1、一种铜合金表面抛光液及其配方技术
[简介]：本技术提供一种铜合金表面抛光液及其配方技术，涉及金属抛光液技术领域。本技术抛光液包括磷酸、硫酸、氯化钠、复配缓蚀剂、表面活性剂、甲醇、十二烷基酚聚氧乙烯醚、双氧水、乙醇，其余为去离子水。制备时将去离子水加入反应器内，机械搅拌下依次加入磷酸、硫酸，再依次加入氯化钠、复配缓蚀剂、表面活性剂、十二烷基酚聚氧乙烯醚，最后加入双氧水、甲醇、乙醇，搅拌均匀后得到。本技术主腐蚀体系未采用硝酸和盐酸，不会产生有毒黄烟而对环境和工作人员产生危害，同时具备酸洗、抛光、封闭三种功能，降低了酸洗液、抛光液、封闭液依次处理时的成本；铜合金抛光处理后表面光泽度高，不会产生过蚀现象。
2、一种铜造像表面抛光的方法
[简介]：本技术提供了一种铜造像表面抛光的方法。首先将铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用双氧水浸泡1‑3h；然后将铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡1‑3h；最后将铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗1‑10遍，采用清水清洗干净。本技术的铜造像表面抛光的方法，采用液体抛光液浸泡后，在采用抛光膏打磨，铜造像抛光后光泽度大幅度提高，采用金刚石微粉作为打磨剂，能深入到边角缝隙等不容易打磨的地方，聚丙烯酸酯嵌段共聚物和腐蚀抑制剂的组合使用，在显著提高铜造像的光泽度的同时，提高了其耐腐蚀性能。
3、一种锑化镓晶片的单面抛光方法及锑化镓抛光片
[简介]：本技术涉及半导体材料的加工技术领域，尤其涉及一种锑化镓晶片的单面抛光方法及锑化镓抛光片。所述锑化镓晶片的单面抛光方法包括以下步骤：A)采用粗抛试剂对锑化镓晶片进行单面粗抛；所述粗抛试剂包括硅溶胶抛光液、双氧水、柠檬酸钠、焦磷酸钠和水；B)将所述粗抛后的锑化镓晶片采用精抛试剂进行单面精抛，得到锑化镓抛光片；所述精抛试剂包括硅溶胶抛光液、氧化剂和水。本技术提供的锑化镓晶片的单面抛光方法包括两步抛光：单面粗抛和单面精抛。通过采用特定的粗抛试剂和精抛试剂进行单面粗抛和单面精抛，最终制备的锑化镓抛光片的抛光面平整度较高，粗糙度较低。
4、一种齿轮无载荷整体浸入式化学机械耦合表面抛光方法
[简介]：本技术提供了一种齿轮无载荷整体浸入式化学机械耦合表面抛光方法，抛光时将齿轮整体浸入，不施加任何外部载荷，施以超声辅助，化学与机械、流体与固体相互耦合,高效稳定的对齿轮表面进行抛光。所用自主研制绿色环保抛光液成分主要包括去离子水、碳化硅磨粒、双氧水、磷酸及苹果酸。与其他齿轮零件的表面处理方法相比，本方法可对齿轮进行全面抛光，且在抛光过程中不单独施加外载荷，有效减少了抛光过程中产生的划痕、亚表面损伤等缺陷，抛光后包括曲形齿廓在内的齿轮表面都能达到光滑的要求。此外所研制的抛光液中，不含强酸或强碱等危害人体或环境的化学试剂，绿色环保。
5、一种活化铜材抛光废液的方法
[简介]：本技术涉及铜材抛光技术领域，具体涉及一种活化铜材抛光废液的方法，包括如下步骤：向每升铜材抛光废液中加入0.1‑2mol双氧水搅拌均匀，即活化所述铜材抛光废液；所述铜材抛光废液含Fe<Sup>2+</Sup>，所述铜材抛光废液是由铜材抛光液处理铜材后形成的废液。该活化铜材抛光废液的方法，活化铜材抛光废液的活性，提高铜材抛光废液的有效利用率，从而减少铜材抛光液的用量和废水处理量，降低生产成本和废水处理成本。
6、一种用于铜材表面氧化着色抛光的抛光液及其配方技术
[简介]：本技术提供了一种用于铜材表面氧化着色抛光的抛光液及其配方技术，所述抛光液包括浓度为10‑30%双氧水、2‑5%双氧水稳定剂、3‑5%光亮剂、0.6‑1%缓蚀剂、0.5‑2%催化剂、0.5‑1%铜离子稳定剂及余量的去离子水。本技术中，通过双氧水10~30%、浓硫酸0.5%‑2%、柠檬酸0.5‑1%、硫脲0.6‑1%、乙醇为2‑5%、乙二醇2‑5%、烷基酚聚氧乙烯醚3‑5%及余量的水混合后得到的抛光液对铜材进行抛光处理，双氧水(过氧化氢)作为氧化介质，双氧水可提供优良的氧化能力，通过与其它组分复配能在铜材表面上给予良好的光泽度，在低温环境下，使得双氧水更加稳定，给予铜材表面更优良的光泽度。
7、一种金刚石抛光液的配方技术
[简介]：本技术提供一种金刚石抛光液的配方技术，包括以下步骤：（1）将经两次双氧水处理的金刚石微粉放入硝酸溶液中，回流反应，再用纯水洗去金刚石微粉表面的残留酸液，烘干；（2）称取改性金刚石微粉6‑8%，鞣酸0.1‑0.3%，透明质酸0.5‑2%，聚乙二醇2‑3%，余量为水；（3）将鞣酸溶于水中，得到鞣酸溶液，再将透明质酸加入到鞣酸溶液中，得到混合溶液，再将改性金刚石微粉加入到混合溶液中，超声处理1‑2h，得到分散体系；（4）往步骤（3）所得体系中加入聚乙二醇，体系冷却至10‑15℃，搅拌0.5h后，然后用饱和氢氧化钙溶液调节pH7‑8，并加热继续搅拌反应2‑3h，冷却至室温即可。本技术中，金刚石微粉经过改性处理，其表面增加了含氧基团，有利于金刚石微粉的分散。
8、一种含高铁酸盐的碳化硅抛光液及其配方技术和应用
[简介]：本技术提供了一种含高铁酸盐的碳化硅抛光液，所述碳化硅抛光液由研磨剂颗粒、高铁酸盐、双氧水、硝酸和去离子水组成，且所述碳化硅抛光液pH值为1～7。本技术的碳化硅抛光液，具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光。本技术还提供了一种含高铁酸盐的碳化硅抛光液的配方技术和应用。
9、一种改善8英寸抛光片背封药液不良的方法
[简介]：本技术提供了一种改善8英寸抛光片背封药液不良的方法，其实验方法包括以下步骤：S1、首先将8寸直拉酸腐硅片、氨水、盐酸、双氧水、硅烷、去离子水、按照组分的重量份比称取各相应比例的组分，并放置到相应的储存器皿内部进行备用；S2、然后将称量配比好的8寸直拉酸腐硅片、氨水、盐酸、双氧水、硅烷、去离子水导入到混合器皿内部进行反应，然后通过Pre‑cvd清洗机对8寸直拉酸腐硅片进行LTO前清洗处理工作，并在清洗过程中添加适当的清洗药液，并根据实际需要进行实时调整设备腔体压力，使设备腔体内部的压力能够保持平衡，S3、最后可通过APCVD设备对清洗后的的硅片进行常压化学气相淀积工艺处理，从而能够进行单面制备二氧化硅膜。
10、一种降低硅片边缘抛光碎片率的工艺
[简介]：本技术提供了一种降低硅片边缘抛光碎片率的工艺，其实验工艺包括以下步骤：S1、首先将8寸直拉酸腐硅片、氨水、盐酸、双氧水、氢氟酸、去离子水、按照组分的重量份比称取各相应比例的组分，并放置到相应的储存器皿内部进行备用；S2、然后将8寸直拉酸腐硅片放置到BBS边缘抛光机上进行边缘抛光处理，边缘抛光处理完成后，可将称量配比好的8寸直拉酸腐硅片、氨水、盐酸、双氧水、氢氟酸、去离子水导入到清洗机内部对边抛硅片进行清洗处理，并在清洗过程中添加适当的清洗药液；S3、最后可将清洗完成后的8寸直拉酸腐硅片放置到强光灯下，通过实时观察检验硅片边缘缺陷情况，并且将硅片放置到显微镜下。
11、一种12英寸硅抛光片加工的工艺方法
12、一种金属离子辅助非硝酸抛光方法
13、用于Ge-As-Se硫系玻璃光学表面加工的化学机械抛光液
14、一种筒形细长薄壁纯铜样品池的化学机械抛光方法
15、抛光液供给装置
16、一种用于黄铜紫铜焊接材料的化学抛光液及其使用方法
17、一种金属间化合物抛光液及金属间化合物轮廓线显示方法
18、一种从废有机硅浆渣提取铜和氧化硅抛光粉的方法
19、一种碳化硅单晶抛光片衬底的最终清洗方法
20、一种钢带无尘环保型抛光装置
21、一种无胶抛光片的配方技术
22、一种化学抛光液及化学抛光工艺
23、一种钛合金的环保抛光电解液及抛光方法
24、一种新能源汽车表面用抛光剂及其配方技术
25、一种无烟铝合金抛光液的配方技术
26、一种混合抛光液及其生产工艺
27、一种抛光粉回收工艺
28、一种精密加工用化学机械抛光液
29、一种机械设备不锈钢材料抛光剂及其配方技术
30、一种抛光剂、不锈钢件及其表面抛光处理方法
31、一种抛光剂、不锈钢件及其抛光处理方法
32、一种化学研磨抛光液及研磨抛光方法
33、一种不锈钢化学抛光液
34、含铜零件表面处理用抛光剂
35、一种铸造纯钛及钛合金金相试样机械抛光制样方法
36、双氧水体系抛光液以及在该双氧水体系抛光液中抛光THGEM膜的方法
37、用于光学镜片的抛光液
38、一种抛光剂及其配方技术
39、镍基合金固结磨料研磨及化学机械抛光方法
40、钛合金研磨及化学机械抛光方法
41、用于化学机械抛光圆片级超薄硅片的临时黏合方法
42、一种适用于塔材抛光的化学抛光剂及使用方法
43、一种高效率的金属抛光液
44、适用于电厂锅炉设备及管道的抛光剂及使用方法
45、一种用于高硅铝合金材料的抛光液
46、控制GLSI多层铜布线精抛碟形坑延伸的碱性抛光液应用
47、一种用于碲锌镉材料化学抛光的腐蚀液
48、一种高硅铝合金化学抛光剂及使用方法
49、一种化学抛光剂及电站锅炉受热面管金相的现场检测方法
50、一种TSV晶圆表面抛光方法
51、一种碱性化学机械抛光液
52、一种铌酸锂晶体高效超光滑化学机械抛光方法
53、一种用于金属零件的抛光液
54、一种用于机械设备的无腐蚀的抛光液
55、一种铜及其合金的化学抛光方法
56、一种新型用于机械设备的抛光液
57、一种抛光纤维素酶重复使用方法
58、磷化铟切割片化学抛光液及磷化铟切割片的位错测定方法
59、一种铜抛光剂及其配方技术
60、一种不锈钢化学抛光剂及抛光方法
61、一种不锈钢化学抛光液
62、含引发剂的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物及其配方技术
63、一种铜抛光的方法
64、含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物及其配方技术
65、一种氧化硅抛光液及其配方技术
66、一种环保型铜制品用化学抛光液及其配方技术
67、一种用于钢铁基体化学镀铜的化学抛光液
68、一种II-VI族软脆晶体研磨抛光方法
69、用于不锈钢产品表面抛光的化学抛光剂和配制方法以及抛光方法
70、一种化学机械抛光液
71、一种适用于塔材抛光的化学抛光剂及使用方法
72、一种用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂及其应用
73、铈基混合稀土抛光粉的配方技术
74、一种铜及合金表面处理用的化学抛光剂及其配方技术
75、一种单晶硅晶圆抛光片的清洗方法
76、一种涂层导体用不锈钢基带的抛光工艺
77、适用于精细雾化CMP的铜抛光液
78、高光泽度铝型材的无烟抛光处理溶液及使用方法
79、蓝宝石抛光后的清洗方法
80、一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液
81、一种取代铜酸洗工艺的处理铜及铜合金表面的抛光液
82、马氏体高合金耐热钢金相检测抛光剂及其应用
83、一种取代铜酸洗工艺的处理铜及铜合金表面的抛光液
84、一种抛光的方法
85、铜互连工艺中的化学机械抛光方法
86、一种化学机械抛光液
87、一种化学抛光液及抛光方法
88、用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及配方技术
89、一种化学机械抛光制程、双氧水的用途和清洗方法
90、一种化学机械抛光液
91、一种化学机械抛光液
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,内容都包括具体的配方配比生产制作过程，费用260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
