1、一种用于镍基单晶高温合金各向异性等速去除的抛光液
[简介]：本技术提供了一种用于镍基单晶高温合金各向异性等速去除的抛光液，包括以下重量份原料：0.01～40wt％的研磨颗粒、0.01～10wt％的金属氧化剂和0.01～10wt％的金属络合剂，其余组分为去离子水和pH值调节剂，抛光液的pH值为2～10；研磨颗粒包括金刚石材料和/或金属氧化物。本技术提供的用于镍基单晶高温合金各向异性等速去除的抛光液，可以通过调整氧化剂浓度和pH值对镍基单晶高温合金不同晶面的各向异性进行等速去除，并且使得镍基单晶高温合金获得亚纳米级表面粗糙度和趋近于零的亚表面损伤。
2、一种碳化硅衬底研磨用抛光液、抛光液套剂及研磨方法
[简介]：本技术提供了一种碳化硅衬底研磨用抛光液及抛光液套剂，所述抛光液的原料中含有高锰酸盐、研磨粒子、金属盐添加剂和水，其中，按照质量百分比计包含高锰酸盐0.1%‑50%、研磨粒子0.01%‑30%、金属盐添加剂0.01%‑10%，通过pH调节剂调节抛光液的pH值小于7，所述研磨粒子中包含氧化铈。本技术的抛光液组分简单，所采用比碳化硅衬底的硬度低的研磨粒子能够减少抛光过程中对碳化硅表面的划痕，提高碳化硅表面的粗糙度，且采用本技术的抛光液在抛光过程中能够提高碳化硅衬底的减薄速率。
3、一种用于加工超光滑低损伤钽钨合金表面的抛光液及应用
[简介]：本技术提供了一种用于加工超光滑低损伤钽钨合金表面的抛光液及应用，抛光液包括以下组分：0.01～40wt％的研磨颗粒、0～10wt％的氧化剂、0.01～1wt％的阳离子、0.01～1wt％的pH缓冲剂，其余为超纯水，以及少量pH值调节剂；所述pH值调节剂用于将抛光液的pH值调节为2.5～5；wt％表示质量百分比。本技术的抛光液利用氧化剂调控钽、钨的电化学腐蚀，特别是钽、钨之间的电偶腐蚀，实现高表面质量；利用阳离子调控钽钨合金表面与研磨颗粒之间的相互作用，提高材料去除速率，最终实现超光滑低损伤钽钨合金表面，表面粗糙度达到亚纳米级，帮助提升钽钨合金部件的使役性能。
4、一种醇醚碳化硅抛光液及其配方技术和应用
[简介]：本技术提供了一种醇醚碳化硅抛光液，其由以下质量浓度的原料组成：0.1～40％研磨剂颗粒、50～97％醇醚、2～30％非水稀释剂、0.5～20％氧化剂和0.2～5％pH调节剂，且所述碳化硅抛光液pH值为2～12。本技术的碳化硅抛光液，不仅具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，而且无挥发性和重金属污染问题，易于长期储存，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光。本技术还提供了一种醇醚碳化硅抛光液的配方技术和应用。
5、一种化学机械抛光液
[简介]：本技术涉及机械抛光液技术领域，具体为一种化学机械抛光液，由研磨剂、金属腐蚀抑制剂、促进剂、氧化剂、非离子表面活性剂、络合剂和离子水组成，其中所述促进剂为炭纤维粉、石墨烯粉末和生物类黄酮；本技术通过加入炭纤维粉、石墨烯粉末和生物类黄酮制成的促进剂，通过促进剂中的炭纤维粉使抛光速率进行提升，通过促进剂中的石墨烯粉末和生物类黄酮使化学机械抛光液中有有毒物质减少，因此，能更好的协调抛光液的组分，使得抛光速率大大增加，并且使机械抛光液使用更加安全，使抛光液使用效果更好。
6、一种无味氮化铝抛光液及其配方技术和应用
[简介]：本技术提供了一种无味氮化铝抛光液，其由以下质量浓度的原料组成：0.1～40％研磨剂颗粒、0.5～5％醇醚、0.5～20％氧化剂、0.2～5％pH稳定剂，余量为去离子水；且所述氮化铝抛光液pH值为2.5～4.5。本技术的氮化铝抛光液，不仅具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，而且无挥发性和重金属污染问题，易于长期储存；尤其适用于超精密光学器件或半导体功率器件的氮化铝表面抛光。本技术还提供了一种无味氮化铝抛光液的配方技术和应用。
7、一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液
[简介]：本技术提供了一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液，该抛光液包含研磨颗粒、去离子水、pH调节剂、稳定剂、氧化剂和催化剂。化学机械抛光液中催化剂与氧化剂的协同作用可以显著降低钨的静态腐蚀速率，提高钨及其合金的抛光速度和表面质量，实现高效高质量抛光。该抛光液能够满足各种工艺条件下对钨及其合金表面的加工要求，具有广阔的市场应用前景。
8、不锈钢化学抛光剂、配方技术及应用
[简介]：本技术提供了一种不锈钢化学抛光剂、配方技术及应用，所述不锈钢化学抛光剂，其特征在于，以重量百分比计，由以下成分制成：钛溶胶35‑42％，硒酸铜10‑12％，三氯乙酸6‑8％，聚乙二醇3‑5％，白屈菜酸3‑5％，乙氧基炔丙醇4‑6％，全氟壬氧基苯磺酸钠1‑3％，余量为水。本技术所述不锈钢化学抛光剂不需外加研磨动力，由自身化学反应提供研磨动力，通过化学腐蚀整平研磨，以及由化学腐蚀及化学置换作用下提供物理研磨动力的物理研磨，使得不锈钢表面光洁度好。
9、一种磁力研磨机用不锈钢抛光液及抛光方法
[简介]：本技术提供一种磁力研磨机用不锈钢抛光液。所述磁力研磨机用不锈钢抛光液由硼酸、十二水合磷酸钠、九水合硅酸钠、表面活性剂以及磷酸组成，所述硼酸的浓度为2.3‑4g/L，所述十二水合磷酸钠的浓度为2.5‑5.5g/L，所述九水合硅酸钠的浓度2‑3.5g/L，所述表面活性剂的浓度为15‑23ml/L，经过添加所述磷酸调节pH至2.5‑3.5。本技术提供的磁力研磨机用不锈钢抛光液可以对不锈钢制品实现清洗、增光增亮，令不锈钢表面光亮化，改善其外观，一定程度上增强其耐蚀性，由于这种抛光液成分较为环保，且原材料易购，能够显著降低生产成本。另外，还提供了一种磁力研磨机用不锈钢抛光方法。
10、一种化学机械抛光液及其应用
[简介]：本技术提供了一种化学机械抛光液及其使用方法。具体的，所述化学机械抛光液包含研磨颗粒，络合剂，腐蚀抑制剂，羧酸酯类化合物，金属表面缺陷改善剂和氧化剂。本技术中的化学机械抛光液可应用于金属铜互连的抛光，具有较高的金属铜去除速率，并且对钽的去除速率低，从而具有较高的铜/钽去除速率选择比，同时可以改善抛光后铜线的碟形凹陷和介质层侵蚀，并降低抛光后的铜表面粗糙度和表面缺陷数。
11、用于加工超光滑低损伤轴承钢表面的抛光液及其应用
12、一种化学机械抛光液
13、一种化学机械抛光液及其应用
14、一种制备钼铼合金金相试样的电解抛光液及其方法
15、一种含还原剂的碳化硅抛光液及其配方技术和应用
16、一种用于钨抛光的化学机械抛光液
17、一种化学机械抛光液及其使用方法
18、一种化学机械抛光液及其使用方法
19、一种用于钨抛光的化学机械抛光液
20、机械研磨润滑液、包含其的水基研磨抛光液及其应用
21、一种化学机械抛光液及其使用方法
22、一种化学抛光剂及钛合金的金相组织显示方法
23、一种化学机械抛光液及其应用
24、用于铅化学机械抛光的粗抛抛光液及抗氧化工艺
25、一种化学机械抛光液
26、一种化学机械抛光液
27、一种化学机械抛光液
28、一种化学机械抛光液及其使用方法
29、一种金属间化合物抛光液及金属间化合物轮廓线显示方法
30、一种化学机械抛光液
31、一种化学机械抛光液
32、用于铅化学机械抛光的抛光液及抗氧化工艺
33、一种化学机械抛光液
34、一种化学机械抛光液
35、一种化学机械抛光液及其应用
36、一种高硬度不锈钢用研磨抛光液
37、一种化学机械抛光液
38、一种金属表面研磨抛光剂及配方技术
39、一种化学机械抛光液及其应用
40、一种制酸联产金属抛光液的工艺
41、一种化学机械抛光液
42、一种用于AMOLED屏玻璃基板的抛光液
43、一种化学机械抛光液及其应用
44、一种化学机械抛光液及其应用
45、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
46、一种高精度抛光液的配方技术
47、一种制备EBSD样品的机械抛光液、配方技术及机械抛光方法
48、一种水性金刚石抛光液及其配方技术
49、一种磁力研磨机用的不锈钢抛光液
50、一种金属表面用氧化铝抛光液及其配方技术
51、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
52、一种化学机械抛光液及其在抛光ULK-铜互连制程中阻挡层的应用
53、一种化学机械抛光液及其应用
54、用于钴阻挡层结构化学机械抛光的抛光液及其应用
55、一种非金属研磨抛光液
56、一种质量稳定抛光效率高的金属抛光液及其配方技术
57、用于加工超光滑不锈钢表面的抛光液及其应用
58、一种纯铝以及铝合金铸件的化学抛光液及其配方技术
59、一种添加多种磨料的混合金属抛光液及其配方技术
60、一种氧化铝基质的金属抛光液的配方技术
61、一种化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用
62、低泡防锈抛光剂及其配方技术
63、一种无氧化剂的碱性铝合金抛光液及其配方技术
64、用于加工超光滑轴承钢表面的抛光液及其应用
65、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
66、用于CMP的研磨颗粒体系及抛光液
67、一种碱性化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用
68、一种用于抛光二氧化硅基材的化学机械抛光液
69、一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
70、一种用于钴阻挡层抛光的化学机械抛光液
71、一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
72、一种化学机械抛光液
73、一种酸性化学机械抛光液
74、一种用于金属钼抛光工艺的抛光液
75、一种阀门用金属研磨抛光剂及其配方技术
76、一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
77、基于铜互连中以金属钌作为粘附阻挡层的抛光工艺的抛光液
78、一种二氧化硅基CMP抛光液及其配方技术
79、一种酸性化学机械抛光液
80、一种用于硅通孔平坦化的化学机械抛光液
81、一种基于金属Co的抛光工艺的抛光液
82、一种化学机械抛光液
83、用于硫族合金的抛光液
84、一种基于金属Co的抛光工艺的抛光液及其应用
85、一种化学机械抛光液
86、一种化学机械抛光液
87、一种用于抛光合金相变材料的化学机械抛光液
88、一种化学机械抛光液
89、一种化学机械抛光液
90、用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液的配方技术
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,内容都包括具体的配方配比生产制作过程，费用260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：微信/电话：13510921263
