1 一种钼钛合金靶材的制造方法
简介：本技术提供了一种钼钛合金靶材的制造方法，其解决了现有大尺寸MoTi合金靶材制造方法工序及设备成本高、难以达到合适的加工率的问题。该方法包括：选取钼粉和钛粉，钼粉的平均粒径小于20μm，钛粉的平均粒径为10‑300μm；在惰性气体的保护条件下，混合钼粉和钛粉；对混合粉末冷等静压成型；对成型的钼钛混合粉末进行加压烧结，得到钼钛压锭；加压烧结过程的压力为75‑300MPa，温度为650‑1000℃，时间为2‑12小时；对钼钛压锭进行压延，达到需求尺寸；对压延后的钼钛板进行热处理，以形成靶材溅射所需的再结晶组织，得到靶材板。本技术相较于现有生产方式而言成本较低、且不受设备尺寸限制。
2 一种钛硅钼合金靶材及其配方技术
简介：本技术提供了一种钛硅钼合金靶材及其配方技术，其配方技术包括：将硅粉和钼粉在真空或高纯氩气保护下混合；将混合后的钼‑硅粉末烧结，获得钼硅合金块；将所述钼硅合金块破碎成钼硅合金粉；将钛粉与所述钼硅合金粉在真空或高纯氩气保护下混合；将混合均匀的所述钛粉与所述钼硅合金粉进行冷等静压压制，获得钛硅钼合金坯料；将所述钛硅钼合金坯料装入包套中，进行脱气处理；将经脱气处理的包套封焊后，通过热等静压烧结获得合金锭坯；将压制后的所述合金锭坯依次进行机加工和清洗，获得钛硅钼合金靶材。本技术制得的钛硅钼合金靶材具有致密度高、无气孔和偏析，组织均匀，晶粒细小，规格尺寸多等优点。
3 一种钛铝钼合金靶材及其配方技术
简介：本技术提供了一种钛铝钼合金靶材及其配方技术，其配方技术包括：将钛粉、铝粉和钼粉在真空或高纯氩气保护下混合；将混合后的混合粉末通过冷等静压压制，获得钛铝钼合金坯料；将所述钛铝钼合金坯料进行整形处理，使所述钛铝钼合金坯料的形状为预设形状；将整形处理后的所述钛铝钼合金坯料装入包套中，进行脱气处理；将经脱气处理的包套封焊后，通过热等静压烧结获得合金锭坯；将压制后的所述合金锭坯依次进行机加工和清洗，获得钛铝钼合金靶材。本技术制得的钛铝钼合金靶材具有致密度高、无气孔和偏析，组织均匀，晶粒细小，规格尺寸多等优点。
4 掺杂氧化钨靶材及其配方技术
简介：本技术是关于一种掺杂氧化钨靶材及其配方技术，其配方技术包括：将氧化钨活化并粉磨,得到活化氧化钨；将掺杂氧化物活化并粉磨，得到活化掺杂氧化物，其中，所述掺杂氧化物为钛、镍、钽、铼、铱、钼、铌、硅、锡、锌、锆和锗中一种或多种组成的氧化物；将所述的活化氧化钨和活化掺杂氧化物混合均匀，压制，得到坯体；将所述的坯体烧结，得到掺杂氧化钨靶材；其中，所述的活化氧化钨与活化掺杂氧化物的粒度比与摩尔比的关系式如下：本技术通过建立粒度与摩尔比之间的关系，得到成分均匀、致密度高的电致变色用掺杂氧化钨靶材；掺杂氧化钨靶材具有一定的导电性，可使用直流或中频电源。
5 一种钼钠合金旋转靶的配方技术
简介：本技术提供了一种钼钠合金旋转靶的配方技术，包括制备球形钼粉颗粒的步骤，通过将球形钼粉颗粒装入管靶模具中冷等静压制成型以及将压制好的粉质钼管坯预烧结处理获得理想孔隙度范围的钼管坯，再通过熔渗钼酸钠获得需求钠含量的钼钠合金管坯体，将钼钠合金管坯体装入钛板卷制的空心管状模具中完成真空封口焊接，最后通过热等静压制进一步提高钼钠合金旋转靶密度，本技术制得的旋转靶的相对密度＞98.0%，Na含量处于0.5%‑2.5%之间，本技术制成的靶材密度高，成分均匀，可进行后续的机械加工，镀膜效果好并且能够快速实现国产化量产。
6 一种多靶共溅射制备不同成分和掺杂比薄膜的方法
简介：本技术提供了一种多靶共溅射制备不同成分和掺杂比薄膜的方法。通过常温磁控溅射镀膜系统这一传统镀膜手段，以V为例，引入多靶共溅射的方式制备不同掺杂成分和掺杂比的V薄膜，然后通过氧化退火工艺实现不同掺杂成分和掺杂比VO2薄膜的制备，以此来调节VO2薄膜的相变温度，可广泛应用在非制冷红外焦平面、光学开关和智能节能玻璃等领域。所掺杂的原子可以为钨、钼、钛、钽、氟和铌中的一种或组合，所使用的靶材数目可根据具体情况选择两个或者多个。多靶共溅射制备掺杂薄膜的方法有效地避免了传统溅射方法不同掺杂成分和掺杂比需要多个不同靶材的问题，大大降低了制备成本，同时提高了掺杂的灵活性和多样性，与大规模镀膜生产线相匹配等特点。
7 一种用于电致变色玻璃的金属靶材及其配方技术和应用方法
简介：本技术提供了一种用于电致变色玻璃的金属靶材及其配方技术和应用方法。用于电致变色玻璃的金属靶材包括第一金属靶材和第二金属靶材，其中第一金属靶材为金属钨、钼、铌或钛中的一种；第二金属靶材包括质量比为1:0.05‑0.3:0.2‑0.26的镍、铬和氧化锂；其配方技术包括：第一金属靶材的配方技术为：将金属钨、钼、铌或钛中的一种采用热压或包套热等静压方式制作成靶材；所述第二金属靶材的配方技术为：将镍、铬和氧化锂混合，充分搅拌22‑26h，利用热压或热等静压的方式制作成靶材。本技术的用于电致变色玻璃的金属靶材具有成膜时间短，生产效率高，靶材制作难度低，适用于大规模生产的优点。
8 用于x射线生成的薄片状靶
简介：提供了一种方法和系统，用于使用薄片状靶产生样本的x射线图像以改善成像分辨率和图像获取时间之间的通常折衷。电子射束垂直于薄片的较窄尺寸撞击薄片状靶，所述较窄尺寸随后确定沿着该轴的实际源尺寸。对于低能量x射线生成，平行于薄片的较宽尺寸的小电子穿透深度确定沿着该轴的实际源尺寸。在相同成像分辨率情况下，与柱状靶相比，靶的传导冷却得到改善。薄片状靶足够长以确保电子射束不会撞击支撑结构，撞击支撑结构将会降低成像分辨率。靶材料可选自用于块状或柱状靶的相同金属，包括钨、钼、钛、钪、钒、银或难熔金属。
9 用于CT球管的阳极靶盘及其配方技术
简介：用于CT球管的阳极靶盘及其配方技术，其特征在于，阳极靶盘由靶盘靶面和靶盘基体两部分组成，靶盘靶面由质量分数41‑46％的钨粉、50‑55％碳化铪粉+碳化钽粉、2.5‑3.0％铼粉和1.0‑1.2％稀土氧化物Y2O3粉烧结而成，靶盘基体由石墨粉和钼粉烧结而成，在石墨和钼之间，加入了质量分数45％Ni+51％Ti+4％Re的镍钛铼合金粉做中间层，中间层厚度1.0‑2.5mm。本技术阳极靶盘具有优异的抗高温性能，使用效果良好。
10 一种制备钼钛合金溅射靶材的方法
简介：本技术提供了一种制备钼钛合金溅射靶材的方法，该方法为：一、用多孔筛筛选出海绵钛；二、将钼粉和筛选出的海绵钛进行机械混合得到混合料；三、将制成的混合料和平均粒度不超过15mm的海绵钛按照下层海绵钛、中层混合料和上层海绵钛的顺序进行布料，压制后制成钼钛合金电极；四、将制备的钼钛合金电极置于真空自耗电弧熔炼炉中进行熔炼，得到钼钛合金铸锭；五、将钼钛合金铸锭经过表面处理后，切割成特定形状的钼钛合金溅射靶材。本技术制备的钼钛合金靶材较传统粉末冶金方法制备的合金靶材具有工艺简单、成本低、尺寸可调范围广的特点，而且制备的合金靶致密、成分均匀性良好，品质稳定，适合大批量工业化生产。
11 铬合金靶材
12 用于制造吸光层的溅射靶材
13 一种在金属材料表面获得固态高润滑膜层的铝基二硫化钼靶材及其配方技术
14 一种用于喷涂硅铝靶材打底层的合金及其配方技术
15 一种用于铸造旋转锡靶材打底层的合金丝及其配方技术
16 一种高纯、高致密、大尺寸钼钛合金溅射靶材的配方技术
17 钼钛靶坯的制造方法
18 钼钛靶材的制造方法
19 钼钛合金靶材及其生产方法
20 一种钼钛合金溅射靶材板的配方技术
21 一种吸氚靶片配方技术
22 一种高密度、大尺寸、高均匀性钼钛合金靶材的配方技术
23 钼合金靶材的制法
24 铜硅合金溅镀靶材及铜硅合金记录层
25 一种钼钛合金靶材的配方技术
26 一种复合靶真空表面镀膜工艺
27 溅射靶及其配方技术
28 金属混合真空溅射合金靶材材料及其制作方法及用途
29 氧化物烧结体和其制造方法、靶及透明导电膜
30 含钼靶材
31 含钼靶材
32 含钼靶材
33 含钼靶材
34 透明导电膜及其制造方法以及用于其制造的溅射靶材
35 钼合金和使用该钼合金的X射线管旋转阳极靶、X射线管及熔融坩锅
36 制造钼钛溅射板和靶的方法
37 磁介质中的软磁衬层和基于软磁合金的溅射靶
38 用于制造或再加工溅射靶和Ｘ－射线阳极的涂覆方法
39 形成三维物理汽相沉积靶的方法
40 增强型溅射靶合金成分
41 具有均匀晶粒结构的钼合金X射线靶
42 金属溅镀靶材的制造方法
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
