硅抛光加工工艺-硅片抛光技术方法

30、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液

   [简介]：本技术提供了一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，该抛光液包括研 磨颗粒和水，其还包括一种或多种多元醇型非离子表面活性剂。本技术的抛 光液是可以在碱性条件下较好地抛光多晶硅薄膜的新型的化学机械抛光液。 并且还可以显著降低多晶硅的去除速率，调节多晶硅与二氧化硅的选择比， 显著提高多晶硅的平坦化效率。

31、用于抛光多晶硅的化学机械抛光液

   [简介]：本技术提供了一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，该抛光液包括研磨颗粒和水，其还包括一种或多种氧化剂。本技术的抛光液可以在碱性条件下显著改变多晶硅的去除速率，调节多晶硅与二氧化硅的选择比，并明显提高多晶硅的平坦化效率和抛光残留物的去除。

32、硅片抛光机头吸盘

   [简介]：一种硅片抛光机头吸盘，有一机臂呈圆盘状，中心凸伸有一凸柱，一真空入口穿过机臂的中心；一真空腔体中心开有一圆孔，内部有一圆盘状的腔室与圆孔连通，真空腔体与圆孔相反的一面开有多数的微孔；一弹性膜为一圆片体，中心开有一通孔，弹性膜置于机臂与真空腔体之间；一橡胶层一圆片体，贴覆于真空腔体的一面，在其上开有多数的与真空腔体上开有的微孔对应的微孔；一圆环片固定在橡胶层的另一面。

33、单晶硅衬底双面抛光片

   [简介]：本技术提供的一种用于制造高性能的半导体器件和集成电路的单晶硅衬底双面抛光片，其单晶硅衬底（1）的双面具有抛光层（2）、（3），且双面的抛光层（2）、（3）同片总厚度变化ΔTTV

34、一种碳化硅抛光机

   [简介]：本技术属于碳化硅加工设备领域，具体提供了一种碳化硅抛光机，包括底座和立柱，所述立柱下端固定连接底座，在立柱右侧连接丝杠，所述丝杠上端安装有电机，抛光机机头通过转动轴套与丝杠连接，所述底座上安装有工作台，所述工作台的下侧横向安装有横向丝杆和横向转轮，在纵向方向安装有纵向丝杠和纵向转轮，在工作台上端面通过滑槽安装有活动挡板和固定螺栓螺母。该装置可以对尺寸较大的碳化硅进行抛光，同时可以多方向进行工作，在更换抛光轮时也更方便。

35、用于硅藻泥墙的抛光器

   [简介]：本技术涉及建筑装饰装修工具技术领域，尤其是涉及一种用于硅藻泥墙的抛光器；包括抹泥刀板、手柄和柔性磨砂件，所述手柄设置于所述抹泥刀板的上表面，在所述抹泥刀板的上表面还设置有至少一个压条，所述压条通过压条固定件与所述抹泥刀板固定于一体；所述柔性磨砂件包敷于所述抹泥刀板的底面，并且所述柔性磨砂件的两端向上弯折形成弯折边，所述弯折边包敷所述抹泥刀板上表面的两个边缘，各所述压条将其对应的所述弯折边与所述抹泥刀板压合连接；通过将所述柔性磨砂件包覆于抹泥刀板上进行施工，以解决现有技术中存在的手拿砂纸或纱布打磨硅藻泥墙面，工作效率低且容易因打磨力道不均匀而影响墙面美观的技术问题。

36、一种往复式硅块抛光机

   [简介]：本技术涉及一种往复式硅块抛光机。当前，企业在对硅片进行抛光加工时均采用人工进给的方式，这种方式不仅效率较低，同时，人工操作存在人为的不确定性因素，容易导致硅片加工质量低的问题，降低企业经济效益，存在不足。本技术涉及一种往复式硅块抛光机，其中：第一电机与曲柄固定连接，曲柄通过连杆与导向套活动连接，导向套内壁与导向杆连接，导向套外壁与第二电机固定连接，第二电机与主动带轮同轴连接，主动带轮通过传动带与从动带轮连接，从动带轮与抛光轮连接。本装置采用电机控制的往复式进给方式，不仅提高了生产效率，同时，电机控制的误差小，有利于提高硅片的加工质量与精度，提高企业经济效益。

37、一种高效硅片抛光机

   [简介]：本技术涉及一种高效硅片抛光机。当前，企业在对硅片进行抛光加工时所采用的抛光机一次只能抛光一块硅片，这种方式的抛光效率非常低，不适合当今快节奏的生产模式，尤其是大批量快速生产，限制了企业的生产效率，存在不足。本技术涉及一种高效硅片抛光机，其中：一级带轮、二级带轮均与弹簧罩固定连接，弹簧罩内部设有弹簧，弹簧与固定块连接，第二电机与第二主动带轮固定连接，第二主动带轮通过第二传动带与第二从动带轮连接，第二从动带轮通过中空管与磨盘连接，磨盘底部设有磨齿，抛光液箱通过管道与喷头连通。本装置采用双硅片同时抛光的方式，将抛光效率提高一倍，有利于当今快节奏的生产模式，提高企业的经济效益。

38、一种硅片抛光装置

   [简介]：一种硅片抛光装置包括：垂直方向设置的、带动硅片进行旋转的游轮圈（3）、位于游轮圈左侧的、由左传动部分（2）带动的左抛光轮（1），位于游轮圈右侧的、由右传动部分（5）带动的右抛光轮（4），左、右抛光轮上分别贴有用于硅片抛光的抛光垫（7），还有直接供应抛光液到抛光垫上的抛光液供给部分（27）。游轮圈带动硅片旋转，左右抛光轮同时向相对方向旋转，对硅片表面进行抛光。本技术的优点是该装置结构紧凑，硅片在抛光时处于垂直状态，硅片可以有效地避免因自重而引起的形变，同时更容易控制硅片表面的几何参数，能解决由于硅片尺寸的增大而带来的抛光问题，既提高了生产的效率，又提高了抛光片的成品率。

39、一种太阳能硅片抛光器

   [简介]：本技术提供了一种太阳能硅片抛光器，该抛光器包括上抛光盘和下抛光盘，在上抛光盘和下抛光盘上均固定有抛光垫，在抛光垫上设有网格状V形沟槽；所述抛光垫的背面通过背胶与上抛光盘或下抛光盘粘贴在一起。通过在抛光垫上设有网格状V形沟槽，解决抛光液流动差的问题，该抛光器具有抛光方法简单，效果明显，降低了生产成本，工作效率提高了50％，采用设有网格状V形沟槽的抛光器，可大大提高了太阳能硅片的加工质量和技术水平。

40、一种硅片抛光用游轮片

   [简介]：一种硅片抛光用游轮片，它包括：由不锈钢制作而成游轮片，游轮片的厚度为0.5～1mm，游轮片中放硅片的内圆处镶嵌一圈碳纤维材料。本技术的优点是游轮片不锈钢边缘齿轮耐磨性好，与硅片接触处的碳纤维材料对硅片边缘损伤小，耐磨性也好，抛光过程中因为损耗对硅片的几何参数影响较小，提高双面抛光的制备性能与成品率。

41、单晶硅棒弧面抛光轮

   [简介]：本技术涉及一种弧面抛光轮，具体为一种单晶硅棒弧面抛光轮。其特征在于包括不锈钢连接圈、铝合金毛刷固定片和毛刷，所述的毛刷设置在铝合金毛刷固定片上，铝合金毛刷固定片内设置不锈钢连接圈。与现有技术相比，本技术结构简单，通用性强，操作简单，可直接安装在单晶硅滚磨机的沙盘上，二次利用滚磨机，分享滚磨机的高精度，高效率，通过弧面抛光，有效地去除了滚磨机对单晶硅棒四个棱工作后的表面损伤层，如“小崩边、小硅落”，提高了成品单晶硅片的出片率和硅片质量，可提高0.5％的出片率，可增加经济效益3400元/吨。

42、一种碳化硅化学抛光机

   [简介]：一种碳化硅化学抛光机，包括底座，其特征在于：所述底座的上侧面设有固定板以及由电机带动进行旋转的抛光平台，所述抛光平台的一侧设有垂直安装于底座的打磨装置，所述打磨装置包括位于上端的打磨棒及底端的导轨滑块，所述的导轨滑块与设置于底座的导轨配合实现打磨装置的移动；所述的抛光装置包括固定于靠近抛光平台的一端的抛光片以及另一端的导轨滑块，所述的导轨滑块与设置于固定板侧面的导轨配合实现抛光装置的移动；本技术将打磨装置和抛光装置设在同一抛光平台的一侧，打磨后可进行抛光，节省空间和时间，并且设有电吹风机能够将打磨后的粉尘清理干净，方便进行下一步抛光。

43、一种碳化硅抛光机

   [简介]：本技术提供了一种碳化硅抛光机。其包括支柱、工作台、抛光转轮和电动机，所述支柱的下端面固定连接有底座，所述支柱的右侧壁留有限位槽，所述工作台的左侧插接在限位槽的内腔，所述工作台的上端面还设置有活动挡板，所述活动挡板上留有通孔，所述螺纹杆插接在螺纹孔和滑槽的内腔，所述支柱的上部为中空结构且内部设置有电动机，所述电动机转轴的末端设置有锁紧装置，所述抛光转轮上端插接在锁紧卡扣的内腔，该碳化硅抛光机便于调节工作台与抛光转轮之间的距离，能对工作台上的碳化硅进行夹紧固定，便于抛光转轮对不同大小的碳化硅进行抛光，更换不同规格的抛光转轮省时省力。

44、单晶硅柱面抛光工装

   [简介]：本技术提供了单晶硅柱面抛光工装，包括夹持装置和抛光装置，所述夹持装置包括左夹持块、用于驱动左夹持块转动的左驱动件、与左夹持块相配合的右夹持块、用于驱动右夹持块沿左夹持块和右夹持块所在直线移动的距离调节装置、用于驱动右夹持块转动的右驱动件；所述抛光装置包括载片和设置在载片上的抛光结构，其利用人工抛光，抛光效果好。

45、一种硅片研磨抛光设备

   [简介]：一种硅片研磨抛光设备，包括抛光盘和置于抛光盘上方的研磨压头，研磨压头下端面设有用于固定硅片的陶瓷片，抛光盘的上端面上设有固定柱，固定柱上转动连接有定位轮，其中，位于定位轮上方的固定柱上设有防护罩，该防护罩由水平板和设在水平板一侧边且向下弯折的挡板组成，水平板中设有用于套设在固定柱上的安装孔，水平板中与研磨压头相邻的一侧边呈与研磨压头外周面相适应的弧形，且该侧边边缘距离研磨压头外侧面的径向间距为1~5mm，挡板的底边距离抛光盘上端面的垂直间距为1~3mm。其中，定位轮能够防止研磨压头和陶瓷片位置的偏移，避免研磨压头转动不平稳；防护罩能够杜绝操作人员手被卷入研磨压头和抛光盘之间的情况发生。

46、一种立式硅块抛光装置

   [简介]：本技术提供了一种立式硅块抛光装置，涉及用于磨削或抛光的机床、装置或工艺技术领域。硅块抛光单元包括毛刷、砂**、轴承箱、联轴器和电机，所述电机的输出轴通过联轴器与轴承箱的输入轴连接，轴承箱的输出轴与砂**连接，毛刷固定在所述砂**上，所述硅块夹紧单元包括夹紧件和夹紧件升降装置，所述夹紧件固定在所述夹紧件升降装置的端部。所述抛光装置包括四个硅块抛光单元，同时对硅块需要抛光的四面进行抛光并采用立式夹紧的方式对硅块进行夹紧，硅块夹紧单元与非抛光面进行接触，大大提高了抛光的速度和工作效率高。

47、一种硅片抛光系统

   [简介]：本技术提供了一种硅片抛光系统，包括：掩膜台、烘干箱、抛光槽、第一漂洗槽、去掩膜槽、第二漂洗槽、碱洗槽、第三漂洗槽、吹干槽及用于传输硅片的传送机构；所述掩膜台、烘干箱、抛光槽、第一漂洗槽、去掩膜槽、第二漂洗槽、碱洗槽、第三漂洗槽及吹干槽依次相连。采用本技术，可以在保证不损害硅片前表面绒面的情况下，对硅片后表面进行抛光处理，增加了后表面对未吸收太阳光谱中的长波反射，减小硅片与后表面的接触面积，达到减少后表面电子、空穴复合量，提高了晶硅太阳电池的光电转换效率，结构简单，满足用户的需求。

48、一种硅棒抛光装置

   [简介]：本技术提供了一种硅棒抛光装置，包括驱动机构和砂轮，所述砂轮螺接在驱动机构的驱动轴上；还包括防护罩和冷水箱，所述防护罩为环形，其内部设置有冷却槽，所述冷却槽内侧设有喷水孔，所述防护罩固定在驱动机构上；所述冷水箱通过管道与冷却槽连通；所述砂轮为金刚石砂轮。本技术有效解决了硅棒上锯痕、“鼓肚”等问题，且抛光过程中利用水冷却，粉尘由水带出，减少了对工作环境的污染。

49、一种半自动硅片抛光机

   [简介]：本技术涉及一种半自动硅片抛光机，该抛光机包括台钻、集浆池、样品架和水箱。台钻的一端设有电机，其另一端设有钻头，其钻床上设有托盘，其台座上设有水箱；钻头上设有升降把手，其末端通过钻头连接杆连有样品架；托盘上设有集浆池，该集浆池的上端设有与钻床连接杆相连的下抛光片；样品架的上方设有上抛光片，该上抛光片的两侧对称设有一组带压紧弹簧的调节螺母；压紧弹簧内套有固定螺杆，并通过该固定螺杆与下抛光片相连；样品架与下抛光片通过磨片架连接在一起；水箱的底部一侧设有进水管，其内设有水泵，该水泵通过出水管Ⅰ与磨片架相连；集浆池的底部设有出水口，该出水口经出水管Ⅱ与水箱相通。本技术结构简单、使用方便。

50、硅单晶片抛光设备

   [简介]：一种硅单晶片抛光设备，涉及硅单晶片的光学加工设备，尤其是一种提高抛光效率，节省生产成本的硅单晶片抛光设备。本技术的硅单晶片抛光设备，其特征在于该设备为抛光机，该抛光机包括曲面抛光头、晶片压力杆以及抛光液喷头，曲面抛光头安装在抛光机上，由抛光机带动旋转，晶片压力杆设置在曲面抛光头上方，抛光液喷头设置在曲面抛光头与晶片压力杆之间，曲面抛光头上设置有数片丸片，该丸片用金刚石制成圆柱体，并且根据曲面分布原理均匀分布在曲面抛光头的曲面上。本技术的硅单晶片抛光设备，在现有的曲面抛光头增加硬度更高的金刚石丸片，有效提高了研磨及抛光效率，同时降低曲面抛光头的更换频率，提高生产速度降低成产成本。

51、一种硅片的抛光方法

 

52、一种碱性硅晶片抛光液

 

53、多晶硅化学机械抛光液

 

54、碳化硅衬底用抛光液

 

55、硅酸盐复合物抛光垫

 

56、铝硅合金的电解抛光液

 

57、一种硅片的抛光方法

 

58、硅单晶片抛光方法

 

59、多晶硅化学机械抛光液

 

60、碳化硅基片的抛光液

 

61、一种硅片抛光方法

 

62、一种硅块抛光方法

 

63、硅片双面抛光工艺

 

64、一种3D封装硅抛光液

 

65、一种硅片抛光粘片方法

 

66、一种硅化学机械抛光液

 

67、硅通孔的抛光方法

 

68、一种硅片边缘抛光装置

 

69、一种硅晶片抛光液

 

70、一种硅溶胶抛光液

 

71、单晶硅柱面抛光磨具

 

72、一种高纯硅衬底抛光液

 

73、一种氧化硅抛光磨料

 

74、硅晶圆抛光制程方法

 

75、溶胶型硅片抛光剂

 

76、抛光含硅电介质的方法

 

77、一种硅片抛光装置

 

78、一种硅片背面抛光方法

 

79、单晶硅片液体抛光方法

 

80、硅晶圆的精抛光方法以及使用该抛光方法抛光的硅晶圆

 

81、一种卧式防止抛光液飞溅的硅片抛光机

 

82、一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘

 

83、一种太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘

 

84、一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机

 

85、抛光垫、其聚氨酯层及抛光硅晶片的方法

 

86、铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液

 

87、一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液

 

88、含有多晶硅抛光平整剂的化学机械抛光组合物

 

89、一种用于多晶硅抛光的化学机械抛光液

 

90、一种可提高抛光性能的多晶硅抛光方法

 

91、一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液

 

92、一种硅晶片循环抛光装置及循环抛光方法

 

93、一种用于氮化硅陶瓷抛光的抛光粉制备方法

 

94、一种用于抛光二氧化硅基材的化学机械抛光液

 

95、一种定盘边缘抛光布割布的硅片抛光方法

 

96、一种用于3D封装TSV硅抛光的化学机械抛光液

 

97、化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏

 

98、一种延长粗抛光液使用寿命的硅片抛光方法

 

99、一种用于抛光硅材料的化学机械抛光液

 

100、一种硅片抛光机用硅片真空夹持装置

 

101、利用胶体二氧化硅的氧化硅抛光方法

 

102、磨削、抛光一体化硅块加工专用机床

 

103、带有保护膜的硅抛光片与外延片

 

104、一种双向转动高效硅片抛光机

 

105、一种一体式硅片精细抛光机

 

106、一种行星式中空硅棒抛光机

 

107、单晶抛光硅片背损伤装置移动托架

 

108、化学机械抛光设备的硅片清洗装置

 

109、化学机械抛光设备的硅片固定装置

 

110、一种大直径硅片抛光装置

 

111、一种提高硅片平整度的抛光头

 

112、一种晶硅抛光片表面缺陷检测设备

 

113、一种具有清洁装置的碳化硅抛光机

 

114、一种高精度的碳化硅化学抛光机

 

115、一种用于硅抛光片酸蚀的冷却工装

 

116、硅锭抛光机上部夹持控制装置

 

117、一种单晶硅柱面抛光磨具

 

118、一种氧化硅抛光液配置装置

 

119、一种单晶硅抛光片在线检测仪

 

120、一种单晶硅片抛光液槽用可调节地脚

 

121、一种多晶硅C角毛刷抛光机

 

122、一种硅片研磨光学抛光系统

 

123、硅片抛光机冷凝水盛接托盘

 

124、一种硅片抛光的悬挂式中心轮结构

 

125、晶体硅太阳能电池单面抛光夹具盒

 

126、一种晶硅太阳能电池的背抛光装置

 

127、一种背面抛光晶硅太阳能电池

 

128、一种局域加热的硅片抛光装置

 

129、硅片边缘行波超声抛光工具

 

130、一种碳化硅抛光片应力自动检测装置

 

131、一种适用于硅片的抛光装置

 

132、一种单晶体硅加工用抛光装置

 

133、氮化硅弧度镜面抛光装置

 

134、一种手持取双面抛光硅片的工具

 

135、用于多晶硅背面抛光的刻蚀槽

 

136、一种碳化硅密封件加工用抛光装置

 

137、胶态氧化硅化学?机械抛光浓缩物

 

138、胶态氧化硅化学?机械抛光组合物

 

139、胶态氧化硅化学?机械抛光组合物

 

140、一种硅溶胶抛光液的制备方法

 

141、一种制作异形硅单晶抛光片的方法

 

142、太阳能电池硅片的抛光方法

 

143、一种硅片化学机械抛光浆料配方

 

144、用于抛光氮化硅材料的组合物及方法

 

145、用于抛光氮化硅的组合物及方法

 

146、利用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法

 

147、硅片抛光表面划伤的控制方法

 

148、一种低粗糙度硅抛光片的加工方法

 

149、一种电工硅钢EBSD样品化学抛光方法

 

150、一种实现硅片单面抛光的方法

 

151、含硅量高的铝合金表面处理的抛光液

 

152、一种液体抛光单晶硅片的方法

 

153、表面露出铜和硅的晶片的抛光方法

 

154、用于抛光含硅基材的方法和组合物

 

155、选择性地抛光碳化硅膜的方法

 

156、形成硅酸盐抛光垫的方法

 

157、使用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法

 

158、硅片单面化学机械抛光方法和装置

 

159、硅抛光片的慢提拉红外干燥工艺

 

160、核/壳型复合纳米磨料硅片抛光液

 

161、硅衬底材料抛光后表面清洗方法

 

162、一种用于硅抛光和清洗的溶液

 

163、提高硅化学机械抛光效率的方法

 

164、一种多晶硅化学机械抛光液

 

165、硅晶片抛光组合物及相关方法

 

166、一种氮化硅陶瓷化学机械抛光的方法

 

167、用于抛光多晶硅的组合物及方法

 

168、太阳能电池硅片的抛光方法

 

169、太阳能电池硅片抛光后的清洗方法

 

170、一种薄型硅单晶抛光片加工方法

 

171、一种多晶硅化学机械抛光液

 

172、化学机械抛光设备硅片清洗装置

 

173、绿碳化硅研磨抛光微粉的生产方法

 

174、一种贴硅抛光片模板的方法

 

175、一种背面抛光硅片的制备方法

 

176、用于抛光大体积硅的组合物及方法

 

177、一种太阳能电池硅片抛光制绒的方法

 

178、一种单晶硅晶圆抛光片的清洗方法

 

179、一种晶体硅片湿法刻蚀用抛光液

 

180、晶体硅抛光液的添加剂及其使用方法

 

181、一种多晶硅C角毛刷抛光机

 

182、一种12英寸硅片的双面抛光方法

 

183、使用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法

 

184、一种硅晶片精抛光组合物及制备方法

 

185、硅片表面机械抛光的方法

 

186、一种碳化硅基抛光合成纸的制备方法

 

187、硅类化合物抛光加速剂的制备方法

 

188、一种超细硅环的抛光方法

 

189、硅衬底片抛光方法和装置

 

190、一种硅溶胶抛光液及其制备方法

 

191、一种硅片划痕抛光剂及其制备方法

 

192、一种硅片抛光机边缘导轮

 

193、一种单晶硅柱面抛光工装

 

194、一种用于高硅铝合金材料的抛光液

 

195、油基碳化硅精密研磨抛光液

 

196、晶体硅酸性抛光液的添加剂及其应用

 

197、一种碳化硅晶片的抛光液

 

198、一种碳化硅晶片的双面抛光方法

 

199、一种半导体硅片化学机械抛光清洗液

 

200、一种氧化硅抛光液及其制备方法

 

201、太阳能电池硅片的抛光方法

 

202、一种氧化硅抛光磨料的加工工艺

 

203、一种硅铝复合抛光液的制作方法

 

204、硅丙树脂基自抛光海洋防污涂料

 

205、用于抛光氮化硅的组合物及方法

 

206、一种硅晶片抛光组合物及其制备方法

 

207、用于抛光大体积硅的组合物及方法

 

208、一种利用水圈进行硅片抛光方法

 

209、表面改性纳米磨料硅片抛光液

 

210、一种晶硅抛光片表面缺陷检测系统

 

211、包括二氧化硅涂覆铈土的抛光淤浆

 

212、硅藻土磨料抛光剂的制备方法

 

213、纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法

 

214、化学机械抛光设备硅片定位装片装置

 

215、半导体硅片化学机械抛光用清洗液

 

216、硅单晶衬底材料抛光液及其制备方法

 

217、用于CMP的含硅烷的抛光组合物

 

218、一种单晶硅抛光片热处理工艺

 

219、用于硅晶片二次抛光的淤浆组合物

 

220、一种硅片抛光方法及装置

 

221、用于化学机械抛光硅晶片的方法

 

222、一种多晶硅片背面抛光工艺

 

223、一种硅片的柔性气动抛光方法

 

224、硅铈抛光液及其制备方法

 

225、选择性地抛光碳化硅膜的方法

 

226、太阳电池用单晶硅片单面抛光方法

 

227、电镀和/或电抛光硅片的装置及方法

 

228、一种新型硅片有蜡抛光方法

 

229、一种单晶硅晶圆片边缘抛光工艺

 

230、一种硅片用新型抛光装置

 

231、一种高K电介质硅晶片的抛光方法

 

232、一种单晶硅切片生产用抛光装置

 

233、利用硅酸钙制造抛光砖的方法

 

234、一种单晶硅抛光片的清洗方法

 

235、脱除废弃抛光粉中硅铝杂质的方法

 

236、应用于硅片化学机械抛光设备中的抛光头磁性夹紧装置

 

237、一种碳化硅用机械抛光液及采用其进行机械抛光的方法

 

238、一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用

 

239、一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法

 

240、一种控制硅片抛光表面微粗糙度的方法及抛光装置

 

241、一种减少硅衬底材料化学机械抛光表面液蚀坑产生的抛光方法

 

242、一种减少单晶硅晶圆抛光片化学灼伤的有蜡抛光方法

 

243、一种改善表面颗粒的重掺砷单晶硅晶圆抛光片的抛光工艺

 

244、一种保持硅晶圆抛光片少数载流子高寿命的抛光工艺

 

245、一种可获得高抛光速率的单晶硅晶圆片抛光工艺

 

246、一种高局部平整度重掺硅晶圆抛光片的无蜡抛光工艺

 

247、用于抛光硅晶片的化学机械抛光组合物及相关方法

 

248、一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液

 

249、一种用于硅晶片抛光的抛光组合物及其制备方法

 

250、一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备与应用

 

251、硅通孔晶片的抛光方法和用于该方法的抛光组合物

 

252、一种可提高硅晶片抛光精度的抛光组合物及其制备方法

 

253、用于选择性抛光氮化硅层的组合物以及使用该组合物的抛光方法

 

254、一种适用于大尺寸硅晶片抛光的抛光组合物及其制备方法

 

255、一种铝硅合金金属间化合物的电解抛光液及抛光方法

 

256、一种适用于硅晶片边抛光的抛光组合物及其制备方法

 

257、一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其制备方法

 

258、纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置

 

259、一种采用混合果糖粘贴硅片的硅抛光方法

 

260、化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法

 

261、化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法

 

262、用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的基底的含水抛光组合物和方法

 

263、用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的衬底的含水抛光组合物和方法

 

264、用于太阳能电池用方形硅锭的抛光系统

 

265、一种用于硅抛光片在异丙醇中干燥的PFA片架

 

266、一种单晶硅抛光片清洗机用兼容式甩干盒芯

 

267、一种高效且便于清除废屑的碳化硅化学抛光机

 

268、一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机

 

269、一种硅片有蜡抛光工艺用的蜡回收装置

 

270、一种具有防护功能的硅锭抛光机探测装置

 

271、一种硅抛光片表面颗粒检测仪片盒支撑台

 

272、一种用于清洗单晶硅抛光片的湿法进料升降台

 

273、一种用于晶硅太阳能电池背抛光的碱槽结构

 

274、一种硅块抛光砂轮、毛刷装置和毛刷加长杆

 

275、一种碳化硅陶瓷单弧防弹板内弧磨削抛光装置

 

276、一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机

 

277、一种大直径硅片双面抛光后的手持取片工具

 

278、不影响正表面的晶硅PERC电池碱抛光方法

 

279、一种单晶硅抛光片清洗机用兼容式甩干盒芯

 

280、一种硅晶片的单面去PSG层及抛光的制备方法

 

281、一种背面抛光的单晶硅太阳能电池片制备方法

 

282、在双表面取向衬底上促进均匀抛光的硅沉积

 

283、用于抛光由二氧化硅制成的表面的组合物

 

284、锌和铬加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液

 

285、微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液

 

286、一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法

 

287、抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的制备方法

 

288、利用陶瓷抛光砖废料制备硅酸盐水泥的方法

 

289、一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法

 

290、可控氧化硅去除速率的化学机械抛光液

 

291、用于促进硅电极抛光的盘和适配器组件

 

292、适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液

 

293、二氧化硅介质化学机械抛光液的制备方法

 

294、通过含氧化铈的分散体抛光硅表面的方法

 

295、一种利用陶瓷抛光废料制备硅酸钙板的方法

 

296、一种高稳定性的硅晶片化学机械抛光组合物

 

297、具有特殊缓冲体系的硅片化学机械抛光液

 

298、用于太阳能电池用方形硅锭的抛光系统

 

299、一种硅通孔的化学机械抛光方法及系统

 

300、稳定的可浓缩的硅晶片抛光组合物及相关方法

 

301、一种晶硅太阳能电池生产中实施背抛光的方法

 

302、使用高温热处理的300mm硅抛光片制造工艺

 

303、具有改善的功率谱密度性能的硅抛光组合物

 

304、具有高速率及低缺陷率的硅抛光组合物

 

305、碳化硅单晶表面多级化学机械抛光方法

 

306、一种太阳能级单晶硅棒的抛光处理方法

 

307、一种稀土掺杂碳化硅复合抛光粉的制备方法

 

308、一种减少单晶硅晶圆片划道的抛光工艺

 

309、一种用于硅通孔平坦化的化学机械抛光液