1、一种光刻胶剥离去胶液及其应用工艺
[简介]：本技术涉及一种光刻胶剥离去胶液及其应用工艺，光刻胶剥离去胶液可用于正性光刻胶和负极光刻胶的剥离，光刻胶剥离去胶液包括主溶剂和辅助溶剂，主溶剂为1,3‑二氧五环，所述辅助溶剂为多元醇衍生物。本技术的光刻胶剥离去胶液具有去胶速率快、去胶效果好、环境友好，可适用于特殊衬底材料。
2、水系剥离液及配方技术和应用
[简介]：本技术提供了一种水系剥离液及配方技术和应用，具体涉及剥离液技术领域。该水系剥离液包括偶联剂、纯水、极性增强剂、醇醚化合物、胺类化合物和腐蚀抑制剂。本技术提供的水系剥离液，在体系中加入了偶联剂，有效降低了极性增强剂、醇醚化合物、胺类化合物和纯水的挥发，降低了制程中的作业风险，同时水系剥离液稳定性增强，保持了原始的剥离效果，增加了水系剥离液的使用寿命。在确保了水系剥离液的剥离效果后，水系剥离液在光刻胶去除过程中使用量会降低，同时污水的排放量也会降低，总体降低了制造成本和污水处理的成本。
3、一种光刻胶剥离液及其配方技术
[简介]：本技术涉及光刻胶剥离液制备技术领域，具体为一种光刻胶剥离液及其配方技术，光刻胶剥离液组分重量百分比如下：有机胺30‑40％、极性有机溶剂20‑30％、表面活性剂8‑15％、乳化剂3‑5％、螯合剂1‑4％，其余为纯水；有益效果为：本技术提出的光刻胶剥离液及其配方技术通过两种乳化剂的配比，能采用较少的乳化剂达到极好的乳化效果，但是仍会引进有害的金属离子，通过螯合剂配比加入，能以极小的量去除乳化剂中的金属离子，同时，微量的螯合剂进入混合管中，能进一步去除光刻胶剥离液的金属离子，使得生产出的光刻胶剥离液，剥离效果好，不会侵蚀铝、银基材，没有发黑、变质现象产生。同时，剥离后，用水清洗极易去除，无残留。
4、一种金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物及其应用
[简介]：本技术提供了一种金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物,由以下重量百分含量的原料组成：65‑75wt％的芳香烃溶剂,20‑35wt％的乙酰胺,0.1‑1wt％的金属缓蚀剂,0.1‑5wt％的增溶剂和0.1‑5wt％的螯合剂。本技术还提供了所述金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物的应用。本技术提供的光刻胶剥离液对晶圆上的基材金属蚀刻率低，能兼容去除市场上多数种类的光刻正胶和光刻负胶。
5、一种光学材料剥离剂
[简介]：本申请提供了一种光学材料剥离剂，所述光学材料剥离剂各组分及质量百分比配比为：醇胺类化合物20~25%，剥离助剂10~15%，余量为有机溶剂；所述剥离助剂采用酰胺类溶剂；所述有机溶剂选自N‑甲基毗咯烷酮、哌啶或二乙二醇醚类化合物中的两种或两种以上。本申请稳定性较佳，对液晶显示设备制造过程中使用的各型号的光刻胶的剥离效果均较好，剥离速度较快，而且对金属的腐蚀性极弱，能够有效提高液晶显示设备的制造效率。
6、一种光刻胶剥离液及其配方技术
[简介]：本技术提供了一种光刻胶剥离液，包括如下重量份的原料：环状有机胺0.5～30份；醇醚类有机溶剂1～60份；含氮类有机溶剂1～50份；缓蚀剂0.01～10份。本技术采用特定的环状有机胺，结合特定的有机溶剂和缓蚀剂，配合特定的配比，使得最终制备的光刻胶剥离液稳定性好、去胶效果好，不会对铝栅极特别是铜栅极等基底产生腐蚀。
7、一种用于三五族半导体化合物光刻胶的剥离剂、其配方技术及用途
[简介]：本技术提供一种用于三五族半导体化合物光刻胶的剥离剂、其配方技术及用途。用于三五族半导体化合物光刻胶的剥离剂包括重量配比如下的各组分：混合有机胺1‑20份；有机溶剂70‑90份；缓蚀剂0.1‑10份；水1‑20份；所述混合有机胺包括脂环胺和脂肪胺。所述有机溶剂包含起溶解作用的环状结构溶剂和起剥离作用的链状结构溶剂。所述缓蚀剂包括主缓蚀剂氮苷类化合物和副缓蚀剂咪唑啉类化合物。本技术光刻胶剥离剂剥离能力优异，在能有效去除光刻胶的基础上，对三五族半导体化合物材料，特别是GaAs有很好的保护效果，能够抑制其腐蚀。本技术剥离剂在半导体化合物芯片清洗领域具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。
8、光刻胶剥离液组合物及其配方技术
[简介]：本技术涉及一种在半导体器件制造工序中用于去除光刻胶的剥离液组合物及其配方技术。根据本技术，可以在提高光刻胶的剥离力的同时，防止下部膜的腐蚀，提高组合物的经时变化稳定性。
9、光刻胶剥离液
[简介]：本技术实施例提供一种光刻胶剥离液，该光刻胶剥离液包括膨胀剂、渗透剂、溶解剂、pH抑制剂以及腐蚀抑制剂，且膨胀剂的质量百分比含量为30％‑60％，溶解剂的质量百分比含量为40％‑60％，渗透剂的质量百分比含量为0.5％‑8％，pH抑制剂的质量百分比含量为0.01％‑2％，腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.001％‑2％。光刻胶剥离液在剥离过程中，其剥离效果较好，同时，光刻胶剥离液还可多次再生重复利用，从而有效的提高了光刻胶剥离液的再生良率，并降低了生产成本。
10、一种用环糊精衍生水性剥离剂去除氧化铟锡表面有机光刻胶的高效喷涂方法
[简介]：一种用环糊精衍生水性剥离剂去除氧化铟锡表面有机光刻胶的高效喷涂方法，所述处理方法包括如下步骤：S1、运用单乙醇胺、四甲基氢氧化铵、环糊精和水等配置环糊精衍生水性剥离剂；S2、将剥离剂加入加压罐内，并保持恒温恒压；S3、将喷嘴出口和氧化铟锡电极表面之间的喷射距离保持在50～100 mm之间，喷嘴内需配有涡流室；S4、喷涂时喷嘴流量≤500 mL/min，喷涂时间保持在30～40秒，且在恒温条件下进行，喷雾结构和冲击力需使得修正韦伯数(We*)＜200～300；S5、喷涂完成后将氧化铟锡电极板进行冲洗、干燥。该种用环糊精衍生水性剥离剂去除氧化铟锡表面有机光刻胶的高效喷涂方法，运用可高效收集光刻胶残留物的环糊精衍生水性剥离剂，结合喷嘴喷射的喷雾结构、雾化和冲击条件，应用低的去除温度和快速的去除时间，不仅可去除在氧化铟锡电极上的光刻胶，保持电极电学和光学性能的稳定，同时可减少光刻胶去除工艺步骤中环境污染物的产生。
11、一种正性光刻胶剥离液组合物及应用
12、一种剥离液及其配方技术
13、剥离液组合物及其配方技术
14、用于半导体化合物光刻胶的剥离剂、其配方技术及用途
15、一种水性剥离液及其用途
16、一种光刻胶剥离液组合物
17、PFA光刻胶再生剥离液及其配方技术与应用
18、一种聚乙烯醇肉桂酸酯型KPR光刻胶蚀刻残留剥离剂组合物
19、一种低腐蚀性FPD行业水性光刻胶剥离液
20、一种铜表面钝化组合物、其用途及包含其的光刻胶剥离液
21、一种光刻胶剥离液及其配方技术、应用方法
22、一种光刻胶剥离液、其配方技术及应用
23、光刻胶剥离液废液中回收NMF和MDG的方法和装置
24、一种正性光刻胶剥离液组合物
25、一种组合物、剥离液及其在剥离光刻胶或光刻胶残余物中的应用和剥离方法
26、光刻胶剥离液及剥离装置
27、一种电子级TFT光阻剥离液的制备工艺
28、一种光刻胶剥离液废液再生利用的方法
29、一种适用半导体集成电路的光刻胶剥离液及配方技术
30、高世代面板铜制程光刻胶剥离液
31、一种光刻胶剥离液废液回收系统
32、用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物
33、一种应用于多种金属制程的兼容、环保型水系光刻胶剥离液及其配方技术
34、一种适用半导体领域的光刻胶剥离液及配方技术
35、一种用于光刻胶剥离的水性剥离液
36、一种剥离废液组分回收系统和回收工艺
37、一种脱除光刻胶剥离液中非游离态树脂的系统和方法
38、光刻胶剥离液再生方法
39、一种改进的环保水系光刻胶剥离液
40、防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法
41、一种用于显示面板和半导体领域的水基型光刻胶剥离液
42、一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液
43、一种正型光刻胶剥离液组合物
44、环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液及其配方技术
45、一种光刻胶废剥离液回收装置
46、一种高效碱性光刻胶剥离液
47、一种彩色滤光片光刻胶剥离液组合物
48、一种废剥离液再生装置及其应用
49、一种酸性光刻胶剥离液
50、一种剥离液再生装置及再生工艺
51、一种剥离液再生工艺段的光刻胶去除方法
52、一种剥离废液提纯方法
53、一种碱性光刻胶剥离液
54、一种通用型光刻胶剥离液及其应用
55、一种光刻胶剥离液
56、光刻胶剥离剂组合物
57、一种光刻胶剥离液
58、用于去除含有背部晶圆金属化层的光刻胶剥离液
59、光刻胶去除用剥离液组合物
60、一种显示屏光刻胶剥离液
61、一种光刻胶用剥离液及其配方技术和应用
62、一种用于TFT‑LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液
63、一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物
64、用于液晶显示器制造工艺的包含伯烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物
65、阶段性变压精馏塔回收光刻胶剥离液的方法
66、一种高世代平板铜制程光阻剥离液
67、一种铜或铜合金布线用水系光阻剥离液
68、用于制造液晶显示的光刻胶剥离剂组合物
69、一种高效光刻胶剥离液及其应用
70、一种光刻胶剥离液
71、一种有效去除LED芯片光刻胶的剥离液及其剥离方法
72、一种用于去除钛镍银表面蚀刻残留光刻胶的剥离液组合物
73、一种去除光刻胶的水系剥离液组合物
74、用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法
75、用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法
76、回收废光刻胶剥离剂的方法
77、一种光刻胶剥离液及其应用
78、一种新型的光刻胶剥离液及其应用工艺
79、一种金属低刻蚀的光刻胶剥离液及其应用
80、负型光刻胶剥离剂组合物
81、光刻胶剥离液组合物及光刻胶的剥离方法
82、一种光刻胶剥离液及其应用
83、防腐剂混合物和负型光刻胶剥离剂组合物
84、一种水性光刻胶剥离液
85、一种光刻胶剥离液
86、一种用于芯片的光刻胶剥离液、配方技术及去胶工艺
87、防腐剂混合物和光刻胶剥离剂组合物
88、光刻胶剥离剂组合物
89、防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法
90、光刻胶用剥离液组合物及其制备和应用
91、光刻胶剥离液废液的回收方法
92、用于液晶显示器制造工艺的包含伯烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物
93、光刻胶剥离剂废液回收系统及其方法
94、一种TFT液晶显示器返修制程中的光刻胶剥离方法
95、一种新型有机光刻胶剥离液及其制备工艺
96、光刻胶剥离液组合物
97、一种去除半导体工艺中残留光刻胶的剥离液
98、具有金属保护的光刻胶剥离液组合物
99、一种光刻胶剥离液
10-0、用于形成铜基配线的光刻胶剥离剂组合物
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