1、一种双层镀膜单纹理的陶瓷效果手机后盖片材生产工艺
[简介]：本技术提供的一种双层镀膜单纹理的陶瓷效果手机后盖片材生产工艺，通过如下步骤实现：步骤一：备膜工序，步骤二：在透明防XX膜的一面上进行电镀硅层、五氧化二铌层、二氧化硅层和五氧化二铌层；步骤三：在五氧化二铌层上进行UV压花纹理处理，处理后收卷得到UV压花卷；步骤四：电镀处理，步骤五：丝印处理，步骤六：将步骤五的丝印卷拉出进行切割，切割后清洗，得到具有双镀膜单纹理的陶瓷视觉效果的手机后盖片材。本技术的一种双层镀膜单纹理的陶瓷效果手机后盖片材生产工艺，通过特定的二次电镀及UV压花胶水，使整个片材具有双镀膜单纹理效果，并配合第一电镀的双层结构使整个片材还具有陶瓷视觉效果，操作工序简易，生产成本低。
2、一种基于化学镀法的陶瓷板镀膜方法
[简介]：一种基于化学镀法的陶瓷板镀膜方法，可应用于气溶胶发生装置中陶瓷雾化芯的制备，旨在解决当前陶瓷雾化芯的生产效率低的问题，所述方法包括：依次对所述多孔陶瓷板进行预处理、涂布、曝光、显影、化学镀、清洗处理，使其上表面形成金属膜；本技术提供的一种基于化学镀法的陶瓷板镀膜方法，可实现对多孔陶瓷板的整面镀膜，也可在多孔陶瓷板表面制备复杂形状的发热金属膜，进而实现对镀膜陶瓷板的阻值范围进行精细化控制。在本技术实施例中，对整片多孔陶瓷板进行镀膜处理制备镀膜陶瓷板，随后可根据尺寸需求对所述镀膜陶瓷板进行切割以制备气溶胶发生装置用陶瓷雾化芯，便于陶瓷雾化芯的批量生产，提高了陶瓷雾化芯的生产效率。
3、一种提高陶瓷镀膜层结合强度的方法
[简介]：本技术属于电子封装相关技术领域，提供一种提高陶瓷镀膜层结合强度的方法。通过在陶瓷基片与其表面溅射的金属膜层间施加电场和加热的技术手段，由于界面热扩散等作用形成梯度过渡层，从而达到提高陶瓷基片与金属膜层间结合强度的技术效果。
4、一种用于制备石墨烯远红外陶瓷的真空镀膜设备
[简介]：本技术涉及真空镀膜技术领域，提供了一种用于制备石墨烯远红外陶瓷的真空镀膜设备。通过齿条啮合会使齿轮进行转动，齿轮带动从动轴杆转动，从动轴杆带动控制杆转动，控制杆的螺杆端转动使的支承台移动，使得坩埚在移动时可以带动支承台进行开合运动，同时，经过拉绳的收放与第二弹簧的复位力控制控量板进行开合运动，使得坩埚上产生的石墨烯蒸气在上升扩散时，可以刚好对陶瓷的面进行覆盖，保证蒸汽中含有的石墨烯的使用率较高，并保证蒸气在通口中通过的冲力保持平均，即保持了石墨烯在通口中各个位置的通过量相对平均，确保了镀膜后的石墨烯层的各个位置的厚度相同，保障石墨烯远红外陶瓷良好的使用效果，提高石墨烯远红外陶瓷制备的质量。
5、一种陶瓷专用的高光泽度镀膜设备及镀膜工艺
[简介]：本技术涉及一种陶瓷专用的高光泽度镀膜设备及镀膜工艺，包括清洗机，所述清洗机的一端固定连接有底涂机，所述底涂机的一侧固定连接有真空镀膜机，所述清洗机的一端固定连接有清理机构，所述清理机构的一侧固定连接有第一电机，所述清洗机的内壁安装有转轴，所述清洗机的内壁转动固定连接有微波发生器。通过设置多个设备相互配合使用，在对陶瓷基材进行首次清洗除尘他同时进行快速的风干，之后进行底涂并且之后进行烘干，大大提高陶瓷基材高光泽度的同时，有效提高效率，对陶瓷基材依次进行清洗、底涂、预热、刻蚀及镀膜的操作，提升了镀层的附着度他同时大大提升了镀层的均匀性，进而增强了陶瓷基材的质量。
6、一种陶瓷基材的前处理方法和对陶瓷基材进行镀膜的方法
[简介]：本技术属于真空镀膜溅射技术领域，具体涉及一种陶瓷基材的前处理方法和对陶瓷基材进行镀膜的方法。本技术首先将陶瓷基材置于碱性清洗液中进行超声清洗，以去除陶瓷表面以及孔内的有机污染物、保护膜层等，超声清洗可以去除激光打孔后残留在通孔陶瓷孔内的激光熔渣，再通过煅烧进一步去除陶瓷表面残留的油脂、有机污染物和碱性清洗液，煅烧过程中通入的氮气可以作为煅烧过程的保护气，保护氮陶瓷在高温下不与氧气反应，还可以作为气流气体，带走通孔陶瓷孔内的熔渣，避免高温鼓泡现象；最后通过氩气干法刻蚀清洗陶瓷表面的细微粉尘并活化陶瓷表面分子，提高陶瓷基材与金属膜层之间的结合力。
7、一种适用于陶瓷碗的防晃型真空镀膜设备
[简介]：本技术提供了真空镀膜技术领域的一种适用于陶瓷碗的防晃型真空镀膜设备，包括真空镀膜机本体，所述真空镀膜机本体的前侧通过合页铰接有箱门，所述箱门上设置有把手，所述真空镀膜机本体的前侧左端设置有控制面板，所述真空镀膜机本体的底部内壁设置有电机，所述电机的动力端贯穿防护罩，且防护罩的底端连接在真空镀膜机本体的底部内壁上，所述电机顶部的动力端连接有固定轴，所述固定轴上均匀设置有固定套，所述固定套的两侧均匀设置有横杆，通过设置调平机构和支撑台，便于支撑块对齐陶瓷碗的中心，通过设置支撑机构，使得陶瓷碗受到的支撑面积可以根据陶瓷碗的大小自动改变，从而在通过电机带动其旋转镀膜时不易倾斜。
8、一种热蒸发镀膜陶瓷靶材及配方技术
[简介]：本技术提供了一种热蒸发镀膜陶瓷靶材及配方技术，所述陶瓷靶材包括与原料粉体共同构成异质结构的结构材料，所述结构材料为与原料粉体相同化学组份的陶瓷纤维和/或陶瓷片，所述陶瓷纤维的长度为5‑100μm，直径为0.2‑6μm；所述陶瓷片的厚度为2‑10μm、宽度为20‑60μm；结构材料在陶瓷靶材中的占比为10‑35wt%。本技术通过在靶材原料中添加同种材质的陶瓷纤维、陶瓷片或者两者组合，使陶瓷靶材坯体在烧结后形成一种异质结构，在不影响镀膜质量的前提下，解决陶瓷靶材热蒸发时热冲击应力过大易造成开裂的问题。
9、一种多靶直流磁控溅射镀膜装置及其在沉积陶瓷基底多层金属膜中的应用
[简介]：本技术提供了一种多靶直流磁控溅射镀膜装置及其在沉积陶瓷基底多层金属膜中的应用。所述多靶直流磁控溅射装置的结构：镀膜室内于底部上工件架，工件架的上部设有第一至第五靶材、离子源、加热管；镀膜室的顶部设有三流量计；真空抽气系统包括粗抽系统和精抽系统，用于对镀膜室抽真空；测量系统包括设于镀膜室上的第一热电偶传感器和第二热电偶真空计；控制系统包括第一热电偶真空计控制单元、第一分子泵控制器、第一至第五溅射靶材电源、第一离子源电源和第一偏压电源。利用本技术多靶直流磁控溅射装置在大尺寸异形氧化锆陶瓷表面沉积多层金属膜，实现对氧化锆陶瓷的表面改性，可以降低氧化锆陶瓷表面放气率、解析率，同时使其具有较高的导电率。
10、一种钙钛矿型高熵高发射率陶瓷涂层镀膜液的配方技术及应用
[简介]：本技术提出了一种钙钛矿型高熵高发射率陶瓷涂层镀膜液的配方技术及应用，以重量份数计，各组分构成为：磷酸盐类粘结剂10.00~70.00份，溶胶类粘结剂5.00~50.00份，填料10.00~80.00份，助剂1.00~50.00份，溶剂10.00~60.00份；所述填料为由ZnO、CaO、CuO、MgO、NiO、SrO、ZrO2、TiO2、MnO2、CeO2、HfO2、Fe2O3、Co2O3、Cr2O3、Al2O3、Y2O3、La2O3、Nd2O3等氧化物中的五种或五种以上所制备得到的钙钛矿型高熵高发射率陶瓷粉体。本技术着眼于陶瓷的高熵效应，使陶瓷涂层具有更高的强度与热/化学稳定性，可广泛应用于高温窑炉、锅炉、金属壁面等高温领域，实现低成本、高节能效率涂层的制备。
11、具有金属镀膜层的陶瓷雾化芯及其配方技术
12、一种PVD离子镀膜的陶瓷工件固定架
13、一种陶瓷基板的金属镀膜方法
14、用于熔封生产陶瓷镀膜芯片的设备和方法
15、一种用于制备压电陶瓷的真空镀膜设备
16、一种镀膜层数可调的陶瓷基热电偶保护套的配方技术
17、陶瓷真空镀膜工艺方法
18、一种适用于陶瓷镀膜后的自动拾取装置
19、平板式陶瓷分离膜的镀膜工艺和镀膜装置
20、一种压电陶瓷片磁控溅射镀膜工艺及应用
21、一种高结合力电镀膜陶瓷电阻配方技术
22、一种基于手工涂覆法在直通孔陶瓷表面镀膜的方法
23、一种用于压电陶瓷生产的高效型真空镀膜设备
24、陶瓷板真空溅射镀膜装置及其镀膜方法
25、一种光纤陶瓷插芯端面镀膜夹具及其应用
26、一体化陶瓷手机壳AF镀膜支架
27、TZO陶瓷镀膜材料的配方技术及TZO材料
28、一种钕铁硼陶瓷表面金属化磁控溅射镀膜生产线
29、镀膜涂料系统及具有仿陶瓷效果的金属件产品
30、一种陶瓷压力传感器快速镀膜装置
31、一种镀膜抗菌陶瓷的配方技术及镀膜抗菌陶瓷
32、用于改善ALN陶瓷表面蒸镀膜厚度均匀性的装置
33、一种纳米镀膜陶瓷发热元件及利用该元件的电吹风机
34、一种有机先驱体溶液镀膜制备的具有生物活性的纳米氧化物陶瓷薄膜
35、一种陶瓷表面的镀膜方法
36、导电复合膜、包含此膜的陶瓷镀膜方法及其采用的设备
37、一种陶瓷插芯镀膜工装
38、陶瓷表面镀膜方法
39、用于在氧化锌陶瓷基片上溅射镀膜形成电极层的掩膜夹具
40、金属陶瓷材料及其镀膜方法
41、一种陶瓷表面多层复合镀膜及其配方技术
42、一种陶瓷基板双面镀膜装置
43、用于多孔陶瓷材料表面负载光催化膜真空镀膜装置及方法
44、一种氮化铝陶瓷基板的镀膜方法
45、一种适用于多孔陶瓷基光催化填料块压渗镀膜装置及方法
46、用于多孔陶瓷材料表面负载光催化膜的高压振动镀膜装置
47、氧化锌锡陶瓷靶的制备工艺及使用该靶材制备氧化锌锡镀膜的方法
48、组合式压缩机钛基纳米陶瓷镀膜耐磨活塞环
49、一种镀膜原片玻璃/蓝宝石/陶瓷及其制作方法
50、多孔陶瓷管的内外壁压差化学镀设备及其镀膜方法
51、一种不锈钢氮化铝双层陶瓷镀膜全玻璃真空集热管的制造工艺
52、一种多介质陶瓷低辐射镀膜玻璃
53、陶瓷基片表面镀膜工艺
54、将陶瓷靶应用于磁控溅射镀膜玻璃的生产工艺
55、使用旋转陶瓷靶制造镀膜玻璃的工艺
56、微波食品包装阻隔膜及制备法与磁控溅射法陶瓷镀膜装置
57、金黄色镀膜玻璃或陶瓷的制造方法
58、陶瓷真空镀膜工艺方法
59、电子陶瓷连续式溅射镀膜设备
60、在陶瓷釉面砖上制备纳米薄膜的方法及纳米薄膜镀膜机
61、一种陶瓷制品的多弧离子镀膜方法
62、陶瓷镀膜式渔竿导眼环及其加工方法
63、用陶瓷镀膜和难氧化金属镀膜的金属箔及金属薄材
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,内容都包括具体的配方配比生产制作过程，费用260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
