1 一种调整PU材料研磨垫亲疏水性的方法
简介：本技术提供了一种调整PU材料研磨垫亲疏水性的方法，在制备原料中增加亲疏水性的添加剂，以调整PU材料研磨垫的亲疏水性能。达到研磨垫疏水性好，研磨芯片质量提高的效果。
2 研磨垫修整器及包括其的化学机械研磨设备
简介：本技术提供了一种研磨垫修整器及包括其的化学机械研磨设备。根据本技术实施例的研磨垫修整器包括机械臂；第一修整盘；第二修整盘，与所述第一修整盘固定连接，所述机械臂活动连接所述第一修整盘和所述第二修整盘，以使所述第一修整盘和所述第二修整盘在不同工作时间位于修整工位，以对所述研磨垫进行修整。根据本技术实施例的研磨垫修整器及包括其的化学机械研磨设备，能够延长研磨垫的使用寿命，并减少设备的维护时间。
3 一种研磨垫加工面边缘的处理方法
简介：本技术提供一种研磨垫加工面边缘的处理方法，其特征在于它包括以下步骤：首先将研磨垫非加工面粘接在研磨背板上，而后对研磨垫加工面表面进行整形，最后再将研磨背板安装到研磨头上，即可开始对玻璃进行研磨。本技术步骤简单、操作方便，通过对研磨垫加工面表面的整形，降低研磨过程中研磨垫对玻璃板面冲击，从而实现不全覆盖玻璃板面情况下使用研磨垫研磨玻璃，板面无弧形研磨痕，由于研磨垫的边缘内打磨成圆角，研磨过程平移时可对玻璃表面的研磨液进行引流，有助于改善现有机台中通过转轴的中心孔进行研磨液注入时研磨盘边缘供料不足导致的干磨问题。
4 研磨垫监测装置及监测方法
简介：本技术提供了一种研磨垫监测装置，用于监测所述研磨垫是否划伤晶圆，研磨垫监测装置包括色差测量单元和判断单元。色差测量单元用于实时测量研磨垫表面的色差值，判断单元用于判断研磨垫是否划伤所述晶圆。当研磨垫表面的色差值大于或等于阈值时，则判定研磨垫会划伤所述晶圆。显示单元以图表的形式实时显示色差值和阈值。当所述研磨垫表面的色差值小于所述阈值时，则判定所述研磨垫不会划伤所述晶圆。在本技术提供的研磨垫监测装置中，通过色差测量单元实时测量所述研磨垫表面的色差，色差测量单元向所述判断单元实时反馈测量结果信号，进而通过所述判断单元判断所述研磨垫是否会划伤晶圆。相应的，本技术还提供一种研磨垫的监测方法。
5 化学机械研磨装置及化学机械研磨工艺研磨垫清洗装置
简介：本技术涉及化学机械研磨装置，包括研磨垫，粘贴在研磨盘上；研磨头，保持将要研磨的晶片，并向将要研磨的晶片提供下压力将晶片的待研磨面向下附着在研磨垫上；以及清洗装置，置于研磨垫上，用于在研磨作业过程中刮平研磨垫的表面并去除研磨垫上的杂质，其中清洗装置包括第一清理盘和第二清理盘，第一清理盘和第二清理盘并列设置在清洗装置的清洗杆上，第一清理盘的表面包括多个砖石，第二清理盘的表面包括蓝毛刷，以更彻底地清洗研磨垫上的不同类型或不同颗粒大小的副产物。
6 一种自动加工研磨垫工艺方法
简介：本技术提供了一种自动加工研磨垫工艺方法，包括以下步骤：准备材料、材料均质化、制备磨粒层、仿真建模、厚度分析、刻槽模拟、压贴制备和完成成品；本技术通过金刚石磨粒、碳化硅粒、铜粉和聚氨酯树脂制备磨粒层，通过Moldflow软件进行仿真分析，建立磨粒层的模型，并在模型中，设定磨粒层的厚度进行厚度分析，经分析，增加磨粒层的厚度，可降低其变形量，提高平整度，然后模拟工件进行模拟研磨，得出当厚度为5mm时，虽然形变量最低，但对工件磨损最严重，因此确定厚度为3mm时，形变量适中，研磨效果最优，且本技术在模型中模拟工件进行研磨，保证每个区域刻槽深度动态平衡。
7 一种研磨垫的加工模组及加工方法
简介：本技术涉及一种研磨垫的加工模组及加工方法，属于研磨垫加工方法及加工设备技术领域。一种研磨垫的加工模组，包括上模和下模，其特殊之处在于，锁紧机构包括气缸、锁舌、上锁模扣和下锁模扣，锁舌固定安装在气缸的活塞杆上，气缸固定在上模的上模基板或者下模的下模基板的侧面；所述上模的上模基板的板面上设置透光板安装孔，具有多个透光孔的压板垫嵌装在透光板安装孔内，透明PMMA板固定安装在上模基板与下模基板相对的板面上，上模基板的四角设置导套；所述下模的下模基板上固定设置凸起的扇形的模具，模具的表面均匀密布槽孔，下模基板的四角设置导柱，导柱与导套配合；下模基板的两侧设置弹簧。并提供该加工模组的使用方法。
8 一种研磨垫的配方技术
简介：本技术涉及一种研磨垫的配方技术，所述方法包括如下步骤：(1)将顶层和中间层依次进行第一压合和第一牵拉，得到中间料；(2)将步骤(1)得到的中间料依次进行第二压合和第二牵拉，得到中间处理料；(3)将步骤(2)得到的中间处理料与底层和背胶层依次进行第三压合和第三牵拉，得到研磨垫。本技术的目的在于提供一种研磨垫的配方技术，通过三次层压热粘结方式配合红外灯辅助加热保证加工表面外观一致，同时保证产品粘结强度在合格范围内。
9 一种研磨垫的配方技术
简介：本技术涉及一种研磨垫的配方技术，所述方法包括如下步骤：(1)将顶层和中间层依次进行第一压合和第一牵拉，得到中间初料；(2)将步骤(1)得到的中间初料与底层和背胶层进行依次第二压合和第二牵拉，得到研磨垫。本技术中，通过二次热粘结的方式保证研磨垫的加工表面外观一致，同时保证产品粘结强度在合格范围内。
10 用于修整双面研磨硅片的成对研磨垫的工具、装置及方法
简介：本技术实施例提供了一种用于修整双面研磨硅片的成对研磨垫的工具、装置及方法，所述工具包括：圆形基板，所述圆形基板具有多个通孔，所述多个通孔将所述圆形基板沿厚度方向贯穿并且分布在所述圆形基板的整个板面上，其中，所述圆形基板具有第一外齿，所述第一外齿旨在与内齿圈的第二外齿啮合并且与外齿圈的内齿啮合以使得所述圆形基板通过所述内齿圈和所述外齿圈的旋转产生运动；多个柱状修整元件，每个所述柱状修整元件适于以可拆卸的方式固定装配至所述多个通孔中的每一个中，并且每个所述柱状修整元件的两个纵向端面适于分别对所述成对研磨垫中的一个研磨垫进行修整。
11 研磨垫处理方法及化学机械研磨设备
12 一种钻石研磨垫的配方和制作方法
13 研磨垫
14 一种消除玻璃面研磨痕迹的研磨垫处理方法
15 一种玻璃研磨垫的在线修整装置
16 一种研磨垫修整器的清洁装置
17 研磨垫修整装置
18 研磨垫修整单元以及装置
19 一种研磨垫温度控制方法、装置及研磨设备
20 研磨方法、研磨垫修整系统
21 研磨垫及其配方技术和应用
22 研磨垫修整器及化学机械研磨设备
23 研磨垫用组合物、研磨垫及其配方技术
24 研磨垫用组合物、研磨垫及其配方技术
25 聚氨酯树脂组合物和研磨垫
26 聚氨酯研磨垫及其制造方法、及化学机械研磨装置
27 聚氨酯研磨垫及其制造方法、及化学机械研磨装置
28 用于清洁研磨垫的方法
29 调节装置及调节用于化学机械研磨的研磨垫的方法
30 研磨垫及研磨装置
31 制备研磨垫之组合物
32 研磨垫及研磨加工物的制造方法
33 研磨垫和使用其的研磨方法
34 研磨垫清洗方法及装置
35 一种研磨垫清洗装置及双面研磨机
36 研磨垫
37 研磨垫
38 化学机械研磨垫的形成方法、化学机械研磨方法及其装置
39 一种研磨垫的定位结构、研磨设备及定位方法
40 一种研磨垫
41 基于粘弹性材料的加工感应型研磨垫
42 一种研磨垫的处理方法和研磨垫的处理装置
43 使用研磨头对研磨垫的研磨面进行检测的方法以及研磨装置
44 研磨垫及以该研磨垫进行的研磨方法
45 一种研磨垫的安装方法、研磨垫的拆卸方法和加热装置
46 具备研磨垫的表面性状测定装置的研磨装置及研磨系统
47 研磨垫用的衬底及使用该衬底的研磨方法
48 多孔性聚氨酯研磨垫及其配方技术
49 多孔性研磨垫及其配方技术
50 研磨垫、研磨垫的制造方法及研磨方法
51 研磨垫及其制造方法
52 研磨垫整理器的反镀制造方法及由此制造的研磨垫整理器
53 工件研磨垫、晶圆双面研磨方法及其研磨装置
54 树脂组合物、研磨垫、和研磨垫的制造方法
55 研磨垫
56 研磨垫
57 研磨垫
58 研磨垫
59 研磨垫及研磨垫用氨基甲酸酯树脂组合物
60 一种高自锐性的研磨垫
61 研磨垫、研磨垫制造方法以及晶圆平坦化的方法
62 一种适用于硬脆材料精密研磨的研磨垫及其配方技术
63 调节研磨垫的方法
64 研磨垫及其制造方法
65 研磨垫以及研磨方法
66 化学机械研磨方法及清洁研磨垫的方法
67 化学机械研磨垫及其配方技术
68 研磨垫、研磨垫的制造方法及研磨方法
69 研磨垫
70 经表面处理的研磨垫窗口及包含该窗口的研磨垫
71 研磨垫修整方法
72 金刚石研磨垫及其制备工艺
73 使用具备吸附层的研磨垫的研磨方法
74 化学机械研磨装置及研磨垫表面修整方法
75 研磨垫及研磨垫使用寿命监测方法
76 一种研磨垫的监控装置及监控方法
77 研磨垫及其制造方法、以及研磨加工品的制造方法
78 研磨垫及研磨方法
79 研磨垫及研磨方法
80 研磨垫使用寿命的监测方法及监测设备
81 一种聚氨酯研磨垫及其制造方法
82 研磨垫及研磨方法
83 一种化学机械研磨垫磨损的检测装置及工作方法
84 一种延长研磨垫修整盘使用寿命的方法及研磨垫修整盘
85 研磨垫及其制造方法
86 研磨垫修整方法、化学机械研磨方法及装置
87 研磨垫及研磨设备和方法
88 研磨垫
89 研磨垫
90 研磨垫及其制造方法、以及研磨物的制造方法
91 研磨垫、研磨垫的制造方法和研磨方法
92 研磨垫及研磨方法
93 研磨垫及其制造方法、以及研磨物的制造方法
94 基底层、具有基底层的研磨垫及研磨方法
95 研磨垫及研磨装置
96 晶片端面研磨垫、晶片端面研磨装置及晶片端面研磨方法
97 晶片端面研磨垫、晶片端面研磨装置及晶片端面研磨方法
98 研磨垫的研磨方法
99 一种研磨垫及其制作方法
100 局部区域研磨系统以及用于研磨系统的研磨垫组件
101 研磨垫及其的制作方法
102 研磨装置、用于对研磨垫的表面温度进行调整的装置和方法
103 一种光固型树脂研磨垫及其配方技术
104 具有大钻石单晶的高平坦度化学机械研磨垫修整器
105 制造具有大钻石单晶的化学机械研磨垫修整器之方法
106 工件研磨方法和研磨垫的修整方法
107 一种研磨垫的处理方法
108 一种在线检测研磨垫使用周期的装置及检测方法
109 一种研磨垫的处理方法
110 防止研磨头与研磨垫修整器相撞的装置、方法及研磨设备
111 研磨垫固定用粘合片
112 研磨一研磨垫的方法
113 研磨垫、研磨垫的制作方法及研磨方法
114 研磨垫及其制造方法
115 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法
116 一种双面研磨垫蓝宝石窗口片减薄加工方法
117 研磨垫修整方法、研磨垫修整装置及化学机械研磨设备
118 研磨垫的调节方法以及研磨装置
119 一种用于表面平坦化加工的研磨垫及其制法
120 一种用于加工软脆性晶体材料的研磨垫及其配方技术
121 一种氧化镓单晶用的研磨垫及其配方技术
122 供双面研磨装置的研磨垫用的修整装置和修整方法
123 研磨垫修整器及研磨垫修整方法
124 用于CMP设备上的研磨垫安装夹具装置及使用方法
125 研磨垫及其制造方法
126 研磨垫以及研磨方法
127 研磨垫及其形成方法、研磨监测方法
128 研磨垫及研磨垫的制造方法
129 研磨垫制造方法
130 研磨垫
131 研磨垫的表面性状测定方法和装置
132 一种研磨垫及其使用周期检测方法
133 可UV硬化的CMP研磨垫及其制造方法
134 研磨垫、使用研磨垫的研磨方法以及该研磨垫的使用方法
135 研磨液供给及研磨垫整理装置、研磨机台
136 一种研磨垫及其更换方法
137 一种阻挡型化学机械研磨垫及研磨装置
138 由积层制造工艺所生产的研磨垫
139 由积层制造工艺所生产的研磨垫
140 由积层制造工艺所生产的研磨垫
141 由积层制造工艺所生产的研磨垫
142 由积层制造工艺所生产的研磨垫
143 由积层制造工艺所生产的研磨垫
144 打印化学机械研磨垫
145 由积层制造工艺所生产的研磨垫
146 由积层制造工艺所生产的研磨垫
147 研磨垫原材料、研磨垫的制造方法、磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法
148 一种树脂结合剂型金刚石研磨垫及其配方技术
149 研磨垫
150 研磨垫
151 用于化学机械研磨的方法、系统与研磨垫
152 用于化学机械研磨的方法、系统与研磨垫
153 研磨垫固定装置及化学机械研磨装置
154 研磨垫修整装置及研磨垫修整方法
155 研磨垫及其制造方法
156 兼容的研磨垫以及研磨模块
157 研磨垫及研磨垫的制造方法
158 具有内部通道的化学机械研磨垫
159 研磨垫整理方法及研磨机台
160 一种用于加工超硬陶瓷的金刚石研磨垫及其配方技术
161 一种树脂结合剂型金刚石研磨垫及其配方技术
162 一种调节研磨垫磨削切削力的组合物、方法及模具
163 研磨垫
164 研磨垫及其制造方法
165 研磨垫及玻璃基底研磨方法
166 研磨垫及其制造方法
167 研磨垫的修整方法及装置
168 研磨垫及其制造方法
169 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法
170 多孔体和研磨垫
171 复合研磨垫及其制造方法
172 一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫及其配方技术
173 研磨垫固定用胶带及研磨垫贴合结构
174 研磨垫固定用粘合片
175 研磨垫及晶片清洗方法
176 化学机械研磨之研磨垫的清洗装置及其方法
177 研磨方法及研磨垫的温度调整区域的决定方法
178 研磨垫的评价方法及晶圆的研磨方法
179 研磨垫的表面粗糙度测定方法和测定装置，及CMP方法
180 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法
181 一种改性环氧树脂型陶瓷专用研磨垫及其配方技术
182 研磨垫及其制造方法
183 CMP仿真模型中研磨垫与芯片表面接触压力的计算方法
184 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及研磨垫
185 一种研磨垫清扫装置
186 研磨垫、研磨机台及研磨方法
187 一种防止研磨垫刮伤晶圆的系统
188 同时检测研磨垫平整器下压力和产生下压力气体压力系统
189 研磨垫及研磨方法
190 研磨垫
191 研磨垫修整方法
192 研磨垫修整方法
193 磁盘用基板的制造方法及在磁盘用基板的制造中使用的研磨垫
194 磁盘用基板的制造方法及在磁盘用基板的制造中使用的研磨垫
195 研磨装置、研磨垫的贴附方法及研磨垫的更换方法
196 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法
197 用于化学机械研磨垫的调节的方法及设备
198 制造研磨垫及研磨装置的方法
199 研磨垫
200 一种环氧树脂型金刚石研磨垫及其配方技术
201 研磨垫和用于研磨玻璃、陶瓷和金属材料的方法
202 研磨垫成型模具的制造方法、研磨垫成型模具及研磨垫
203 印刷式化学机械研磨垫
204 制造研磨垫的研磨层的方法及设备
205 研磨垫修整器
206 研磨垫及研磨垫的制造方法
207 层叠研磨垫及其制造方法
208 一种用于化学机械研磨的研磨垫
209 研磨垫及研磨装置
210 切割装置、研磨垫的制造方法以及研磨垫
211 层叠研磨垫及其制造方法以及半导体装置的制造方法
212 一种研磨垫及利用该研磨垫进行研磨时的损耗检测方法
213 研磨垫、研磨装置及研磨垫的制造方法
214 研磨垫用氨基甲酸酯树脂组合物以及聚氨酯研磨垫
215 研磨垫及其制造方法
216 研磨垫修整器
217 一种CMP研磨垫修整结构
218 研磨垫
219 研磨垫
220 研磨垫及半导体器件的制造方法
221 用于化学机械研磨的研磨垫以及化学机械研磨设备
222 研磨垫
223 化学机械研磨垫的双重修整系统及相关方法
224 研磨垫
225 研磨垫整理方法、研磨垫整理器及研磨机台
226 研磨垫清洗用高压去离子水喷射装置及化学机械研磨设备
227 用于护理研磨垫的方法和设备
228 具有平坦化尖端的化学机械研磨垫修整器
229 研磨垫的使用方法和晶圆的研磨方法
230 整理盘、研磨垫整理器及研磨装置
231 一种热固性树脂研磨垫及其配方技术
232 研磨垫及其制造方法
233 研磨垫及其制造方法
234 层叠研磨垫用热熔粘接剂片、及带有层叠研磨垫用粘接剂层的支持层
235 研磨垫及其制造方法
236 层叠研磨垫
237 磁盘用玻璃基板的制造方法及研磨垫
238 制造细研磨垫的方法以及化学机械研磨方法
239 研磨垫
240 研磨垫
241 研磨垫、使用该研磨垫的研磨装置及研磨方法
242 提高固定研磨料在研磨垫上进行CMP工艺稳定性的方法
243 用于CMP的研磨垫
244 被研磨物的研磨方法及研磨垫
245 多晶硅化学机械研磨工艺的研磨垫预研磨方法
246 研磨垫、研磨方法以及研磨系统
247 延长研磨垫使用周期的化学机械研磨方法
248 研磨垫的修整方法和修整装置
249 研磨垫磨损状况检测装置
250 一种化学机械研磨过程中研磨垫的温度控制系统
251 研磨垫及使用了研磨垫的研磨装置
252 容器及使用了该容器的研磨垫的制造方法
253 用于经改良的研磨垫外形的闭回路控制
254 研磨垫及其制造方法、以及半导体器件的制造方法
255 研磨垫以及玻璃基板的制造方法
256 一种研磨垫清洗方法和装置
257 研磨垫及其制造方法、以及半导体器件的制造方法
258 层叠研磨垫
259 研磨装置、研磨垫及研磨信息管理系统
260 研磨垫
261 研磨垫
262 一种研磨垫及其配方技术、使用方法
263 研磨垫清洗方法
264 研磨垫清洗装置及研磨垫修整器
265 一种计算ＣＭＰ研磨垫使用寿命的方法
266 一种研磨垫修整器及研磨垫修整方法
267 研磨垫用辅助板和采用它的研磨垫的再生方法
268 研磨垫及其制造方法
269 研磨垫及其制造方法
270 识别和/或提高化学机械研磨垫修整器性能的系统及方法
271 研磨垫
272 研磨垫用修整部件及研磨垫的修整方法
273 混合式手工研磨垫以及研磨表面的方法
274 研磨垫、其制造方法及研磨加工方法
275 基底层、研磨垫及研磨方法
276 研磨垫用双组分型尿烷树脂组合物、聚氨酯研磨垫、和聚氨酯研磨垫的制造方法
277 研磨垫窗口的处理
278 研磨垫调节装置
279 用于修整研磨垫的设备、化学机械研磨设备和方法
280 具有侦测窗的研磨垫及其制造方法
281 研磨垫及其制造方法
282 具有窗口支撑件的研磨垫与系统
283 研磨垫与其应用和其制造方法
284 研磨方法、研磨垫与研磨系统
285 研磨垫
286 研磨垫
287 研磨垫
288 研磨垫及其制造方法
289 研磨垫及其微型结构形成方法
290 具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫
291 研磨垫的制造方法
292 研磨方法、研磨垫及研磨系统
293 一种用于化学机械抛光的研磨垫调整装置
294 研磨垫的制造方法
295 研磨垫
296 研磨垫
297 研磨垫及其制造方法
298 研磨垫
299 研磨垫及其制造方法
300 研磨垫及其制造方法
301 研磨垫调节器及研磨垫的调节方法
302 研磨垫及研磨方法
303 化学机械研磨用的研磨垫修整器
304 研磨垫与其应用及其制造方法
305 研磨垫及其应用与制造方法
306 化学机械研磨装置及清洗研磨垫、研磨头的方法
307 研磨垫整理装置及研磨垫整理方法
308 研磨垫的清洗方法
309 复合式研磨垫及其制造方法
310 化学机械研磨垫
311 研磨垫、研磨装置、研磨装置用保护膜以及研磨方法
312 化学机械研磨垫及其制造方法
313 研磨垫打磨器
314 一种有效控制研磨垫使用寿命的方法
315 一种有效控制研磨垫使用寿命的方法
316 高分子材料、由其得到的发泡体以及使用它们的研磨垫
317 具有中空纤维的研磨垫及其制造方法
318 研磨垫、研磨方法及研磨装置
319 研磨垫及研磨装置
320 研磨垫
321 互穿聚合物网络结构体及研磨垫以及它们的制造方法
322 具有表面纹路的研磨垫
323 研磨垫及其制造方法
324 研磨垫
325 研磨垫
326 一种研磨垫、研磨垫制造方法及一种半导体器件制造方法
327 用于清洗化学机械平坦化的研磨垫的水性清洗组合物
328 研磨垫及其制造方法
329 用于低压研磨的多层研磨垫
330 用于低压研磨的多层研磨垫
331 化学机械抛光研磨垫
332 一种研磨垫整理器的修正盘循环利用方法
333 一种化学机械抛光中延长研磨垫寿命的方法
334 研磨垫及研磨垫的制造方法
335 研磨垫及研磨垫的制造方法
336 研磨垫及使用该研磨垫的半导体器件的制造方法
337 一种自动加工研磨垫工艺方法
338 研磨垫及研磨垫的制造方法
339 一种化学机械抛光中研磨垫沟槽加工方法
340 研磨垫与其制造方法
341 化学机械研磨装置及其研磨垫的调节方法
342 修整晶圆研磨垫的修整器及其制造方法
343 研磨垫
344 镶嵌研磨垫及其制造方法
345 单层研磨垫及其制造方法
346 化学研磨垫、其制造方法及半导体晶圆的化学机械研磨方法
347 化学机械研磨垫、其制造方法和化学机械研磨方法
348 研磨垫和利用该研磨垫制造半导体器件的方法
349 带有用于降低浆液消耗的凹槽排列的研磨垫
350 带有用于提高浆液利用率的凹槽的研磨垫
351 透光视窗具有凹槽的研磨垫以及其制造方法
352 研磨垫及半导体器件的制造方法
353 研磨垫、研磨装置及晶片的研磨方法
354 研磨垫及其制造方法
355 研磨垫、其制法和金属模以及半导体晶片抛光方法
356 研磨垫及其制造方法
357 研磨垫、其制造方法以及使用该研磨垫的研磨方法
358 化学机械研磨制作工艺的假制作工艺与研磨垫调节方法
359 研磨垫及半导体器件的制造方法
360 化学机械研磨装置及其研磨垫轮廓的控制系统与调节方法
361 半导体晶片的研磨方法及其研磨垫
362 含有被埋入的液态微量成分的研磨垫及其制造方法
363 一体型研磨垫及其制造方法
364 研磨垫以及研磨晶圆的方法
365 研磨垫用组合物
366 研磨垫、平台孔盖及研磨装置和研磨方法及半导体器件的制造方法
367 研磨垫用组合物以及使用它的研磨垫
368 导电性研磨垫及其制造方法
369 研磨垫整理器及其制造方法
370 化学机械研磨垫
371 研磨垫整理器
372 研磨垫及其制法和研磨方法
373 具有侦测窗口的研磨垫的制造方法
374 研磨垫的制造方法
375 一体成型PU研磨垫的制造方法
376 利用研磨垫整理装置整理研磨垫的方法
377 晶片的研磨方法及晶片研磨用研磨垫
378 CMP用研磨垫片、使用它的基板的研磨方法及CMP用研磨垫片的制造方法
379 研磨垫及其制造方法
380 研磨垫及其制造方法
381 研磨垫及其制造方法
382 研磨垫及其制造方法
383 研磨垫及其制造方法
384 研磨垫及其制造方法
385 研磨垫及其制造方法
386 研磨垫及其制造方法
387 自动显示磨耗程度的研磨垫及制造方法
388 研磨垫及其配方技术
389 研磨半导体晶片的复合研磨垫及其制作方法
390 研磨垫片恢复器的结构及其应用
391 研磨垫片用聚氨酯发泡体的制造方法和聚氨酯发泡体及研磨垫片用聚氨酯发泡体的制造装置
392 具有防水窗口的研磨垫
393 聚氨酯组合物以及研磨垫
394 用于化学机械研磨的无缝研磨装置和生成研磨垫的方法
395 热塑性聚氨酯泡沫体、其制造方法和由该泡沫体制成的研磨垫料
396 研磨垫及其制造方法和研磨垫用缓冲层
397 研磨垫用缓冲层
398 研磨垫及其制造方法和研磨垫用缓冲层
399 研磨垫
400 研磨垫及其制造方法和研磨垫用缓冲层
401 用于化学机械抛光的研磨垫
402 化学机械研磨垫
403 带有研磨垫片的柔性刮板
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费300元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：13510921263
