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化学气相沉积金刚石配方及加工工艺技术

发布时间:2020-07-17   作者:admin   浏览次数:100

1、一种用于热丝化学气相沉积制备大尺寸金刚石薄膜的热丝支架
 [简介]:本技术涉及一种用于热丝化学气相沉积制备大尺寸金刚石薄膜的热丝支架。热丝支架包括上钼电极1,下钼电极2,陶瓷管3,热丝4,钼圆棒5,自重钼块6,隔热档板7,钼螺丝8和高温轻质弹簧9。将热丝安装在之架上并把整个支架竖直地放入真空腔中,之后上下钼电极与隔热档板后的铜电极柱14连接。本技术有效地克服了现有的热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜时,热丝易脆断和热丝弯曲形变造成的厚度、质量不均匀问题。
2、微波等离子体化学气相沉积中一种可旋转生长金刚石的方法
 [简介]:本技术提供了微波等离子体化学气相沉积中一种可旋转生长金刚石的方法,包括如下:金刚石生长过程中,金刚石在用于提供微波等离子体金刚石生长环境的腔体内持续旋转。使得金刚石在生长过程中,每一点生长条件都相同,实现了气流、温度、功率密度在金刚石生长面的均匀分布。
3、微波等离子体化学气相沉积法生长多晶金刚石片的方法
 [简介]:本技术提供了微波等离子体化学气相沉积法生长多晶金刚石片的方法,涉及人造金刚石领域,其具体步骤如下:(1)对微波等离子体化学气相沉积设备中的基板进行预处理;(2)在经过预处理的基板上按照常规多晶金刚石片生长的过程形核0.4?0.6h;根据最终生长厚度的要求控制生长时间,可多次关机、研磨、抛光后进行多次重复生长。本技术生长的多晶金刚石自支撑片厚度可达毫米级以上,面且能够有效抑制金刚石颗粒随着厚度增大而不断增大的现象,从而达到在满足厚度要求的同时细化金刚石颗粒,提升金刚石片致密度、机械强度及抛光后表面光洁度的目的,从而更充分的发挥CVD多晶金刚石材料的价值。
4、微波等离子体化学气相沉积装置和合成金刚石的方法
 [简介]:本申请提供了一种微波等离子体化学气相沉积装置,包括设置于谐振腔内的反射板和基板,反射板和基板相对设置,所述反射板上镂空有至少一窗口,该反射板至少背离所述基板的表面为电磁波反射面,所述基板面向所述窗口的一侧为一金刚石生长侧。本申请还提供了一种微波等离子体化学气相沉积合成金刚石的方法。本技术通过双升降结构,不仅可以控制等离子在腔体内上下高度可以调节,而且籽晶相对于等离子的位置也亦可以调节。此方法可以很好的控制等离子在腔体内垂直方向的位置,也可以很好的控制籽晶生长环境的稳定性。
5、微波等离子体化学气相沉积装置和金刚石的合成方法
 [简介]:本申请提供了一种微波等离子体化学气相沉积装置,采用等离子体天线作为耦合天线。本申请还提供了一种金刚石的合成方法,采用等离子体天线作为耦合天线,通过微波等离子体化学气相沉积方法合成金刚石。本申请还提供了微波等离子体化学气相沉积装置在单晶金刚石合成中的应用。本技术的微波等离子体化学气相沉积装置,采用等离子体天线进行耦合,可以极大的提高天线的效率。
6、石墨加热化学气相沉积超纳米金刚石的设备
 [简介]:本技术提供了提供一种石墨加热化学气相沉积超纳米金刚石的设备,包括样品台组件、进气系统、石墨加热器组件,样品台组件的样品台用于放置待沉积基片,进气系统用于提供反应气体,石墨加热器组件包括石墨块和加热组件,石墨块位于所述样品台组件的样品台上方,且与样品台相向的加热端的结构与待加工基片上表面形状相同;石墨块上开设有若干导流孔,导流孔用于供所述进气系统的反应气体通过所述石墨块到达待沉积基片的上方;加热组件用于加热石墨块。本技术设置可以在异形基片上沉积膜厚、织构和性能一致、高质量的超纳米晶金刚石膜,用作高强度、耐磨的保护膜和功能性薄膜等,也可以制造异形结构的超纳米晶金刚石零部件。
7、一种多功能金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置
 [简介]:本技术涉及金刚石膜生长领域,尤其涉及一种多功能金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置。该装置主要包括:绝缘层一、导电层一、内孔工件、气体喷淋头、热丝一、气体喷淋环、热丝二、基片、导电层二、绝缘层二、反应腔体、外部气源、直流加热电源二、直流加热电源一、偏压电源一、偏压电源二、调速电机、抽真空系统、水冷样品台二、水冷样品台一、真空测控系统等。本技术既可以实现在工件内孔快速、均匀沉积金刚石薄膜,又可以实现在大面积基片上快速、均匀沉积金刚石薄膜,沉积时反应气体消耗量低,沉积过程中能测控热丝的温度、工件表面的温度和反应腔内的压强,能准确控制金刚石薄膜沉积各项主要工艺参数,工艺重复性好。
8、微刀具金刚石涂层的化学气相沉积装置及方法
 [简介]:微刀具金刚石涂层的化学气相沉积装置及方法,属于金刚石薄膜化学气相沉积制备技术领域。真空泵通过真空针阀与真空反应室连通,氢气瓶、氩气瓶和甲烷瓶与混合箱连通,进气针阀固定在真空反应室炉盖上,压力控制装置与真空反应室连通,电极组件固定在真空反应室内,工作台设置在真空反应室内,微刀具固定在工作台上,两根电缆线从加热电源处引出并与电极组件连接,热电偶的探头端部贴有硬质合金薄片,红外测温仪通过其自带的支架设置于真空反应室外部,冷水机外接有四根冷水管,其中两根与真空反应室的炉盖连通,其余两根与真空反应室的炉体连通,真空表安装在真空反应室的炉盖上。本技术用于微刀具金刚石涂层的化学气相沉积。
9、一种金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积方法及装置
 [简介]:本技术提供了一种利用磁控技术提高金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积设备沉积速率的方法和装置。该方法包含以下步骤:在微波等离子体化学气相沉积工艺中利用磁场形成电子捕集阱,电子在捕集阱的约束下,在衬底上方固定区域作封闭的曲线运动,电子在运动过程中碰撞反应气体碰撞生成前驱反应基团和石墨组织抑制基团,从而提高反应基团浓度,实现金刚石薄膜沉积速率的提高。使用该方法的反应腔装置由微波源、螺钉调配器、定向耦合器、同轴天线、波导装置、调节活塞、谐振腔、石英罩、磁场发生装置等组成。本技术的优点是可以显著提高金刚石微波等离子体化学气相沉积工艺的薄膜沉积速率,工艺和装置简单,便于实施。
10、一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台
 [简介]:本技术提供一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台,属于晶体合成技术领域。该基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上,其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台,用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布,提高所制备的金刚石膜的均匀性,同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本技术具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、易于调节尺寸以适合制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。
11、一种化学气相沉积镀制金刚石膜的设备的吹气装置
 [简介]:一种化学气相沉积镀制金刚石膜的设备的吹气装置,包括喷XX(9)、波纹软管(10)、第一支撑结构(11)、第二支撑结构(12)和安装板(13),所述第二支撑结构(12)包括第二支杆(17)、第二夹持件(18)和滑轮(19),所述安装板(13)上设有圆弧形滑槽(20),所述滑轮(19)与圆弧形滑槽(20)滚动连接。该吹气装置应用于镀制金刚石膜设备后,在镀制金刚石膜的过程中,当观察到衬底试样表面出现异质颗粒物时,可以及时将异质颗粒物从衬底试样表面清除,从而可以避免镀制出来的金刚石膜受到异质颗粒物的影响,保证镀制出来的金刚石膜的质量。
12、一种采用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的方法
 [简介]:本技术提供一种采用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的方法,属于晶体合成技术领域。该方法中,基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上,其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台,用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布,提高所制备的金刚石膜的均匀性,同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本技术具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、适合于制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。
13、利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法
14、化学气相沉积金刚石刀具及其加工方法
15、经由化学气相沉积合成厚的单晶金刚石材料
16、单晶金刚石、制造单晶金刚石的方法以及用于所述方法中的化学气相沉积装置
17、微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置
18、一种化学气相沉积镀制金刚石膜的设备的试样台
19、通过化学气相沉积的单晶合成金刚石材料
20、一种化学气相沉积镀制金刚石膜的设备
21、一种化学气相沉积镀制金刚石膜的方法
22、微刀具表面热丝法化学气相沉积金刚石涂层的电极系统
23、振动热丝化学气相沉积设备及在金刚石涂层沉积中的用途
24、一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置
25、一种化学气相沉积金刚石涂层基体的前处理方法
26、一种制备镍?氮掺杂金刚石的射频放电气相沉积方法
27、一种大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线
28、用于化学气相沉积金刚石膜的高功率微波等离子体反应装置
29、化学气相沉积改性的多晶金刚石
30、化学气相沉积制备硅掺杂微纳复合金刚石薄膜的方法
31、聚晶化学气相沉积的金刚石工具部件以及制造、安装和使用其的方法
32、用于散热应用的厚聚晶合成金刚石晶片以及微波等离子体化学气相沉积合成技术
33、一种多晶金刚石磨料及化学气相沉积(CVD)制作方法
34、一种圆顶式微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置
35、具有均匀颜色的单晶化学气相沉积合成金刚石材料
36、用于在花键轴上形成类金刚石碳膜的方法以及热*极潘宁电离计型等离子化学气相沉积装置
37、一种高功率的微波等离子体金刚石膜化学气相沉积装置
38、多元掺杂热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
39、复杂形状金刚石涂层刀具热丝化学气相沉积批量配方技术
40、通过化学气相沉积合成材料,特别是金刚石的方法,和应用该方法的设备
41、一种化学气相沉积金刚石装置
42、利用添加N2O气体化学气相沉积金刚石单晶的方法
43、生产白色单晶金刚石的方法
44、一种化学气相沉积金刚石的装置
45、化学气相沉积制备掺硼导电金刚石薄膜方法
46、鉴别高速生长的化学气相沉积金刚石单晶的方法
47、在复杂形状刀具上制备金刚石薄膜的化学气相沉积方法
48、钽喷丝头表面化学气相沉积金刚石薄膜强化方法
49、对单晶化学气相沉积金刚石进行退火
50、制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法
51、直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法
52、化学气相沉积金刚石厚膜的焊接方法
53、在微波放电等离子体中从气相沉积金刚石薄膜的高速方法和实施所述方法的装置
54、化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石材料及应用
55、紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
56、回旋电子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
57、光子-热丝化学气相沉积生长大面积金刚石薄膜的方法
58、一种复合激光化学气相沉积金刚石膜的方法
59、一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备
60、韧化的化学气相沉积金刚石
61、一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法
62、化学气相沉积金刚石涂层硬质合金工具的新工艺
63、弧光放电化学气相沉积金刚石薄膜的方法
 
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