1、研磨液供应设备及供应方法
[简介]:本技术提供了一种研磨液供应设备,包括第一压力罐、第二压力罐、阀箱、第一连接管和第二连接管,所述第一压力罐上侧设有第一研磨液进入口和第一压力调节阀。采用可封闭的所述第一压力罐和所述第二压力罐来供应研磨液,且通过所述第一压力调节阀来调节所述第一压力罐内的压力,通过所述第二压力调节阀来调节所述第二压力罐内气压,通过气压做动力源,以使研磨液在所述第一压力罐和所述第二压力罐之间流动,无需气动泵或电动泵的使用,降低了成本,气压做动力源使得研磨液流速均一,保证了研磨液研磨的均一性。本技术还提供了一种所述研磨液供应设备用于实现研磨液供应的研磨液供应方法。
2、一种研磨加工过程中自动添加研磨液的装置和方法
[简介]:本技术提供了一种研磨加工过程中自动添加研磨液的装置和方法,该装置包括视觉处理系统和添液装置,所述视觉处理系统包括光源、相机、主机和视觉处理软件,所述相机通过支撑件固定在研磨抛光机上,所述光源设置在相机镜头的底部并对准研磨抛光机的加工区,所述视觉处理软件运行在主机上;所述添液装置固定在研磨抛光机上,其添液端对准待加工工件,所述相机和添液装置与主机进行连接。该装置自动化程度高,避免加工者的重复单调劳动,同时研磨液添加均匀,加工参数可记忆与可重复,具有良好的加工一致性;研磨液的添加参数进行精准的控制,有利于提高加工精度。
3、研磨液供给装置、研磨设备和研磨液的温度控制方法
[简介]:本技术提供一种研磨液供给装置、研磨设备和研磨液的温度控制方法。研磨液供给装置包括:研磨液罐,用于容纳研磨液;供液组件,供液组件包括多个供液区域,各供液区域与供液组件中心的距离不相等,各供液区域分别通过不同的供液管路与研磨液罐相连通;多个温度调节组件,设置于各供液管路上,温度调节组件用于调节各供液管路中研磨液的温度。本技术实施例通过设置多个供液区域及相应的温度调节组件,以对各个供液区域中研磨液温度的控制,能够实现根据需要为各供液区域提供不同温度的研磨液,从而降低各供液区域对应的晶圆的研磨温度差,使得晶圆在研磨过程中温度保持基本相同,从而能够降低温度对于晶圆品质可能带来的影响。
4、一种研磨液分配臂及化学机械平坦化装置
[简介]:本申请涉及一种研磨液分配臂及化学机械平坦化装置。用于分配研磨液的分配臂包括机械臂,所述机械臂能够移动至任何所需位置;配置为用于输送研磨液的喷嘴,固定地或角度可调地设置在机械臂的下方;配置为用于缓冲所述喷嘴排出的研磨液的挡板,固定地或角度可调地从用于连接所述挡板与所述机械臂的连接件上倾斜地延伸到所述喷嘴的下方。此外,本申请还涉及包括所述分配臂的化学机械平坦化装置。本技术的研磨液分配臂,可以使待铺展在研磨台面上的研磨液均匀地分布,同时还提高了研磨液的利用率,提高了研磨质量。
5、一种SiC单晶片研磨用水基研磨液及其配方技术
[简介]:一种SiC单晶片研磨用水基研磨液及其配方技术,将初始研磨液置于SiC单晶片研磨装置中,并放入SiC单晶片或与SiC单晶片硬度大体一致的块状物质,进行研磨作业至满足第一条件即得水基研磨液。将本申请中的初始研磨液进行研磨处理后得到水基研磨液,利用水基研磨液对SiC单晶片双面研磨加工,晶片表面产生的损伤和划痕数量少、程度低,对后续加工工序影响低,提高抛光效率;同时该研磨液分散均匀,状态稳定,加工SiC单晶片去除率快,可循环使用,磨料寿命长。
6、一种蓝宝石研磨液及其配方技术
[简介]:本技术属于宝石加工技术领域,具体涉及一种蓝宝石研磨液及其配方技术。所述蓝宝石研磨液包括以下质量份组分:二氧化硅35?48份、碳化硅28?32份、三氧化二铝18?25份、氮化硼14?21份、壳聚糖8?15份、二硼化钛8?14份、甘油12?18份、聚乙二醇7?11份、炭黑6?9份、蛭石粉6?9份、表面活性剂4?7份、分散剂3?5份、去离子水150?180份。本技术制备的研磨液可以有效的缩短研磨时间,且本技术的配方技术简单有效,适合工业化生产。
7、一种航空航天用聚晶金刚石复合片研磨液
[简介]:本技术提供了一种航空航天用聚晶金刚石复合片研磨液,所述研磨液由多晶金刚石微粉、去离子水、分散剂、黏稠剂组成的悬浮液,所述悬浮液的PH为0?5。本申请的有益效果为:主要用于有弧面的聚晶金刚石复合片表面研磨,本申请的研磨液为粘稠悬浮液,使用此技术的研磨液可大大缩短研磨时间,提高工作效率,节约研磨成本。可以长期保证研磨稳定状态,便于直观目测判断聚晶金刚石复合片的加工程度,清洗方便,节能环保。
8、化学机械研磨及/或平坦化工艺所用的研磨液组成
[简介]:化学机械研磨及/或平坦化工艺所用的研磨液组成,包括氧化剂,包括一或多个氧原子;以及研磨粒子,具有壳层结构围绕核心结构。核心结构包括第一化合物,壳层结构包括第二化合物,且第一化合物与第二化合物不同,其中核心结构的直径大于壳层结构的厚度,且其中第一化合物设置为与氧化剂反应形成反应性氧物种。
9、一种蓝宝石晶片细磨研磨液的配方技术
[简介]:本技术提供了一种蓝宝石晶片细磨研磨液的配方技术,应用于蓝宝石晶片研磨领域,其制备步骤为:首先将增速剂A、B按一定的比例在量杯中混合并充分搅拌以配制所需增速剂,再将上述增速剂和纯水按一定比例加入搅拌桶中,搅拌2~3min,然后将碳化硼研磨料按一定比例加入上述搅拌桶中,再后使用立式搅拌机对其搅拌1.5h,并将搅拌好的研磨液倒入浆料桶中,再后将装有研磨液的浆料桶置于有上下限报警功能的电子秤上,最后使用立式搅拌机全程搅拌浆料桶中的浆料。本技术所配制的细磨液避免了悬浮剂的使用,提高了废液回收利用(粗磨)效率,同时回收再利用的废液无需额外加入分散剂。
10、一种蓝宝石晶片研磨液的配方技术
[简介]:一种蓝宝石晶片研磨液的配方技术,属于蓝宝石表面处理技术领域。所述方法具体制备过程如下:取碳化硼微粉、金刚石微粉和氧化铝空心球混匀后放入放电等离子烧结炉中退火处理,保持真空恒压的条件下程序升温至1350?1450℃温度保持10?15 min后自然冷却至100℃以下;将冷却后混合物放入球磨机中研磨;研磨后混合物中加入去离子水配置成混合液;混合液在室温下搅拌后得到蓝宝石晶片研磨液。本技术所述方法将碳化硼微粉、金刚石微粉和微米级氧化铝空心球经过退火处理后起到协同增效作用,制备的研磨液能够增加材料去除率、降低研磨后材料表面粗糙度。
11、钢球研磨液及其配方技术
12、一种不锈钢镜面板研磨液生产装置
13、一种用于制冷压缩机的阀板研磨液
14、一种碳化硼研磨液自动配比系统
15、一种碳化硅研磨液自动过滤搅拌循环系统
16、一种搅拌效果好的LED灯生产用研磨液配置装置
17、一种石油仪器用抛光研磨液
18、一种绿色环保抗划伤水基型研磨液及其配方技术
19、一种硬质材钻孔研磨液
20、一种用于钢模具表面镜面处理的研磨液及使用方法
21、一种均匀分布研磨液的毛刷磨盘装置
22、一种轴承钢球研磨液铁屑分离装置
23、一种含有氧化硅和金刚石的不锈钢研磨液及其配方技术
24、存储研磨液的磨盘
25、一种半封闭型研磨液喷射装置
26、一种草药研磨液提取装置
27、磁力研磨液及其配方技术
28、一种扩口研磨液盛装槽的磨盘
29、用于研磨镜片的研磨液调节系统
30、研磨液和研磨方法
31、一种研磨液用恒温保存装置
32、一种基站式研磨机研磨液二次分流装置及其分流方法
33、一种新型研磨液搅拌装置
34、一种模具抛光研磨液循环套
35、一种光学蓝宝石用研磨液
36、乳剂型研磨液的配方技术
37、研磨液、研磨液套剂和研磨方法
38、研磨液搅拌装置
39、一种LED灯生产用研磨液配置装置
40、研磨液浓度调整方法
41、一种研磨液供给系统及化学机械研磨液的供给方法
42、具有研磨液回收功能的磨盘
43、研磨液、研磨液的制造方法、研磨液原液、研磨液原液收容体、化学机械研磨方法
44、适用于数控磨床的研磨液冷却循环设备
45、研磨液及其配方技术
46、一种研磨液配方及生产工艺
47、玻璃基板的研磨方法、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘的制造方法、研磨液和氧化铈的还原方法
48、一种石油仪器用稀土研磨液
49、一种多规格阀座的研磨液加液系统
50、研磨液组合物
51、一种油性研磨液及其配方技术
52、一种钻石研磨液水基清洗剂的制作方法
53、一种水基研磨液悬浮添加剂
54、一种纤维素纳米纤维基研磨液及其配方技术
55、一种阀座的研磨液添加系统
56、一种便于研磨液集液和送液的阀座研磨台
57、一种精密抛光研磨液及其配方技术
58、悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法
59、半导体基板的研磨方法及研磨液
60、研磨液和研磨物的制造方法
61、一种环保型金刚石研磨液及其制备工艺
62、一种研磨液、制备研磨液的方法和化学机械研磨方法
63、研磨液以及研磨方法
64、一种LED灯生产用研磨液配置装置
65、一种石油仪器用稀土研磨液
66、一种阀座研磨液的加液系统
67、玻璃用研磨液和研磨方法
68、一种石油仪器用抛光专用研磨液
69、一种用于提高隔膜泵密封性的法兰研磨液
70、研磨液、化学机械研磨方法
71、一种蓝宝石研磨液及其配方技术
72、研磨液分配臂及其化学机械研磨方法
73、一种石油仪器用研磨液
74、一种半导体硅片研磨液稳定性控制方法
75、研磨液搅拌装置
76、一种石油仪器用抛光研磨液
77、碳化硼研磨液回收循环再利用方法
78、研磨液、化学机械研磨方法
79、研磨液组合物
80、CMP用研磨液和研磨方法
81、一种水性碳化硅晶片研磨液及其配方技术
82、研磨液用悬浮体系、研磨液及其配方技术
83、一种多角度研磨液加液系统
84、一种红宝石研磨液
85、一种用于树脂砂轮原料研磨液的过滤装置
86、一种水晶研磨液
87、研磨液及使用该研磨液的基板的研磨方法
88、一种蓝宝石研磨液
89、一种水基研磨液清洗剂及其配方技术
90、一种半导体硅材料研磨液清洗剂及其配方技术
91、一种不锈钢镜面板研磨液
92、一种铝合金片研磨液
93、一种研磨液、制备研磨液的方法和化学机械研磨方法
94、一种研磨液用碳化硼粉的配方技术
95、一种智能研磨液供给系统
96、一种不锈钢镜面板用研磨液及其配方技术
97、一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液
98、一种蓝宝石研磨液
99、一种金刚石研磨液及其配方技术
100、一种高效碳化硼研磨液及其配制方法
101、一种陶瓷抛光研磨液
102、一种金刚石研磨液专用的水基清洗剂及其配方技术
103、一种树脂镜片研磨液
104、玻璃基板的研磨方法、研磨液、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法
105、一种介观尺度条件下研磨液颗粒与工件的磨削模拟方法
106、一种铝合金碱性研磨液
107、研磨液、研磨液套剂和基体的研磨方法
108、一种悬浮型水性研磨液的配方技术
109、化学机械研磨液自动配制控制系统
110、用于氮化镓半导体晶片的研磨液及其配方技术
111、一种新型纳米碳晶研磨液及其配方技术
112、稀土研磨液
113、稀土研磨液专用清洗剂
114、一种蓝宝石研磨液
115、一种用于超精抛机床的研磨液的配方技术
116、一种稀土研磨液
117、蓝宝石晶片加工水性研磨液
118、一种人造蓝宝石摄像头镜片的专用研磨液
119、一种改进的陶瓷片研磨液
120、一种研磨液颗粒特性的耗散粒子动力学模拟方法
121、一种LED灯生产用研磨液配制装置
122、研磨液组合物的制造方法及依据其制造的研磨液组合物
123、一种研磨液、制备研磨液的方法和化学机械研磨方法
124、一种泵体法兰密封面加工用纳米金刚石研磨液
125、一种泵体法兰密封面加工用多晶金刚石研磨液
126、研磨液供给及研磨垫整理装置、研磨机台
127、LED用蓝宝石衬底研磨液
128、高效蓝宝石研磨液及其配方技术
129、研磨液供应装置和包括研磨液供应装置的抛光设备
130、一种磨料持续悬浮的水性金刚石研磨液及其配方技术
131、CMP用研磨液和研磨方法
132、蓝宝石研磨液、蓝宝石研磨液制备工艺及蓝宝石研磨液的使用方法
133、研磨液用磨料及其配方技术
134、SiC基板的研磨方法
135、油性金刚石研磨液
136、一种用于蓝宝石衬底的研磨液组合物及其配方技术
137、氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液及其配方技术
138、CMP研磨液及其应用、研磨方法
139、蓝宝石板用研磨液组合物
140、一种水包油乳化型金刚石研磨液及其配方技术
141、一种水油两溶金刚石研磨液及其配方技术
142、碳化硅单晶基板及研磨液
143、蓝宝石粗磨用研磨助剂、研磨液及它们的配方技术
144、一种研磨液颗粒特性的耗散粒子动力学模拟方法
145、一种泵体法兰密封面加工用纳米刚玉研磨液
146、研磨液、研磨液制备工艺及研磨液的使用添加方法
147、一种蓝宝石抛光专用钻石研磨液及其配方技术
148、钢球精研磨用研磨液及其制备和使用方法
149、氧化锆插芯内孔研磨用双峰磨料研磨液配方
150、玻璃研磨液的再生方法和玻璃研磨装置
151、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法以及基体
152、一种研磨液
153、玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法以及玻璃基板用研磨液组合物
154、硅晶片用研磨液组合物
155、浆料、研磨液组、研磨液、基体的研磨方法以及基体
156、一种磁力研磨液重复使用装置
157、低划伤钻石研磨液
158、一种加工蓝宝石专用钻石研磨液和研磨膏及它们的配方技术
159、V形无级调速研磨液离心过滤机
160、一种太阳能硅片研磨液配方
161、一种机械加工研磨液
162、一种机械研磨液及其脱硫化氢工艺方法
163、一种高效硅晶片研磨液
164、化学机械研磨之研磨液供给装置
165、钢球研磨液双通道限位供油装置
166、单分散研磨液及其配方技术、无机氧化物溶胶配方技术
167、研磨液分配臂
168、二氧化硅溶液配方技术、研磨液及玻璃基板的制造方法
169、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板
170、一种半导体硅晶片研磨液
171、一种化学机械研磨液配置优化的方法
172、一种硅片研磨液的搅拌装置
173、一种化学机械研磨液配置优化的方法
174、磨粒、悬浮液、研磨液及这些的制造方法
175、晶片用研磨液组合物
176、一种新型硅片研磨液的搅拌装置
177、一种用于研磨抛光的研磨液
178、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体
179、研磨液分配臂
180、金属用研磨液及研磨方法
181、一种含研磨液过滤装置的研磨机
182、CMP用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法
183、硅晶圆用研磨液组合物
184、磨粒的制造方法、悬浮液的制造方法以及研磨液的制造方法
185、磨粒的制造方法、悬浮液的制造方法以及研磨液的制造方法
186、CMP用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法
187、一种硅片研磨液的搅拌装置
188、一种硅片研磨液
189、磨粒、悬浮液、研磨液及这些的制造方法
190、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体
191、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板
192、研磨液整理器
193、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板
194、一种LED衬底晶片加工研磨液配方技术
195、一种沉降性水基研磨液及其配方技术
196、油性金刚石研磨液
197、机械研磨液及采用该研磨液的金属表面处理方法
198、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板
199、气体添加研磨液的供应系统及其方法
200、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体
201、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体
202、CMP用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法
203、金属用研磨液及其应用
204、一种新的减薄研磨液
205、研磨液用中和盐、电子材料用研磨液、研磨方法和电子材料的制造方法
206、新型硅片研磨液的搅拌装置
207、硬盘用基板用研磨液组合物、基板的研磨方法和制造方法
208、一种用于蓝宝石衬底的研磨液及其配方技术
209、研磨液传送臂
210、一种用于搅拌硅片研磨液的搅拌叶
211、改善纳米硅研磨液分散性能的方法
212、CMP研磨液及其制造方法、复合粒子的制造方法以及基体的研磨方法
213、一种硅片研磨液的搅拌装置
214、一种硅片研磨液的搅拌桶
215、研磨液组成物
216、一种研磨液
217、碳化硅单晶基板及研磨液
218、研磨粒回收装置、研磨液的管理系统、玻璃基板的制造方法及研磨粒回收方法
219、CMP用研磨液以及研磨方法
220、油性金刚石研磨液及其配方技术
221、一种研磨液传送系统的排气系统
222、研磨液手臂
223、CMP研磨液、基板研磨方法和电子部件
224、CMP用研磨液以及研磨方法
225、清洗研磨液供给系统的方法
226、化学机械抛光研磨液输送系统及化学机械抛光研磨设备
227、一种用于分类回收废弃研磨液及去离子水的装置及方法
228、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板
229、磁盘基板用研磨液组合物
230、研磨液组合物
231、蓝宝石衬底片精磨研磨液及其配制方法
232、永悬浮钻石研磨液
233、悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板
234、用于硬脆性材料超精研磨的水性研磨液及其使用方法
235、研磨液供应系统
236、研磨液组合物的制造方法
237、研磨液及使用该研磨液的基板的研磨方法
238、悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法
239、金属膜用研磨液及研磨方法
240、铜研磨用研磨液及使用了其的研磨方法
241、一种氧化锆研磨液的配方技术
242、LED衬底加工用研磨液及其配方技术
243、蓝宝石衬底片粗磨研磨液及其配制方法
244、玻璃硬盘基板用研磨液组合物
245、研磨液、过抛和终点检测方法及装置、抛光设备
246、化学机械抛光研磨液动压分布和研磨去除率的确定方法
247、研磨液组合物
248、金刚石微粉研磨液循环硬磨剂及其制备和使用方法
249、磨粒的制造方法、悬浮液的制造方法以及研磨液的制造方法
250、研磨液组合物的制造方法
251、研磨液组合物
252、CMP研磨液、以及使用其的研磨方法和半导体基板的制造方法
253、高精密非水基纳米级金刚石研磨液、配方技术及用途
254、一种脉动缓冲器及研磨液供应系统
255、一种化学机械研磨中的研磨液供应系统
256、一种高硬度微米研磨液及其配制方法
257、CMP用研磨液及使用其的研磨方法
258、树脂砂轮研磨液过滤装置
259、CMP研磨液和研磨方法
260、一种硅片研磨液的搅拌装置
261、CMP研磨液、基板研磨方法和电子部件
262、磁盘基板用研磨液组合物
263、研磨液配制方法、研磨液以及金属钨的CMP方法
264、一种研磨材料及其配方技术和研磨液组合物
265、一种氧化锆研磨液的生产工艺
266、化学机械抛光的研磨液供给系统
267、研磨液、研磨液的配方技术和使用该研磨液的研磨方法
268、化学机械研磨用研磨液以及使用了该研磨液的基板的研磨方法
269、借助多区域研磨液输送的化学机械抛光
270、CMP用研磨液以及研磨方法
271、CMP用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法
272、化学机械抛光设备及其研磨液输送方法
273、磁盘基板用研磨液组合物
274、用于加工蓝宝石表面曲率半径的研磨液及配方技术
275、用于在钢丝锯中使用的研磨液
276、研磨液供给系统及化学机械研磨站的研磨液混合物供给法
277、金属膜用研磨液及研磨方法
278、用于磨机的研磨液返回系统
279、化学机械研磨方法、研磨液喷嘴及化学机械研磨设备
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