5、一种硅片化学机械精抛抛光液的配方技术
[简介]：本技术涉及电子材料领域，具体关于一种硅片化学机械精抛抛光液的配方技术；本技术制备了一种用于硅片精抛的抛光液，该种抛光液所使用的磨料为一种改性有机改性纳米二氧化硅溶胶，该种改性有机改性纳米二氧化硅溶胶在二氧化硅离子表面接枝了水溶性大分子和3?氨丙基三乙氧基硅烷，这些有机基团的加入能有效减少二氧化硅粒子在抛光过程中对抛光面的损伤，降低抛光面的粗糙度，提高硅片的抛光水平；本技术的改性方法工艺简单，反应易于控制，重复性好，制备的抛光液的抛光效果明显，适合用于硅片的精抛领域。
6、一种化学机械抛光液及化学机械抛光方法
[简介]：本技术提供了一种化学机械抛光液及化学机械抛光方法，其中方法包括以下步骤：a.配置化学机械抛光液，其中，所述化学机械抛光液含有1~10%的胶体二氧化硅、1?20mM/L的过硫酸钾、1?20mM/L的苯并三氮唑以及余量的水和pH调节剂，使得所述抛光液pH为10?11；b.以100?300mL/min的流量向化学机械抛光垫散布抛光液并对承载头施加1?2psi的压力，对基板的铜互连钴阻挡层结构进行60?120s的化学机械抛光作业。
7、一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
[简介]：本技术提供了一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，包括研磨颗粒、水、一种或多种的氧化剂和降低硅片表面粗糙度的非离子表面活性剂；以重量百分比浓度计，包括研磨颗粒0.1?30％，氧化剂0.1?20％，非离子表面活性剂0.001?5％。本技术可以在碱性条件下显著改变多晶硅的去除速率，较低的硅表面粗糙度，调节多晶硅与二氧化硅的选择比，并明显提高多晶硅的平坦化效率和抛光残留物的去除。
8、一种用于半导体碳化硅芯片的化学机械抛光液
[简介]：本技术提供一种用于半导体碳化硅芯片的化学机械抛光液，涉及碳化硅芯片加工中的化学机械抛光领域，其技术方案要点是：该抛光液由以下重量百分比的组分组成：复合磨料25?50wt％；强氧化剂0.1～5.0wt％；分散稳定剂0.1～5.0wt％；润湿剂0.1～5.0wt％；表面活性剂0.05～1.0wt％；PH调节剂0.01～1.0wt％；PH稳定剂0.01～1.0wt％；其余为去离子水。本技术通过向单一磨粒抛光液中加入其他磨料粒子，利用复合磨粒抛光液对碳化硅芯片进行化学机械抛光，既能减少对抛光碳化硅芯片表面的划伤情况，又能大大提高硅片的抛光速率，而且在抛光液中添加PH稳定剂，能在存放过程中保证溶液pH值不产生变化，进而保证抛光液的质量和使用效果。
9、一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液
[简介]：本技术提供了一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，包括：磨料、氧化剂、生物缓冲液、pH调节剂和水性介质，所述磨料为硅溶胶(SiO2)和铝溶胶(Al2O3)中的其中一种或者两者的混合物，所述磨料的重量百分比浓度为1％?40％，所述生物缓冲液的重量百分比浓度为0.05％?5％，所述氧化剂的重量百分比浓度为0.2％?10％；所述抛光液的pH值为7?11。本技术技术方案旨在提出一种能在碱性溶液中有效达成优良去除率和粗糙度的抛光液。
10、一种用于微晶玻璃的化学机械抛光液
[简介]：本技术提供了一种用于微晶玻璃的化学机械抛光液，其组成成分及质量百分含量如下：复合磨料10％?30％、前腐蚀剂0.1％?0.5％、表面活性剂0.05％?2％、分散剂1?5％、螯合剂0.02％?1％、pH调节剂0.5％?1％、超纯水余量，复合磨料由二氧化硅、二氧化铈、二氧化锆、二氧化钛纳米粒子组成；本技术采用二级处理机制，采用前腐蚀剂进行表面腐蚀，得到平滑、透明的表面，减少抛光量，提高工作效率；进行酸腐蚀后再利用碱将二氧化硅进行转化为可溶于水地物质，不仅可以加快反应速率，也能有效降低表面粗糙度；复合磨料采用多种组合，能够提高抛光出去率，进一步提升工作效率。
11、一种抛光液供给性能核准装置和化学机械抛光系统
12、机械研磨润滑液、包含其的水基研磨抛光液及其应用
13、一种螺旋桨的化学机械抛光液及抛光方法
14、一种化学机械抛光液
15、一种通用化学机械抛光液
16、一种钇铝石榴石晶体的高效高质量化学机械抛光液
17、一种化学机械抛光液及其使用方法
18、用于铅化学机械抛光的粗抛抛光液及抗氧化工艺
19、一种化学机械抛光液
20、一种化学机械抛光液及其使用方法
21、一种化学机械抛光液
22、一种化学机械抛光液
23、一种FV520B材料叶轮叶片的化学机械抛光方法与抛光液
24、一种化学机械抛光液用硅溶胶及其配方技术
25、一种化学机械抛光液
26、一种相变材料复合磨料的化学机械抛光液及其应用
27、一种化学机械抛光液用氧化铝及其制备工艺
28、氮化镓化学机械抛光液及其配方技术
29、用于Ge-As-Se硫系玻璃光学表面加工的化学机械抛光液
30、一种化学机械抛光液
31、一种化学机械抛光液及其使用方法
32、一种蓝宝石衬底的高效混合磨料化学机械抛光液
33、一种铜化学机械抛光液及其配方技术
34、一种化学机械抛光液及其在铜抛光中的应用
35、一种化学机械抛光液
36、一种化学机械抛光液
37、一种二氧化硅溶胶的配方技术及蓝宝石化学机械抛光液
38、用于铅化学机械抛光的抛光液及抗氧化工艺
39、一种整体叶轮的绿色环保混合化学机械抛光液与抛光方法
40、一种化学机械抛光液
41、一种蓝宝石磁流变化学机械抛光液的配方技术
42、一种化学机械抛光液
43、一种化学机械抛光液
44、一种化学机械抛光液及其应用
45、适用于不锈钢抛光的化学机械抛光液及其用途
46、一种用于相变材料GeSbTe的化学机械抛光液
47、一种精密机械部件用抛光液及其加工方法
48、一种化学机械抛光液及其应用
49、一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法
50、一种高精度机械抛光液配方技术
51、一种化学机械抛光液
52、可更换抛光液的光化学机械加工平台及抛光液更换方法
53、一种化学机械抛光液
54、适用于蓝宝石抛光的化学机械抛光液
55、一种化学机械抛光液及其应用
56、一种化学机械抛光液及其应用
57、一种化学机械抛光液
58、一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法
59、一种用于机械的抛光液及其加工工艺
60、一种化学机械抛光液
61、一种化学机械抛光液及其应用
62、一种化学机械抛光液及其应用
63、一种铜片化学机械抛光液
64、一种化学机械抛光液
65、一种用于混合抛光液的机械分散方法
66、一种化学机械抛光液
67、一种蓝宝石化学机械抛光液及其配方技术
68、一种化学机械抛光液及其应用
69、一种高精度机械抛光液配方技术
70、一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及其应用
71、一种化学机械抛光液及其应用
72、一种化学机械抛光液
73、一种化学机械抛光液
74、一种用于抛光钨的化学机械抛光液
75、一种304不锈钢化学机械抛光用抛光剂和抛光液及其配方技术
76、一种化学机械抛光液
77、一种化学机械抛光液
78、一种化学机械抛光液
79、一种化学机械抛光液
80、一种化学机械抛光液
81、一种化学机械抛光液
82、一种化学机械抛光液
83、一种低污染环保型化学机械抛光液
84、一种用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光液及其配方技术和用途
85、一种化学机械抛光液
86、一种化学机械抛光液
87、一种氮化镓晶片光电化学机械抛光液及抛光方法
88、一种化学机械抛光液
89、一种化学机械抛光液
90、一种化学机械抛光液
91、一种化学机械抛光液
92、一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其配方技术
93、一种化学机械抛光液
94、一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液
95、一种锗晶体化学机械抛光的抛光液及使用方法
96、一种氧化铝基化学机械抛光液
97、一种精密加工用化学机械抛光液
98、一种化学机械抛光液
99、一种化学机械抛光液
100、一种化学机械抛光液
101、一种化学机械抛光液
102、一种具有高氮化硅选择性的化学机械抛光液
103、一种化学机械抛光液及其应用
104、一种氮化硅化学机械抛光液
105、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
106、一种绿色无毒化学机械抛光液的配方技术
107、一种化学机械抛光液及其配方技术
108、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
109、一种氧化铈晶体的配方技术及其在化学机械抛光液中的应用
110、一种机械部件抛光液的配方技术
111、一种蓝宝石化学机械抛光液
112、一种用于SiC单晶片的磁流变化学机械抛光液及其使用方法
113、一种化学机械抛光液
114、一种化学机械抛光液
115、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
116、一种氧化铝基化学机械抛光液
117、一种化学机械抛光液
118、一种化学机械抛光液及其应用
119、一种制备EBSD样品的机械抛光液、配方技术及机械抛光方法
120、一种化学机械抛光液及其应用
121、一种化学机械抛光液及其配方技术
122、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
123、用于精密机械不锈钢零件的抛光液的配方技术
124、一种机械设备用环保型防锈抛光液
125、一种氮化硅化学机械抛光液
126、一种碱性化学机械抛光液
127、一种用于不锈钢材质的机械设备的抛光液及其配方技术
128、一种纳米级不锈钢精密机械抛光液及其配方技术
129、一种酸性化学机械抛光液
130、一种酸性化学机械抛光液
131、一种用于STI领域的化学机械抛光液及其应用
132、一种酸性化学机械抛光液
133、一种碱性的阻挡层化学机械抛光液
134、一种化学机械抛光液及其应用
135、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
136、一种低污染环保型化学机械抛光液
137、用于钴阻挡层结构化学机械抛光的抛光液及其应用
138、一种化学机械抛光液及其在抛光ULK-铜互连制程中阻挡层的应用
139、一种化学机械抛光液及其应用
140、一种含复合磨料的化学机械抛光液
141、一种化学机械抛光液及其应用
142、一种无腐蚀抗氧化的机械设备抛光液
143、一种化学机械抛光液及其应用
144、一种低污染机械抛光液
145、一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
146、一种氮唑类化合物在提高化学机械抛光液稳定性中的应用
147、一种化学机械抛光液及其配方技术
148、一种碳化硅用机械抛光液及采用其进行机械抛光的方法
149、一种改进的机械加工设备用抛光液
150、一种相变存储器材料用机械抛光液
151、一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
152、一种用于机械设备的无腐蚀的抛光液
153、一种用于钛的化学机械抛光液
154、一种化学机械抛光液
155、一种化学机械抛光液
156、一种适用于钴阻挡层的碱性化学机械抛光液
157、一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
158、一种考虑抛光液影响的特征尺寸级化学机械抛光工艺仿真方法
159、一种含有石墨烯的化学机械抛光液
160、一种化学机械抛光液
161、一种防腐抗摩擦的机械设备抛光液
162、一种具有防锈作用的化学机械抛光液及其配方技术
163、一种化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用
164、一种高效环保型相变存储器用机械抛光液
165、一种用于蓝宝石化学机械平坦化的抛光液
166、一种稳定的机械设备抛光液
167、一种氧化铝基化学机械抛光液
168、一种化学机械抛光液
169、一种化学机械抛光液
170、一种新型用于机械设备的抛光液
171、一种低价电材料机械抛光液
172、一种硅化学机械抛光液
173、锗晶体化学机械抛光的抛光液及使用方法
174、一种氧化铝基化学机械抛光液
175、一种化学机械抛光液及其应用
176、一种化学机械抛光液及其应用
177、一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其配方技术和用途
178、一种化学机械抛光液
179、一种用于抛光二氧化硅基材的化学机械抛光液
180、一种碱性阻挡层化学机械抛光液
181、一种环保介电层材料化学机械抛光液
182、一种二氧化硅介电材料用化学机械抛光液及其配方技术
183、一种存储器用机械抛光液
184、一种化学机械抛光液及其应用
185、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
186、一种化学机械抛光液及其应用
187、一种化学机械抛光液及其使用方法
188、一种用于铝的化学机械抛光液及使用方法
189、一种机械设备无腐蚀的抛光液
190、一种用于抛光硅材料的化学机械抛光液
191、一种用于钴阻挡层抛光的化学机械抛光液
192、一种碱性化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用
193、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
194、一种相变材料用机械抛光液
195、一种化学机械抛光液及其应用
196、一种化学机械抛光液
197、一种化学机械抛光液以及应用
198、一种介电层材料化学机械抛光液
199、一种化学机械抛光液以及抛光方法
200、一种应用于STI领域的化学机械抛光液及其使用方法
201、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
202、一种化学机械抛光液以及抛光方法
203、一种用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
204、一种化学机械设备抛光液
205、含硅有机化合物在延长化学机械抛光液中研磨颗粒稳定性中的应用
206、一种自停止的GST化学机械抛光液及其配方技术和应用
207、一种化学机械抛光用纳米抛光液
208、一种化学机械抛光液以及抛光方法
209、一种化学机械抛光液及使用方法
210、一种化学机械抛光液
211、一种碱性化学机械抛光液
212、一种化学机械抛光液
213、一种用于硅通孔平坦化的化学机械抛光液
214、化学机械抛光液、系统和方法
215、一种化学机械抛光液
216、一种用于硅通孔平坦化的化学机械抛光液
217、一种计算机硬盘的化学机械抛光液
218、环境友好型钛合金化学机械抛光液
219、一种酸性化学机械抛光液
220、软脆易潮解晶体化学机械抛光用无水无磨料抛光液
221、一种酸性化学机械抛光液
222、一种化学机械抛光液
223、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
224、一种化学机械抛光液及抛光方法
225、一种氧化硅介电材料用化学机械抛光液
226、一种GST中性化学机械抛光液
227、一种酸性化学机械抛光液
228、一种碱性化学机械抛光液
229、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
230、一种化学机械抛光液及抛光方法
231、一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
232、一种碱性化学机械抛光液
233、一种化学机械抛光液及其应用
234、一种化学机械抛光液
235、一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
236、一种化学机械抛光液及其应用
237、Al衬底用化学机械抛光液
238、一种化学机械抛光液
239、一种化学机械抛光液的应用
240、一种化学机械抛光液
241、一种碱性化学机械抛光液
242、一种化学机械抛光液
243、一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法及抛光液
244、一种用于硅通孔阻挡层平坦化的化学机械抛光液
245、化学机械抛光液
246、一种利于抛光后清洗的钨化学机械抛光液
247、一种实现化学机械研磨过程中抛光液温度控制的系统
248、一种用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液及应用
249、一种化学机械抛光液
250、一种化学机械抛光液
251、一种抛光钨的化学机械抛光液
252、一种用于氧化镍薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
253、一种实现化学机械研磨过程中抛光液温度控制的系统
254、抛光液厚度测量装置、测量方法和化学机械抛光设备
255、一种用于氧化钛薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
256、一种用于氧化锌化学机械平坦化的酸性纳米抛光液及应用
257、一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液及其应用
258、水基6H-SiC单晶衬底化学机械抛光液及其配方技术
259、一种用于硫系相变材料的化学机械抛光方法
260、一种化学机械抛光液
261、抛光液物理参数测量装置、测量方法和化学机械抛光设备
262、一种化学机械抛光液
263、一种集成电路铜互连结构中铜的电化学机械抛光液
264、一种用于硬盘NiP的电化学机械抛光的抛光液
265、一种用于化学机械抛光液的复合磨料及其配方技术和应用
266、一种化学机械抛光液
267、化学机械抛光的抛光液及输送系统
268、一种化学机械抛光液
269、镁铝合金材料表面化学机械抛光液的配方技术
270、一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法
271、一种含有机酸性物质的化学机械抛光液
272、超大规模集成电路硅衬底的化学机械抛光液配方技术
273、一种化学机械抛光液
274、化学机械抛光液和抛光方法
275、二氧化硅介质化学机械抛光液的配方技术
276、一种化学机械抛光液
277、用于化学机械抛光设备及方法的抛光液分配器
278、一种用于3D封装TSV硅抛光的化学机械抛光液
279、一种化学机械抛光液
280、一种化学机械抛光液
281、可控氧化硅去除速率的化学机械抛光液
282、硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液
283、一种化学机械抛光液
284、钨钼合金材料化学机械抛光液的配方技术
285、高浓度Ti阻挡层表面化学机械抛光液的配方技术
286、锑化铟材料表面化学机械抛光液的配方技术
287、一种化学机械抛光液
288、一种化学机械抛光液
289、一种含氮胺类化合物的化学机械抛光液
290、一种化学机械抛光液
291、一种化学机械抛光液及其应用
292、一种化学机械抛光液
293、一种化学机械抛光液及其使用方法
294、一种化学机械抛光液
295、一种大尺寸硅片用化学机械抛光液及其配方技术
296、一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
297、一种化学机械抛光液
298、一种化学机械抛光液
299、一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
300、一种化学机械抛光液
301、钽化学机械抛光液的配方技术
302、一种化学机械抛光液
303、核/壳型复合纳米磨料铜化学机械抛光液
304、一种化学机械抛光液
305、一种化学机械抛光液
306、一种化学机械抛光液
307、一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
308、一种化学机械抛光液
309、用于抛光半导体晶片的化学机械抛光液
310、一种用于抛光合金相变材料的化学机械抛光液
311、一种化学机械抛光液
312、一种化学机械抛光液
313、一种抛光钨的化学机械抛光液
314、一种化学机械抛光液
315、ULSI铜表面高精密加工过程中化学机械抛光液的配方技术
316、一种化学机械抛光液
317、一种化学机械抛光液
318、一种化学机械抛光液
319、一种用于钽阻挡抛光的化学机械抛光液
320、一种化学机械抛光液
321、一种化学机械抛光液
322、一种化学机械抛光液
323、一种化学机械抛光液
324、一种化学机械抛光液
325、一种化学机械抛光液
326、一种化学机械抛光液
327、一种化学机械抛光液
328、一种化学机械抛光液
329、高去除率、低损伤的铜化学机械抛光液及配方技术
330、一种化学机械抛光液
331、一种化学机械抛光液
332、一种用于化学机械研磨的抛光液
333、降低铜化学机械抛光粗糙度的抛光液
334、一种化学机械抛光液及其配方技术
335、一种化学机械抛光液
336、一种化学机械抛光液
337、SiSb基相变材料用化学机械抛光液
338、一种化学机械抛光液及其应用
339、一种化学机械抛光液
340、一种化学机械抛光液
341、一种化学机械抛光液
342、一种化学机械抛光液
343、一种化学机械抛光液
344、一种用于钨化学机械抛光的抛光液
345、用于单晶硅片化学机械抛光的抛光液
346、一种化学机械抛光液
347、一种化学机械抛光液
348、一种化学机械抛光液
349、一种用于化学机械研磨的抛光液
350、一种化学机械抛光液
351、一种用于多晶硅抛光的化学机械抛光液
352、一种化学机械抛光液
353、一种化学机械抛光液
354、一种化学机械抛光液
355、一种化学机械抛光液
356、一种化学机械抛光半导体晶片用的抛光液
357、一种多晶硅化学机械抛光液
358、一种化学机械抛光液
359、用氧化铈化学机械抛光液抛光硫系化合物相变材料的方法
360、一种化学机械抛光液
361、一种化学机械抛光液
362、一种化学机械抛光液
363、一种化学机械抛光液
364、一种化学机械抛光液
365、一种用于化学机械研磨的抛光液
366、一种化学机械抛光液
367、一种化学机械抛光液
368、一种化学机械抛光液
369、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
370、一种化学机械抛光液
371、一种集成电路铜布线的无磨粒化学机械抛光液
372、一种化学机械抛光液
373、一种化学机械抛光液
374、一种化学机械抛光液
375、一种化学机械抛光液
376、多晶硅化学机械抛光液
377、一种化学机械抛光液
378、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
379、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
380、一种化学机械抛光液
381、一种化学机械抛光液
382、一种化学机械抛光液
383、一种化学机械抛光液
384、一种化学机械抛光液
385、一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
386、一种化学机械抛光液的制备工艺
387、一种化学机械抛光液
388、用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
389、一种化学机械抛光液
390、一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光液
391、用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
392、一种用于铜制程的化学机械抛光液
393、一种用于铜制程的化学机械抛光液
394、一种阻挡层化学机械抛光液
395、一种化学机械抛光液
396、一种化学机械抛光液
397、一种化学机械抛光液
398、多晶硅化学机械抛光液
399、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
400、水性抛光液和化学机械抛光方法
401、金属化学机械抛光的抛光液原位批处理方法及所使用的装置
402、半导体锑化铟化学机械抛光液
403、一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
404、一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
405、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
406、用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液
407、用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液
408、用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
409、用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法
410、金属化学机械抛光的抛光液原位批处理方法及所使用的装置
411、用于化学机械平坦化的多步抛光液
412、化学机械抛光液及其用途
413、集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液
414、化学机械抛光液
415、硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
416、高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液
417、硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
418、一种化学机械抛光液
419、超大规模集成电路多层铜布线用化学机械全局平面化抛光液
420、铜化学-机械抛光工艺用抛光液
421、超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
422、在半导体晶片化学机械抛光时输送抛光液的系统
423、用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法
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