛光液及其应用
1185 一种金属化学机械抛光浆料
1186 延长化学机械抛光垫修整器的使用寿命的方法
1187 铜互连工艺中化学机械抛光的返工方法
1188 一种超声辅助化学机械抛光蓝宝石衬底材料的装置及方法
1189 一种化学机械抛光液
1190 一种化学机械抛光液
1191 一种用于钨化学机械抛光的抛光液
1192 化学机械抛光组合物及其相关方法
1193 钛及钛合金的化学抛光溶液
1194 用于化学机械抛光工艺中对抛光参数进行动态调整的方法
1195 一种铝及铝合金的电化学抛光液
1196 一种化学机械抛光液
1197 新型铝和铝合金的化学抛光液
1198 用于动态调整化学机械抛光速率的方法
1199 具有密封窗口的化学机械抛光垫
1200 具有密封窗口的化学机械抛光垫
1201 具有整体识别特征的化学机械抛光垫
1202 铜金属层化学机械抛光后的表面处理方法
1203 一种化学机械抛光液
1204 高去除率、低损伤的铜化学机械抛光液及配方技术
1205 用于单晶硅片化学机械抛光的抛光液
1206 降低铜化学机械抛光粗糙度的抛光液
1207 用于化学机械抛光的磨料组合物及其使用方法
1208 用于将晶片移出化学机械抛光设备研磨头的方法
1209 一种涂层导体用镍钨合金基带的电化学抛光方法
1210 化学机械抛光设备的研磨头装置
1211 一种化学机械抛光液
1212 化学机械抛光的研磨液供给系统
1213 化学机械抛光系统
1214 利用半导体器件的金属化系统中的覆盖层作为化学机械抛光和蚀刻停止层
1215 化学－机械抛光组合物及其制造和使用的方法
1216 铜化学机械抛光的过程控制方法和系统
1217 具有可移动的浆液分配器的化学机械抛光机及方法
1218 铜互连工艺中的化学机械抛光方法
1219 一种用于化学机械研磨的抛光液
1220 黄铜化学抛光液及其配制方法
1221 化学机械抛光垫
1222 一种化学机械抛光液
1223 化学机械抛光组合物及其相关方法
1224 一种化学机械抛光工艺哑元填充的启发式方法
1225 含有多晶硅抛光平整剂的化学机械抛光组合物
1226 一种化学机械抛光工艺哑元填充方法
1227 一种铝酸锂晶片的化学机械抛光方法
1228 多层化学机械抛光垫的制造方法
1229 化学机械抛光垫制造组合件
1230 检测晶圆表面平整度的方法及化学机械抛光的方法
1231 具有化学机械抛光伪图案的半导体器件及其制造方法
1232 化学机械抛光用纳米氧化铈浆液及其配方技术
1233 一种化学机械抛光液
1234 一种化学机械抛光液
1235 一种烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液及处理方法
1236 化学机械抛光方法
1237 不锈钢表面抛光的化学机械抛光组合物
1238 SiSb基相变材料用化学机械抛光液
1239 一种化学机械抛光液及其配方技术
1240 一种化学机械抛光液
1241 碳化硅单晶表面多级化学机械抛光方法
1242 借助多区域研磨液输送的化学机械抛光
1243 化学机械抛光设备及其研磨液输送方法
1244 检测浅槽隔离直接化学机械抛光氮化硅残留的方法及结构
1245 一种化学机械抛光清洗液
1246 一种金属化学机械抛光的浆料及其使用方法
1247 一种化学机械抛光液
1248 一种建立铜互连化学机械抛光工艺模型的方法
1249 在使用多个光谱的化学机械抛光中的终点检测
1250 在使用多个光谱的化学机械抛光中的终点检测
1251 高产量化学机械抛光系统
1252 一种化学抛光液及抛光方法
1253 化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法
1254 义齿的化学机械抛光
1255 用于化学机械抛光后清洗的组合物
1256 一种化学机械抛光液
1257 一种铝制品化学抛光液及其抛光方法
1258 用于ＧａＡｓ晶片的化学抛光溶液和化学抛光方法
1259 一种化学机械抛光液
1260 在化学机械抛光中使用组分可调冲洗液冲洗晶片
1261 通过控制抛光温度改进化学机械抛光
1262 一种化学机械抛光液
1263 一种化学机械抛光液
1264 化学抛光废磷酸的综合利用方法
1265 一种减少硅衬底材料化学机械抛光表面液蚀坑产生的抛光方法
1266 一种化学机械抛光液
1267 一种化学机械抛光液
1268 化学机械抛光设备
1269 铜钝化化学机械抛光组合物和方法
1270 铜化学机械抛光方法
1271 一种化学机械抛光液
1272 一种化学机械抛光液
1273 一种多晶硅化学机械抛光液
1274 化学机械抛光清洗装置
1275 一种化学机械抛光用磨料及其配方技术
1276 用氧化铈化学机械抛光液抛光硫系化合物相变材料的方法
1277 一种化学机械抛光液
1278 一种化学机械抛光液
1279 一种化学机械抛光液
1280 一种化学机械抛光浆料
1281 一种化学机械抛光制程、双氧水的用途和清洗方法
1282 一种化学机械抛光液
1283 一种化学机械抛光液
1284 一种化学机械抛光液
1285 胺类化合物的应用以及一种化学机械抛光液
1286 季铵盐型阳离子表面活性剂和一种化学机械抛光液的应用
1287 一种化学机械抛光液
1288 一种用于化学机械抛光的抛光头
1289 包含离子型聚电解质的铜化学机械抛光组合物及方法
1290 具有控制的润湿的化学机械抛光垫
1291 用于化学机械抛光的层叠的纤丝栅格
1292 改进的化学机械抛光垫及其制造和使用方法
1293 化学机械抛光方法
1294 改进的化学机械抛光垫以及制造和使用这种抛光垫方法
1295 一种用于化学机械研磨的抛光液
1296 用于化学机械抛光的互穿网络
1297 用于化学机械抛光的互穿网络
1298 不锈钢化学抛光液
1299 一种集成电路铜布线的无磨粒化学机械抛光液
1300 一种化学机械抛光液
1301 用于相变材料的化学-机械抛光的组合物及方法
1302 一种锌合金化学抛光处理方法及其溶液
1303 一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料及其用途
1304 二步骤化学机械抛光
1305 一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料及其用途
1306 一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料及其用途
1307 一种用于化学机械抛光的研磨垫调整装置
1308 含有可溶性金属过氧酸盐络合物的化学机械抛光组合物及其使用方法
1309 半导体硅片化学机械抛光用清洗液
1310 多晶硅化学机械抛光液
1311 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
1312 一种化学机械抛光液
1313 激光玻璃机械化学抛光方法
1314 用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
1315 用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
1316 一种化学机械抛光半导体晶片用的抛光液
1317 包含表面活性剂的能稀释的化学机械抛光组合物
1318 金属抛光组合物和使用它的化学机械抛光方法
1319 用于化学机械抛光浆料应用的聚合物-二氧化硅分散剂的稳定化
1320 一种化学机械抛光液
1321 用于GaAs晶片的机械化学抛光方法
1322 化学机械抛光垫
1323 一种化学机械抛光液
1324 用于金属的化学机械抛光的浆料组合物以及使用其的抛光方法
1325 高纯铝在超声搅拌下的电化学抛光方法
1326 脉冲调制电源及具有该电源的电化学抛光装置
1327 一种化学机械抛光工艺方法
1328 一种化学机械抛光液
1329 一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光液
1330 一种阻挡层化学机械抛光液
1331 在化学机械抛光期间调节低ｋ对铜除去速率的方法和浆料
1332 化学机械抛光垫
1333 高弹体改性的化学机械抛光垫
1334 含沸石的用于铜的化学机械抛光组合物
1335 用于化学机械抛光的抛光垫及应用其的化学机械抛光方法
1336 一种用于铜制程的化学机械抛光液
1337 一种用于铜制程的化学机械抛光液
1338 一种化学机械抛光液
1339 一种化学机械抛光液
1340 一种化学机械抛光液
1341 一种化学机械抛光液
1342 化学机械抛光中凹陷现象检测单元、制作方法及检测方法
1343 化学机械抛光研磨液的供料装置及研磨液处理方法
1344 化学机械抛光方法
1345 一种化学机械抛光液的制备工艺
1346 提高化学机械抛光研磨液使用率的系统及方法
1347 检测钨塞化学机械抛光工艺的测试结构
1348 一种化学机械抛光液
1349 一种化学机械抛光液
1350 一种化学机械抛光液
1351 一种化学机械抛光方法及其专用设备以及该设备配方技术
1352 一种化学机械抛光液
1353 一种多晶硅化学机械抛光液
1354 化学机械抛光垫调整器及其相关方法
1355 分布化学机械抛光方法
1356 用于低介电常数的介电材料的化学机械抛光的组合物及方法
1357 湿敏表面的化学机械抛光和为此的组合物
1358 用于电化学机械抛光NiP基底的方法和设备
1359 用于低介电常数的介电材料的化学机械抛光的组合物及方法
1360 铜/钌/钽基材的化学机械抛光
1361 一种化学机械抛光液
1362 一种化学机械抛光液
1363 一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
1364 一种化学机械抛光工艺中确定研磨时间的方法
1365 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
1366 用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
1367 用于化学机械抛光的分层冷冻磨料抛光垫及其配方技术
1368 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
1369 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
1370 不锈钢的化学抛光液
1371 用于化学机械抛光设备的清洁装置
1372 一种用于化学机械抛光的淤浆组合物及其前体组合物
1373 化学机械晶圆抛光设备的清洁刷升降装置
1374 一种可提高抛光性能的化学机械抛光方法
1375 用于半导体材料的化学机械抛光的组合物及方法
1376 具有重叠的固定面积螺旋凹槽的化学机械抛光垫
1377 具有不均匀间隔的凹槽的化学机械抛光垫
1378 用于电化学抛光铝轮内凹痕的机器及方法
1379 抛光垫和化学机械抛光装置
1380 在电化学抛光应用中用于再生电解液的方法
1381 一种改进的化学机械抛光方法
1382 包含封装在聚合物外壳中的液体有机材料芯体的化学机械抛光垫及其制造方法
1383 用于介电膜的提高速率的化学机械抛光组合物
1384 用于介电膜的提高速率的化学机械抛光组合物
1385 含有金属的基板的化学机械抛光方法
1386 化学机械抛光的研磨头及其制作方法
1387 在化学机械抛光应用中的可调选择性的浆料
1388 具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
1389 用于化学机械抛光的分散体
1390 化学机械抛光垫
1391 化学机械抛光垫
1392 金化学机械抛光组合物及方法
1393 高精度激光陀螺腔体化学抛光工序中的清洗方法
1394 适用于化学机械抛光的浆料及方法
1395 适用于化学机械抛光的浆料及方法
1396 能够抛光单个管芯的用于对大尺寸晶片进行化学机械抛光的方法及装置
1397 用于半导体材料的化学机械抛光的组合物及方法
1398 用于电化学抛光金属制品的电解质溶液
1399 化学机械抛光磨料粒子ＣｅＯ２及其配方技术
1400 多晶硅化学机械抛光液
1401 含铜基底的化学机械抛光方法
1402 使用化学和机械抛光技术生成滑动器衬底上微纹理的系统和方法
1403 用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
1404 氧化稳定的化学机械抛光组合物及方法
1405 含碘酸盐的化学机械抛光组合物及方法
1406 超平坦化学机械抛光技术之方法及使用该方法制造的半导体组件
1407 用于化学机械抛光的三维网络结构
1408 用于氧化铟锡表面的化学机械抛光的组合物及方法
1409 一种蓝宝石衬底化学机械抛光浆液
1410 用于相变合金的化学机械抛光的组合物及方法
1411 用来化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
1412 降低厚度变化的化学机械抛光方法及半导体器件配方技术
1413 化学机械抛光垫和化学机械抛光方法
1414 清除化学机械抛光刷上残留物的方法
1415 用于控制抛光选择性的辅助剂以及包含该辅助剂的化学机械抛光浆料
1416 用于控制抛光选择性的辅助剂以及包含该辅助剂的化学机械抛光浆料
1417 利用化学机械抛光的功率器件
1418 化学机械抛光浆料组合物、及其配方技术和应用方法
1419 抛光垫以及化学机械抛光方法
1420 抛光垫以及化学机械抛光方法
1421 分步化学机械抛光方法
1422 一种镁合金化学抛光处理工艺
1423 一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
1424 制造具有经控制的孔径的微孔化学机械抛光材料的方法
1425 用于化学机械抛光的摩擦减小辅助物
1426 铜／钌基板的化学机械抛光方法
1427 用于化学机械抛光的二氧化铈粉末的配方技术及使用该粉末制备化学机械抛光浆料的方法
1428 化学机械抛光后晶圆表面的清洗方法
1429 用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
1430 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
1431 使用化学机械抛光工艺制作自对准接触焊盘的方法
1432 水性抛光液和化学机械抛光方法
1433 修正化学机械抛光作业工艺条件的方法
1434 用于钽的化学机械抛光的组合物及方法
1435 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
1436 制造化学机械抛光垫的方法及抛光垫
1437 增加含过氧化氢的化学机械抛光浆料使用寿命的组合物及方法
1438 固定环、抛光头部和化学机械抛光设备
1439 金属化学机械抛光的抛光液原位批处理方法及所使用的装置
1440 化学机械抛光以及利用其制造半导体器件的方法
1441 化学机械抛光设备的清洗装置和方法
1442 化学机械抛光设备
1443 用于对金属膜进行平坦化的高通量化学机械抛光组合物
1444 结合电化学加工与电解抛光的复合式微加工装置及方法
1445 用于半导体晶片的化学机械抛光设备的装载装置
1446 化学机械抛光用的化学改性抛光垫
1447 抛光垫以及化学机械抛光方法
1448 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
1449 用于铝的化学机械抛光的浆液
1450 化学机械抛光在制造铝镜和太阳能电池中的用途
1451 抛光砖专用化学抛光剂
1452 ULSI多层铜布线化学机械抛光中平整度的控制方法
1453 用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液
1454 ULSI多层铜布线化学机械抛光中粗糙度的控制方法
1455 ULSI多层铜布线化学机械抛光中碟形坑的控制方法
1456 可控的电化学抛光方法
1457 整合的化学机械抛光组合物及单台板处理方法
1458 混合式化学机械抛光工艺的线上控制方法
1459 半导体锑化铟化学机械抛光液
1460 用电子束曝光和化学机械抛光工艺制备纳电子存储器的方法
1461 用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液
1462 用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法
1463 铜纯化的化学机械抛光后清洗组合物及使用方法
1464 用于化学机械抛光的透明多微孔材料
1465 化学-机械抛光固定环
1466 化学机械抛光的方法
1467 多孔反应注塑化学机械抛光垫的制造方法
1468 半导体晶片精密化学机械抛光剂
1469 用于含有金属离子氧化剂的化学机械抛光组合物中的二羟基烯醇化合物
1470 能降低NO2烟害的铝材二步化学抛光法
1471 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
1472 用来化学机械抛光薄膜和介电材料的组合物和方法
1473 化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
1474 图像传感器中采用化学机械抛光的自对准金属硅化物工艺
1475 应用于化学机械抛光工艺的抛光头及化学机械抛光方法
1476 具有径向交替凹槽段结构的化学机械抛光垫
1477 用于化学机械抛光的抛光浆液和方法
1478 用于化学机械抛光浆料的辅助剂
1479 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法
1480 用于对多晶硅膜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及其配方技术
1481 化学机械抛光用的选择性浆料
1482 化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺
1483 化学机械抛光废液分流收集装置及其收集方法
1484 一种自动调节化学机械抛光设备硅片研磨压力的方法
1485 具有排列的凹槽来提高抛光介质利用的化学机械抛光垫
1486 化学机械抛光研磨垫
1487 具有重叠阶梯状凹槽排列的化学机械抛光垫
1488 一种化学机械抛光设备的抛光头的清洗装置
1489 一种化学机械抛光中延长研磨垫寿命的方法
1490 用于电－化学－机械抛光的方法和组合物
1491 不含磨料的化学机械抛光组合物及相关方法
1492 铝合金化学磨砂无烟抛光技术
1493 减少了条纹的化学机械抛光垫的配方技术
1494 制造减少条纹的化学机械抛光垫的设备
1495 一种化学机械抛光中研磨垫沟槽加工方法
1496 铜的化学机械抛光浆料
1497 钽阻挡层用化学机械抛光浆料
1498 一种化学机械抛光浆料的应用
1499 用于钽阻挡层的化学机械抛光浆料
1500 用于阻挡层的化学机械抛光浆料
1501 包含表面活性剂的化学机械抛光（CMP）组合物
1502 包含表面活性剂的化学机械抛光组合物
1503 化学机械抛光的方法与研磨液及半导体器件及其制造方法
1504 复合式化学机械抛光法
1505 化学机械抛光装置及其抛光垫的清洗方法与平坦化的方法
1506 用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物
1507 用于改善的化学机械抛光的方法和设备
1508 具有定向颗粒的化学机械抛光垫修整器及其相关方法
1509 非平面的化学机械抛光垫修整器及其相关方法
1510 具有流线型窗玻璃的化学机械抛光垫
1511 化学机械抛光衬垫和化学机械抛光方法
1512 化学机械抛光用抛光垫的配方技术
1513 浆料、化学机械抛光方法及用浆料形成电容器表面的方法
1514 纳米氧化铈的配方技术及其在砷化镓晶片化学机械抛光中的用途
1515 浆料、使用该浆料的化学机械抛光方法以及使用该浆料形成金属布线的方法
1516 降低浅沟绝缘化学机械抛光工艺造成的晶片伤害的方法
1517 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
1518 化学机械抛光液及其用途
1519 化学机械抛光液
1520 一种化学机械抛光机
1521 化学机械抛光组合物及有关的方法
1522 化学机械抛光组合物及有关的方法
1523 集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液
1524 用于电化学机械抛光的抛光垫
1525 化学机械抛光垫及化学机械抛光方法
1526 电化学－机械抛光组合物及使用其的方法
1527 化学机械抛光浆料及抛光基板的方法
1528 一种化学机械抛光机
1529 一种化学机械法金刚石膜抛光装置及其抛光方法
1530 用于半导体晶圆的化学机械抛光机的装载装置
1531 用于半导体浅沟隔离加工的化学机械抛光浆料组合物
1532 用于化学机械抛光金属表面的含金属氧化物颗粒及阳离子聚合物的分散体
1533 具有成分填充孔的多孔化学机械抛光垫
1534 化学机械抛光组合物及使用其的方法
1535 低表面能的化学机械抛光垫
1536 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
1537 用于化学机械平坦化的多步抛光液
1538 用于电化学-机械抛光的方法和装置
1539 化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法
1540 氧化形式的金属的化学机械抛光
1541 高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液
1542 具有取决于工艺的槽结构的化学机械抛光基台
1543 浅沟槽隔离工艺中化学机械抛光工艺窗口确定方法
1544 一种机械化学抛光方法
1545 用来减少浆液回流的化学机械抛光法
1546 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
1547 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
1548 化学机械抛光垫
1549 一种用于浅沟槽隔离技术的化学机械抛光工艺
1550 涂层超导体镍基带的电化学抛光工艺方法
1551 用于金属化学机械抛光的新型浆料
1552 钛镍合金电化学抛光液
1553 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
1554 用于化学机械抛光的弹性抛光垫板
1555 通过使用垫调节器的传感器信号控制化学机械抛光的方法及系统
1556 用于硅上液晶器件的铝化学机械抛光回蚀
1557 用于化学机械抛光的抛光垫
1558 化学－机械抛光组合物及其使用方法
1559 用于电化学机械抛光的抛光垫
1560 一种不锈钢表面快速化学研磨抛光浴液及方法
1561 化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法
1562 用于化学机械抛光的磨料颗粒
1563 化学/机械抛光用水分散体
1564 用于化学机械抛光的浆料、抛光方法及半导体器件的制造方法
1565 用于监控化学机械抛光的数据处理
1566 用于电化学机械抛光的导电抛光物件
1567 化学机械抛光(CMP)贵金属
1568 用于化学机械抛光的多层抛光垫材料
1569 用于电化学机械抛光的抛光垫
1570 有机膜的化学机械抛光及制造半导体器件的方法
1571 一种用于镜结构的化学机械抛光方法
1572 一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其配方技术
1573 用于浅沟槽隔离的化学/机械抛光方法
1574 化学机械研磨抛光系统中的抛光垫的调理方法
1575 化学机械抛光用于接合多晶硅插拴制造方法及其结构
1576 对镜结构进行化学机械抛光的方法
1577 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂
1578 能够补偿纳米形貌效应的化学机械抛光用浆液组合物、以及利用其的半导体元件的表面平坦化方法
1579 用于步骤Ⅱ的铜衬里和其他相关材料的化学机械抛光组合物及其使用方法
1580 用于铜和相关材料的改进的化学机械抛光组合物及其使用方法
1581 用于对微特征工件的机械与/或化学-机械抛光的系统和方法
1582 用于对微特征工件机械和/或化学-机械抛光的方法和包括下垫的抛光机
1583 用于化学-机械抛光的分散体
1584 抛光垫和化学机械抛光方法
1585 集成电路器件的化学机械抛光的终点检测方法
1586 化学机械抛光浆液
1587 具有复合透明窗口的化学机械抛光垫
1588 化学机械抛光方法以及与其相关的洗涤/冲洗方法
1589 软的化学机械平坦化/抛光(CMP)抛光垫的金刚石调理
1590 用于化学机械抛光的非聚合有机颗粒
1591 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
1592 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
1593 一种化学机械抛光液
1594 化学机械抛光辅助剥离制作微图案
1595 具有枢轴机构且垂直可调的化学机械抛光头及其使用方法
1596 磁阻式随机存取存储器技术中改善磁堆栈表面粗糙度的双层化学机械抛光方法
1597 在不使用化学机械抛光的情况下形成平坦的Cu互连的方法
1598 化学机械抛光用水分散体及其用途和所用的水分散体材料
1599 使用磺化两性试剂的铜化学机械抛光溶液
1600 化学机械抛光机台的晶片载具
1601 化学机械抛光铜表面用的腐蚀延迟抛光浆液
1602 供化学机械抛光用的透明微孔材料
1603 用于将半导体晶片固定在化学-机械抛光设备中的固定环
1604 用于将半导体晶片固定在化学-机械抛光设备中的固定环
1605 用于铜布线化学机械抛光的清洗液提供装置
1606 用于金属的化学机械抛光（CMP）的浆料及其使用
1607 用于电化学机械抛光的导电抛光部件
1608 用于化学机械抛光的淤浆
1609 用于化学机械抛光的水分散体和半导体设备的生产方法
1610 化学机械抛光和垫修整方法
1611 在化学机械抛光过程中抛光晶片的方法和携载头
1612 铂化学机械抛光用的溶液
1613 低K介电材料的化学机械抛光方法
1614 用于电化学机械抛光的导电抛光用品
1615 在化学机械抛光中为了处理状态和控制检测晶片表面特性转变的装置和方法
1616 化学机械抛光装置及其控制方法
1617 铜和阻障层之整合化学机械抛光的方法和设备
1618 防止化学机械抛光中的凹陷和侵蚀的半导体器件制造方法
1619 金属基板化学-机械抛光方法
1620 化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法
1621 半导体基板的化学机械抛光方法和化学机械抛光用水分散液
1622 改进的具有精确边界点检测的化学机械抛光系统
1623 用于金属的化学机械抛光浆液及利用该浆液制备半导体装置的金属线接触插头的方法
1624 金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物
1625 用于钌的化学机械抛光的溶液
1626 用于控制衬底的化学机械式抛光的方法及装置
1627 用于在化学机械抛光中控制晶片温度的设备及方法
1628 用于化学机械抛光装置的托架头
1629 一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺
1630 化学/机械抛光浆和使用它的化学机械抛光方法
1631 一种用于化学-机械抛光浆中颗粒的配方技术以及该方法制备的颗粒
1632 稀土盐/氧化剂为基础的化学-机械抛光方法
1633 化学抛光液
1634 不锈钢电化学研磨(抛光)方法
1635 涉及基于频率分析监视的化学机械抛光处理
1636 用于金属布线的化学机械抛光的浆液组合物
1637 化学机械抛光装置用晶片定位环
1638 提供去除速率曲线处理的化学机械抛光设备的反馈控制
1639 控制化学机械抛光垫速度以提高垫寿命的方法和装置
1640 化学机械抛光垫的调节的前馈和反馈控制
1641 改变浆料中氧化剂的浓度进行化学机械抛光(CMP)的方法
1642 铜化学－机械抛光工艺用抛光液
1643 化学机械抛光组合物及其相关方法
1644 一种化学机械抛光装置的终点侦测系统
1645 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
1646 超大规模集成电路多层铜布线用化学机械全局平面化抛光液
1647 化学抛光方法、经该方法抛光的玻璃基板及化学抛光装置
1648 液晶玻璃基板的化学抛光方法及化学抛光装置
1649 用于电化学机械抛光的导电抛光部件
1650 化学机械平整系统，化学机械抛光系统和可调台板
1651 用于化学机械抛光的对准主动护圈表面与晶片表面的设备和方法
1652 在化学机械抛光处理中用于终点触发的系统、方法和装置
1653 用以改善所需化学机械抛光压强对于将由抛光头施加于晶片的作用力的转换精度的具有改良解析度的设备及方法
1654 铜-氧化物大马士革结构的化学机械抛光
1655 用于金属化学机械抛光的催化性反应垫
1656 含固体催化剂的化学机械抛光的抛光垫
1657 用于SiO*隔离层化学-机械抛光的酸性抛光膏
1658 化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏
1659 采用上游和下游流体分配装置的化学机械抛光方法和设备
1660 用于金属和电介质结构化学机械抛光的抛光膏
1661 一种不锈钢化学抛光方法
1662 一种化学-机械抛光浆料和方法
1663 一种化学-机械抛光铜镶嵌结构所用的浆料
1664 使用化学机械抛光精加工用于接合的晶片的装置和方法
1665 化学机械抛光头、设备和方法以及平面化半导体晶片
1666 用于化学-机械抛光法的浆料和系统及其用途
1667 化学机械抛光(CMP)头、设备和方法以及由此制造的平面化半导体晶片
1668 具有孔和/或槽的化学机械抛光垫
1669 微孔化学机械抛光垫
1670 具有波形槽的化学机械抛光垫
1671 利用激光制造化学机械抛光垫的方法
1672 用于化学机械抛光的研磨垫
1673 基板的化学机械抛光装置和方法
1674 在化学机械抛光中用于终点探测的现场方法和设备
1675 化学机械抛光的方法
1676 化学机械抛光用淤浆及其形成方法和半导体器件制造方法
1677 景泰蓝结构的化学机械抛光中的终点检测
1678 用于化学机械抛光的端点检测系统
1679 物理化学的电子束抛光方法
1680 化学机械抛光用的多层扣环
1681 制造半导体元件的方法及其化学机械抛光系统
1682 化学-机械抛光方法
1683 化学机械抛光用研磨剂
1684 化学-机械抛光软垫的修磨器及其制造方法
1685 化学机械抛光后半导体表面的清洗溶液
1686 压电致动的化学机械抛光托盘
1687 在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
1688 化学机械抛光系统及其使用方法
1689 用多晶硅掩模和化学机械抛光制造不同栅介质厚度的工艺
1690 测量轴的变形对化学机械抛光工艺进行实时控制
1691 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
1692 用于化学机械抛光的组合物
1693 在半导体晶片化学机械抛光时输送抛光液的系统
1694 用于机械化学抛光低介电常数聚合物类绝缘材料层的组合物
1695 适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的配方技术
1696 化学-机械抛光垫的修整装置及方法
1697 改善化学机械抛光的均匀性
1698 铝或铝合金导电材料层的机械化学抛光方法
1699 用于增强半导体化学-机械抛光过程中金属去除率的方法
1700 用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法
1701 化学机械抛光装置
1702 化学机械抛光中用于减少有图案金属凹陷的组合物和方法
1703 铜基材料表层的机械化学抛光方法
1704 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料
1705 化学机械抛光浆料和其使用方法
1706 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料
1707 一种化学抛光剂及其使用方法
1708 适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的配方技术
1709 用于铜基材的化学机械抛光浆料
1710 化学机械抛光装置和化学机械抛光方法
1711 用于铝化学抛光的虚拟图形
1712 化学机械抛光系统及其方法
1713 用于铜的化学机械抛光(CMP)浆液以及用于集成电路制造的方法
1714 适于高精度平面化的化学机械抛光方法
1715 一种无腐蚀脉冲电化学抛光溶液及工艺
1716 防止器件出现化学机械抛光诱发缺陷的方法
1717 化学机械抛光衬垫调理装置
1718 利用化学机械抛光工艺的半导体器件制造方法
1719 半导体或绝缘材料层的机械-化学新抛光方法
1720 用于化学机械抛光的压磨板涂层结构及方法
1721 用于硅衍生物或硅的绝缘材料层的化学机械抛光方法和研磨制品
1722 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料
1723 用于化学-机械抛光的抛光盘及其制造方法
1724 化学机械抛光方法及其设备
1725 用化学机械抛光的平整步骤制造半导体器件的方法
1726 用化学机械抛光除去旋涂介质的速率情况
1727 金属层用的化学机械抛光淤浆
1728 不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法
1729 铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法
1730 化合物半导体化学抛光腐蚀液
1731 用于不锈钢表面化学抛光的抛光液和方法
1732 不锈钢表面化学抛光浴液及方法
1733 不锈钢表面化学抛光用浴液
1734 铝及铝合金碱性化学抛光溶液
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