您好,欢迎光临实用技术资料网!

当前位置:首页 > 能源燃料 > 新能源 >

单晶硅片生产加工工艺技术,清洗,制绒,太阳

发布时间:2019-12-30   作者:admin   浏览次数:137

1、一种超薄单晶硅片的直拉制备方法
 [简介]:本技术涉及超薄单晶硅片制造技术领域,特别涉及一种厚度小于40um的单晶硅片的制备方法,应用于半导体器件和太阳电池领域。其特征在于包括如下步骤:把原料多晶硅块放入单晶炉的石英坩埚中;单晶炉关闭,抽真空到10-2-10-3Torr,然后冲入高纯氩,保持单晶炉内真空度保持在10~20Torr;在单晶炉中,加热融化石英坩埚中的多晶硅原料,单晶炉中加热温度为1412-1450℃;当硅熔体的温度稳定以后,将固定在提拉结构上的线状籽晶浸入硅熔体中,保温5-10min后提拉,提拉结构是由线径为10-30微米钨丝线组成的钨丝线框,提拉速度在20-50mm/min;提拉结构与液面分开后,升至上炉室冷却20-60min后取出,超薄晶片覆盖在钨丝框上;开单晶炉取出硅片。
2、一种籽晶的铺设方法、准单晶硅片的制备方法及准单晶硅片
 [简介]:本技术提供了一种籽晶的铺设方法,用于准单晶的铸造,包括以下步骤:在坩埚底部铺设籽晶,所述籽晶的生长面晶向同为[001]或同为所述籽晶紧密接触铺满所述坩埚底部形成籽晶层,相邻两个籽晶接触的侧面晶向属于同一晶向族且构成重合位置点阵类型的晶界:当籽晶的侧面晶向为<110>时,将相邻籽晶生长面晶向按[001]、正反面交替拼接或将相邻籽晶中的一个籽晶旋转90°;当籽晶的侧面晶向为非<110>晶向族时,将相邻籽晶生长面晶向按正反面交替拼接,或按正反面交替拼接后再将相邻籽晶中的一个籽晶旋转90°。本技术通过铺设籽晶减少了引晶过程中位错源的发生;本技术还提供了一种准单晶硅片的制备方法及准单晶硅片。
3、一种籽晶的铺设方法、准单晶硅片的制备方法及准单晶硅片
 [简介]:本技术提供了一种籽晶的铺设方法,用于准单晶的铸造,包括以下步骤:提供坩埚,在所述坩埚底部铺设籽晶,所述籽晶紧密接触铺满所述坩埚底部形成籽晶层,相邻两个籽晶接触的侧面晶向一致且构成重合位置点阵类型的晶界,所述籽晶的生长面晶向为(100)、(110)或(111)晶面族的晶向,所述籽晶的侧面晶向和生长面晶向垂直。本技术的相邻籽晶在生长过程中构成的晶界类型为重合位置点阵类型,晶界处的界面能很小,不易成为位错源,同时相邻籽晶的侧面晶向一致,使得生长过程中的相邻籽晶承受的应力状态相同,从而减少位错源的发生;本技术还提供了一种准单晶硅片的制备方法及准单晶硅片,制得的准单晶的晶体质量较好。
4、一种单晶硅片及单晶硅片减薄方法及应用
 [简介]:本技术提供了一种单晶硅片及单晶硅片的减薄方法及应用。所述硅片具有小于80um的均匀厚度,并且柔韧而且富有弯曲弹性。所述单晶硅片减薄方法,包括至少对硅片第一面进行机械-化学抛光修整,以及只靠圆片第二面和固定设备的平面支承座间产生的分子真空将圆片悬挂到相对于抛光毡以摆线旋转运动方式驱动的固定设备上。所述单晶硅片可以作为一个半导体功能器件的衬底,应用于集成电路芯片上,使芯片厚度小于80um。本技术所得单晶硅片厚度基本均匀;在承受机械应力时,厚度小于80um的单晶硅片会弯曲,不会破裂;另外,单晶硅片的柔韧性并没有改变单晶硅作为半导体材料的功能;本技术工艺简单易实施,成本低廉,适于规模化生产。
5、一种高沸点单晶硅片表面制绒添加剂及其使用方法
 [简介]:本技术涉及一种高沸点单晶硅片表面制绒添加剂及其实用方法,属于太阳能电池生产技术领域,按重量百分比计,其原料组分为0.01%-3%海藻酸纳、0.01%-3%磷酸三钠、0.001%-1%十二烷基硫酸钠、0.1%-2%维生素、0.1%-5%碳酸丙烯酯和余量的去离子水,添加剂在使用时需要加入氧化钠溶液制成制绒液,添加剂与氢氧化钠溶液的体积百分比为0.1-5:100,制绒液的温度为70℃-90℃,单晶硅的制绒时间为600s-1500s。本技术利用海藻酸钠的高粘度来控制反应速度,同时增大氢氧化钠浓度,得到大小均匀金字塔绒面,且海藻酸钠对金属有螯合作用,对硅片有清洁作用,且成本低廉。
6、一种用于单晶硅片制绒前的粗抛清洗液及其使用方法
 [简介]:本技术提供一种用于单晶硅片制绒前的粗抛清洗液,主要由无机碱、氧化剂和余量的水组成;所述无机碱与水的质量比为0.8-5%;所述氧化剂与水的质量比为1.5-5.6%。本技术还提供了用于单晶硅片制绒前的粗抛清洗液的制备方法和使用方法。采用本技术溶液及使用方法后,与未经过原有的粗抛工艺相比,可以有效降低硅片表面的颗粒、金属玷污、有机物玷污、自然氧化膜(如手指印、白斑片)出现的几率,提高制绒效果,提升硅片成品率,提高企业的生产效率。
7、一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法
 [简介]:本技术涉及一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法,其单晶硅片的清洗需要经过超洗→鼓泡超洗→药品+纯水超洗第一次→药品+纯水超洗第二次→纯水超洗第一次→纯水超洗第二次→纯水超洗第三次→纯水超洗第四次,且其中需要利用制水设备将自来水分离成纯水和浓水;只要把上述的纯水超洗第三、纯水超洗第四次后的排放水回收,并与浓水混合后,该混合水可先用于鼓泡超洗,然后用于超洗,之后排放处理,也可以分别用于鼓泡超洗和超洗,再各自排放处理;或是将上述所制得的浓水可先用于鼓泡超洗,然后用于超洗,之后排放处理,也可以分别用于鼓泡超洗和超洗,再各自排放处理。采用本技术,不仅可节约大量用水,节省成本,也可减少废水排放,有利于环保。
8、单晶硅片切割低耗砂浆装置
 [简介]:本技术涉及硅片切割技术领域,提供了一种硅片切割砂浆重液回收装置,单晶硅片切割低耗砂浆装置,包括用于存放砂浆的砂浆桶(1)、离心泵(5)和搅拌装置(4),砂浆桶(1)的桶壁内侧设有加厚层(2),所述加厚层(2)使砂浆桶(1)上侧的桶壁厚度大于砂浆桶(1)底部的桶壁厚度,还包括桶盖(3),离心泵(5)和搅拌装置(4)穿过桶盖(3)伸入砂浆桶(1)内,搅拌装置(4)包括搅拌电机和安装在所述搅拌电机上的搅拌叶片(6)。本技术由于采用了以上技术方案,可以达到降低单晶硅片切割中砂浆的损耗,从而节约生产成本。
9、单晶硅片制绒液的添加剂及使用方法
 [简介]:本技术涉及单晶硅片制绒液的添加剂,添加剂包含的组分为:乳酸、维生素和余量的水。在对太阳电池用单晶硅片进行表面制绒时,将本技术的添加剂加入到碱性制绒液中,达到优异的制绒效果。
10、一种单晶硅片湿法刻蚀后不良片的处理方法
 [简介]:本技术提供了一种单晶硅片湿法刻蚀后不良片的处理方法,A、将刻蚀后的不良片置于紫外灯下照射1-30分钟,紫外灯的功率在100-1000W;B、将照射后的硅片再进行碱制绒,6寸硅片单片减重控制在0.2-0.3g,绒面反射率控制在11-13%;C、将制绒后的硅片进行扩散制结、湿法刻蚀及去磷硅玻璃、镀减反射膜和丝网印刷,制成成品电池。采用本技术的方法对刻蚀后不良片进行处理,成品电池的良品率在90%-93%,电池的平均光电转换效率与正常硅片生产的成品电池基本相同,降低了晶体硅片的报废率,大大节约了生产成本。
11、一种用于单晶硅片碱制绒的添加剂及其使用方法
 [简介]:本技术涉及一种用于单晶硅片碱制绒的添加剂及其使用方法,属于太阳能电池生产技术领域。添加剂由以下组分配制而成:乙醇胺、聚磷酸盐、十二烷基苯磺酸钠、氢氧化钠、水。制绒剂由如下步骤配制而成:⑴将氢氧化钠溶于去离子水中,得到碱性制绒液;⑵上述添加剂加入到碱性制绒液中,得到制绒剂。制绒时,将太阳能电池用单晶硅片浸入到制绒剂中进行制绒,温度控制在75~85℃,制绒时间为15~18min。采用本技术用于单晶硅片碱制绒的添加剂能缩短制绒反应时间,提高产能,所制的绒面金字塔大小均匀,反射率低,适用于不同规格的太阳能电池硅片碱制绒,满足工业化生产的目的。
12、8英寸轻掺单晶硅片的酸腐蚀工艺
 [简介]:本技术涉及8英寸轻掺单晶硅片的酸腐蚀工艺。本工艺根据硅片规格配制酸腐蚀液和设定酸腐蚀液温度、腐蚀时间、酸腐蚀液循环量及排、补酸腐蚀液量,酸腐蚀液是由氢氟酸、硝酸、醋酸进行混合的溶液,各组分所占的重量百分比为:氢氟酸9%-26%;硝酸39%-48%;醋酸26%-52%。采取本工艺,可以稳定量产TTV和TIR增加值均小于1.5μm,表面良好,去除量散差小于1μm的8英寸酸腐蚀硅片,产品合格率高达98%以上。从而可满足市场对8英寸单晶硅片的高品质需求,并将在市场中占据有利位置。
13、一种降低绒面单晶硅片表面反射率的方法
 [简介]:一种降低绒面单晶硅片表面反射率的方法,它涉及制备太阳电池的技术范围及领域。将经过碱腐蚀制作好绒面的单晶硅片,放入等离子体刻蚀设备中进行无掩膜等离子体刻蚀,从而进一步降低单晶硅片的表面反射率。刻蚀所用气体为四氟化碳(CF4)和氧气(O2)的混和气,二者流量比例在10∶1-1∶3之间,处理腔体内气压范围为1-20Pa。本技术能进一步降低单晶硅片表面反射率,对太阳电池转化效率的进一步提高提供了一个可行的途径,它具有简单、方便、有效、成本低、操作简单、无需添加额外设备、适宜大规模生产的特点。
14、一种单晶硅片碱性制绒液的无醇添加剂及其应用
 [简介]:本技术属于单晶硅片碱性制绒液技术领域,尤其涉及一种单晶硅片碱性制绒液的无醇添加剂及其应用。一种单晶硅片碱性制绒液的无醇添加剂,由以下组分及重量百分比组成:含6-12碳链的脂肪醇聚氧乙烯醚:0.15%-5%苯甲酸钠:0.1%-5%无水葡萄糖:0.15%-5%,余量为水。本技术的添加剂无毒性,无腐蚀性,无刺激性,无燃烧和爆炸危险,对人体和环境无危害。
15、一种单晶硅片的制备装置及制备方法
 [简介]:本技术提供了一种单晶硅片的制备装置及制备方法,包括装置本体,在装置本体上设有顶板、晶种上升旋转机构、上护腔、吊绳、隔离阀、晶种夹、石英钳锅、石墨钳锅、硅溶液、加热组件、真空泵、电极、钳锅上升旋转机构、氩气嘴、控制系统、装置本体、下炉腔、绝缘层、直径控制传感器、制备箱,本技术设计合理,单晶硅的制备采用单晶硅元素的提取物首先进行单晶硅的提取、制作,通过提取后的单晶硅元素,利用准备单晶硅片的制作器材进行制作,本技术具有提高单晶硅片的制作品质以及单晶硅片的制作工艺,加快制作单晶硅片的制作效率。
16、一种提高单晶硅片洁净度的清洗工艺
17、一种微纳复合结构单晶硅片的制绒方法
18、自动化单晶硅片倒角装置
19、一种单晶硅片制绒的方法
20、单晶硅片的制备系统
21、n型单晶硅片的表面处理方法
22、一种类单晶硅片的烧结方法
23、一种集成电路用单晶硅片边缘倒角技术
24、一种单晶硅片无醇制绒工艺及其制绒添加剂
25、一种单晶硅片研磨砂轮及其使用方法
26、一种液体抛光单晶硅片的方法
27、太阳能单晶硅片清洗液及清洗方法
28、单晶硅片晶圆的化学清洗工艺
29、具有绒面结构单晶硅片及其制备方法和硅太阳能电池
30、单晶硅片的抛光方法、太阳能电池片及其制作方法
31、单晶硅片的COP评价方法
32、一种单晶硅片制绒添加剂
33、单晶硅片表面制备多巴胺-稀土复合薄膜的方法
34、一种单晶硅片清洁方法
35、一种单晶硅片制绒助剂及制造和使用方法
36、一种单晶硅片的清洗方法
37、单晶硅片表面磷酸基硅烷-CdSe复合薄膜的制备方法
38、一种大直径低氧碳太阳能单晶硅片的制备方法
39、一种太阳能级单晶硅片表面处理方法
40、一种准单晶硅片绒面的制备方法
41、单晶硅片碱性制绒液的添加剂及使用方法
42、单晶硅片清洗装置
43、单晶硅片制绒预清洗液的添加剂及其应用
44、一种单晶硅片制绒用的硫酸软骨素-聚(乙烯基吡咯烷酮-乙烯基吡啶)共聚物的制备方法
45、一种单晶硅片用线切割机清洗装置
46、一种单晶硅片制绒添加剂
47、一种单晶硅片的清洗装置
48、一种去油去蜡单晶硅片制绒液及其制备方法
49、一种除异味单晶硅片制绒液及其制备方法
50、一种制备高效铸锭多晶硅的方法及专用单晶硅片
51、一种单晶硅片单面制绒的方法
52、一种高均匀性单晶硅片制绒液及其制备方法
53、一种低损伤单晶硅片制绒液及其制备方法
54、一种除油污单晶硅片制绒液及其制备方法
55、一种基于机器视觉的太阳能单晶硅片检测系统
56、一种高效型单晶硅片的切割生产线
57、一种籽晶的铺设方法、类单晶硅锭的制备方法和类单晶硅片
58、一种准单晶硅片微缺陷的检测方法
59、一种高效快速单晶硅片制绒液及其制备方法
60、一种太阳能单晶硅片清洗剂及其制备方法
61、太阳能级6寸单晶硅片切割工艺方法
62、一种P型单晶硅片及其制造方法
63、一种单晶硅片切割装置及方法
64、一种单晶硅片制绒剂组合物及其应用
65、一种单晶硅片的制备方法
66、一种应用于超低TTV单晶硅片的切割方法
67、一种单晶硅片绒面的制备方法
68、一种基于单晶硅片检测红外光谱仪稳定性的方法
69、一种单晶硅片预清洗液及其清洗方法
70、一种机床刀具用单晶硅片表面涂层Si3N4复合薄膜的方法
71、一种单晶硅片制绒液及其用于制绒的方法
72、重掺单晶硅片先碱腐蚀后酸腐蚀的腐蚀工艺
73、太阳能单晶硅片、加工方法及其应用
74、一种准单晶硅片绒面的制备方法
75、晶向为[100]的单晶硅片亚微米绒面的制造方法
76、单晶硅片碱性环保型无醇制绒液的添加剂及其使用方法
77、一种单晶硅片的超声波清洗装置
78、一种准单晶硅片的制绒方法
79、一种单晶硅片的制绒方法
80、一种单晶硅片的绒面制备方法
81、重掺单晶硅片先酸腐蚀后碱腐蚀的腐蚀工艺
82、一种IGBT用8英寸单晶硅片的酸腐蚀工艺
83、在单晶硅片表面制备碳纳米管复合薄膜的方法
84、单晶硅片表面磷酸基硅烷-稀土纳米薄膜的制备方法
85、单晶硅片表面的处理方法
86、一种太阳能单晶硅片清洗剂
87、单晶硅片衬底的磁控溅射铁膜合成二硫化铁的制备方法
88、非添加剂型单晶硅片缓释蚀刻液的制备方法
89、直拉单晶硅片的结构缺陷检测方法
90、类单晶硅锭制备方法及切割制备类单晶硅片方法
91、单晶硅片精确端面磨切机
92、一种八英寸硅单晶硅片切割方法
93、一种基于金刚线切割的单晶硅片的湿法制绒方法
94、一种在单晶硅片表面制备Si3N4复合薄膜的方法
95、一种单晶硅片的预清洗方法
96、一种太阳能电池用单晶硅片的机械式制绒方法
97、p型单晶硅片的表面处理方法
98、类单晶硅片绒面结构及绒面结构的制绒方法及应用
99、单晶硅片制绒添加剂及其使用方法
100、单晶硅片的制备方法
101、大尺寸单晶硅片表面有机物沾污的红外透射检测方法
102、一种制绒白斑单晶硅片的返工工艺
103、单晶硅片刻蚀抛光方法
104、一种消除掺氮直拉单晶硅片中原生氧沉淀的方法
105、基于(111)单晶硅片的高谐振频率高冲击加速度计及制作方法
106、太阳能级6寸单晶硅片切割工艺方法
107、一种单晶硅片表面的处理方法
108、准单晶硅片清洗方法
109、单晶硅片及其制备方法
110、一种太阳能电池用单晶硅片的制绒方法
111、一种单晶硅片的退火方法
112、一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液
113、一种单晶硅片检测机器人工作站
114、一种低反射率单晶硅片制绒液及其制备方法
115、一种绿色环保单晶硅片制绒液及其制备方法
116、单晶硅片碱抛清洗方法
117、一种太阳能单晶硅片生产工艺
118、一种基于单晶硅片衬底的CdS/CdTe太阳电池
119、用于金刚线切割单晶硅片制绒的添加剂及其应用方法
120、一种偏振激光散射检测单晶硅片亚表面损伤的方法
121、一种单晶硅片成品存放架
122、一种单晶硅片的清洗工艺
123、一种具有双峰金字塔绒面结构的单晶硅片
124、一种太阳能单晶硅片的清洗工艺
125、一种高沸点单晶硅片喷洒制绒添加剂
126、一种用于单晶硅片制绒前的预清洗剂及使用方法
127、单晶硅片表面氨基硅烷-稀土纳米薄膜的制备方法
128、单晶硅片液体抛光方法
129、单晶硅片的制绒液及其制备方法
130、单晶硅片水基清洗剂
131、金和镍掺杂单晶硅片式负温度系数热敏电阻及其制备方法
132、一种使用金钢线快速切割工艺的单晶硅片切片机
133、单晶硅片表面磷酸基硅烷-碳纳米管复合薄膜的制备方法
134、太阳能电池单晶硅片绒面的制备方法
135、一种单晶硅片制绒的清洗方法及单晶制绒设备
136、单晶硅片表面制备磺酸基硅烷-稀土纳米复合薄膜的方法
137、一种单晶硅片制绒方法
138、扩散后单晶硅片次品返工方法
139、一种太阳电池用单晶硅片表面改性方法
140、一种籽晶铺设方法、类单晶硅锭的铸造方法及类单晶硅片
141、一种单晶硅片碱式制绒工艺
142、一种弱氧化单晶硅片的制绒方法
143、单晶硅片生产车间用下料装置
144、一种在单晶硅片上制备稀土修饰石墨烯陶瓷复合薄膜的方法
145、一种单晶硅片的制绒方法
146、单晶硅片抗机械力的提高
147、金刚线切割单晶硅片快速清洗制绒工艺
148、单晶硅片太阳能电池制造方法及其刻蚀方法
149、单晶硅片植绒工艺液及其制备方法
150、用于单晶硅片化学机械抛光的抛光液
151、太阳能单晶硅片的制绒液及其制备方法
152、一种以绒面单晶硅片为基底的含硅量子点薄膜材料的制备方法
153、单晶硅片清洗制绒方法
154、等离子体增强化学气相沉积法产生的不合格单晶硅片处理方法
155、类单晶硅片的制绒方法
156、单晶硅片制绒无醇添加剂及其使用方法
157、一种单晶硅片制绒液回收装置及回收方法
158、一种单晶硅片的清洗方法
159、一种去除单晶硅片指纹印及重油污的方法
160、一种太阳能电池单晶硅片的制造方法
161、一种超薄单晶硅片和制作该硅片的线切割装置及切割方法
162、包含倒四棱锥绒面结构的单晶硅片及其应用
163、整流单晶硅片免喷砂扩散镀镍工艺
164、一种太阳能电池单晶硅片的制绒方法
165、一种单晶硅片的制绒方法
166、一种太阳能电池生产中去除单晶硅片上手指印的方法
167、一种低反射率单晶硅片的制绒方法
168、一种用于制备大面积柔性超薄单晶硅片的湿法化学腐蚀法
169、一种单晶硅片生产系统及其生产工艺
170、一种新型单晶硅片制绒添加剂的制造及简单制绒方法
171、一种太阳能单晶硅片切片装置
172、一种小绒面单晶硅片制绒液及其制备方法
173、一种籽晶的铺设方法、类单晶硅锭的制备方法和类单晶硅片
174、一种单晶硅片截面打磨用滚磨机
175、一种环保型单晶硅片制绒液及其制备方法
176、一种低挥发性单晶硅片制绒液及其制备方法
177、一种去除单晶硅片酸腐蚀斑痕的方法
178、一种太阳能单晶硅片生产用夹取装置
179、一种籽晶的铺设方法、类单晶硅锭的制备方法和类单晶硅片
180、一种光吸收性能好的单晶硅片
181、生产单晶硅片用制绒切割装置
182、一种高效的单晶硅片水洗脱胶装置
183、单晶硅片硼磷同扩的工艺
184、表面具有超疏水性纳米硅线阵列的单晶硅片及其制备方法
185、一种单晶硅片的制绒方法
186、单晶硅片倒金字塔制绒用辅助剂及其应用
187、一种LED用单晶硅片线切割装置
188、一种单晶硅片制绒废液的处理方法
189、一种单晶硅片及其制作方法、电池片的切割方法
190、降低太阳能8寸单晶硅片氧含量的方法
191、一种在单晶硅片表面制备ZrO2复合薄膜的方法
192、一种硅基太阳能电池及其单晶硅片钝化方法
193、一种准单晶硅片的制绒方法
194、太阳电池用单晶硅片单面抛光方法
195、准单晶硅片的外观检测方法
196、金刚线切割单晶硅片专用碱制绒添加剂及其使用方法
197、一种12英寸轻掺单晶硅片的酸腐蚀方法
198、用于制造单晶硅片绒面的加热装置和方法
199、倒金字塔绒面单晶硅片的制绒添加剂及其应用
200、超声波清洗单晶硅片方法及其装置
201、包含倒四棱锥绒面结构的准单晶硅片及其制绒方法
202、一种高效单晶硅片制绒液及其制备方法
203、一种高效环保单晶硅片制绒液及其制备方法
204、一种易清洗的单晶硅片制绒液及其制备方法
205、一种单晶硅电池生产中去除单晶硅片上磷硅玻璃的方法
206、一种在单晶硅片表面制备Co3O4复合薄膜的方法
207、一种单晶硅片制绒添加剂
208、一种单晶硅片湿法刻蚀后不良片制作太阳能电池的方法
209、单晶硅片表面制备巯基硅烷-稀土自润滑复合薄膜的方法
210、硼镓共掺单晶硅片及其制备方法和太阳能电池
211、掺锗重掺磷直拉单晶硅片的内吸杂结构制备工艺
212、一种单晶硅片制绒添加剂、制绒液及对应的制绒方法
213、一种单晶硅片的退火制绒方法
214、单晶硅片的COP产生原因的判定方法
215、一种单晶硅片表面织构化的方法
216、用于单晶硅片的无醇碱性制绒液、制绒方法、太阳能电池片及其制作方法
217、太阳能单晶硅片用胶粘剂
218、一种单晶硅片降低电阻值的处理方法
219、单晶硅片表面制备巯基硅烷-稀土纳米复合薄膜的方法
220、一种籽晶铺设方法、铸造准单晶硅锭的方法及准单晶硅片
221、单晶硅片表面自洁性二氧化钛纳米薄膜的制备方法
222、采用金钢线高精度切割的单晶硅片切片机
223、固结金刚石线切割单晶硅片的制绒方法
224、单晶硅片切割用砂浆的配制方法
225、一种太阳能电池单晶硅片的界面钝化方法
226、太阳能单晶硅片制绒液及其应用方法
227、单晶硅片表面制备磺酸基硅烷-稀土纳米复合薄膜的方法
228、制备单晶硅片表面完整层的新途径
229、准单晶硅片的制绒方法
230、单晶硅片的清洗工艺
231、一种清洗单晶硅片表面的方法
232、一种单晶硅片的制绒添加剂及其应用
233、一种籽晶的铺设方法、准单晶硅片及其制备方法
234、一种电池用单晶硅片的制绒方法
235、一种用于单晶硅片制绒的制绒液
236、一种电池单晶硅片的制绒方法
237、单晶硅片制绒添加剂及应用
238、一种单晶硅片的清洗方法及其处理工艺
239、一种单晶硅片生产装置及方法
240、一种用于除去单晶硅片表面有机物的漂洗液及清洗方法
241、一种低残留单晶硅片制绒液及其制备方法
242、单晶硅片的制绒方法
243、一种单晶硅片的制绒方法
244、一种60μm金刚线切割180μm厚度单晶硅片的工艺
245、一种保证多晶硅片或类单晶硅片质量稳定性的方法
246、一种清洗单晶硅片的混酸及其清洗方法
247、单晶硅片的制备方法和应用
248、一种超薄单晶硅片的制备方法
249、一种太阳能单晶硅片切片装置
250、一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置
251、一种单晶硅片用线切割机切削液供给装置
252、基于多次称重获得单晶硅片切割损伤层厚度的测试方法
253、基于持续称重获得单晶硅片切割损伤层厚度的测试方法
254、一种太阳能单晶硅片清洗剂
255、一种高效单晶硅片切割工艺
256、一种单晶硅片的切割方法
257、单晶硅片表面自组装聚电解质-稀土纳米薄膜的制备方法
258、一种用于清洗太阳能单晶硅片的清洗工艺
 
  以上为本套技术的目录及部分简要介绍,内容都包括具体的生产制作过程,收费260元,购买或咨询更多相关技术内容可联系:微信/电话:13510921263



在线订购本套或寻找其它技术内容

  • *姓名:

  • *电话:

  • *QQ/微信:

  • *订购或需要其它内容: