1、一种铝合金靶材及其配方技术
[简介]：本技术属于材料加工技术领域，具体涉及一种铝合金靶材及其配方技术。所述的铝合金靶材，以相应原子百分比的铜、硅和稀土元素为原料，制备铝合金靶材，改善所述铝合金靶材的导电性、抗腐蚀性能和抗氧化性能。具体地，铜的加入，使所述铝合金靶材的导电性能提高，硅的加入改变所述铝合金靶材的热膨胀系数，消除薄膜中产生的压缩残余应力，从而消除膜层起包现象，改善溅射镀膜膜层的表面质量。本技术的铝合金靶材的配方技术，先以全部的铜、硅、稀土元素和部分铝混合熔融制成母合金，所述母合金的制备过程使铜、硅和稀土元素更好地与铝熔融混合，再以熔融混合好的铝?硅?铜?稀土合金与剩余部分的铝熔融铸锭，以解决硅、铜难熔融及成分均匀等问题，获得成分均匀的铝合金靶材。
2、一种钒钨合金靶材及其配方技术
[简介]：本技术提供了一种钒钨合金靶材及其配方技术，该靶材由钒粉、钨粉及粘结剂制作组成，其中钒粉与钨粉的质量配比为19:1~3:2，所述钒粉与钨粉的纯度大于99.5%。该配方技术包括以下步骤：按比例称取钒粉与钨粉，并将两者充分混匀；将混匀的钒粉和钨粉加入粘结剂进一步混匀，并处理得到干燥的钒钨粉与粘结剂的复合粉末材料；将步骤(2)的复合粉末材料进行等离子喷涂操作；取下喷涂所得的构件，并对所述构件进行处理得到成品。本技术的钒钨合金靶材均匀性好，稳定性高。本技术的配方技术采用等离子喷涂方式简单易行，无需模具设计和昂贵的压制设备，操作方便，制备所得的靶材溅射性能优良，杂质少，适用于光学镀膜。
3、一种钒钼合金靶材及其配方技术
[简介]：本技术提供了一种钒钼合金靶材及其配方技术，该靶材由钒粉、钼粉及粘结剂制作组成，其中钒粉与钼粉的质量配比为99:1~90:10，所述钒粉与钼粉的纯度大于99.5%。该配方技术包括以下步骤：按比例称取钒粉与钼粉，并将两者充分混匀；将混匀的钒粉和钼粉加入粘结剂进一步混匀，并处理得到干燥的钒钼粉与粘结剂的复合粉末材料；将步骤(2)的复合粉末材料进行等离子喷涂操作；取下喷涂所得的构件，并对所述构件进行处理得到成品。本技术的钒钼合金靶材均匀性好，稳定性高。本技术的配方技术采用等离子喷涂方式简单易行，无需模具设计和昂贵的压制设备，操作方便，制备所得的靶材溅射性能优良，杂质少，适用于光学镀膜。
4、一种含铝和硼元素的高熵合金靶材及其制备工艺
[简介]：本技术提供了一种含铝和硼元素的高熵合金靶材的制备工艺，由以下步骤组成：以铝粉和第一金属粉为配料，在氩气保护下采用机械合金化法，制备得到铝合金粉；将铝合金粉与含硼的第二粉末混合，采用球磨法进行研磨；将研磨后的含铝和硼的合金粉末放置于石墨磨具中，在真空中采用放电等离子烧结法对合金粉末进行烧结；烧结后对石墨磨具冷却脱模得到含铝和硼的合金靶材；该工艺可以准确地控制B元素含量，且各元素成分及含量在较大的范围内便于调控；可以避免硼元素在加工过程中大量挥发；可以避免因铝元素的加入导致烧结温度过低引起靶材结合性差；所得到的合金靶材成型性好，相对密度较高，孔隙率相对较低，晶粒尺寸小，各成分分布均匀。
5、一种银铜合金靶材及其配方技术
[简介]：本技术提供了一种银铜合金靶材及其配方技术，属于溅射靶材技术领域。本技术提供的银铜合金靶材的配方技术，包括以下步骤：将铜和银在保护气氛下进行熔炼，得到液态合金；将所述液态合金进行喷射沉积处理，得到银铜合金铸锭；将所述银铜合金铸锭依次进行均匀化退火、ECAP挤压、低温退火、镦粗变形和轧制处理，得到银铜合金粗锭；将所述银铜合金粗锭进行再结晶退火处理，得到银铜合金靶材。本技术制得的银铜合金靶材具有晶粒尺寸细小、晶粒分布均匀、成分均匀和致密性高的特点。
6、一种低氧钼铌合金靶材的生产方法
[简介]：本技术提供了一种生产低氧钼铌合金靶材的方法，包括以下步骤：1、将钼粉放在真空烧结炉中进行热处理；2、将铌金属粉与碱金属卤化物MX均匀混合得到混合粉；3、将步骤1中得到的钼粉与步骤2得到的混合粉放入V型混料机中混合，放入胶套后通过冷等静压压制成型；4、将压锭放在真空?氢气两用烧结炉中进行热处理。本技术相对于现有技术，该方法除氧成本低，效果好，所得钼铌合金靶材杂质、氧含量低，性能优异。
7、一种硫系多元合金靶材及其制造方法
[简介]：本技术提供了一种硫系多元合金靶材及其制造方法，所述靶材包括的化学元素及其质量分数为：锗10?30％，砷20?40％，硒30?50％，硅0?10％，碲0?10％；所述靶材的相对密度≥99.5％，氧含量低于150ppm。所述制造方法首先在真空条件下合成高纯度合金，再采用高速喷嘴气雾化制球形粉末，合金快速凝固成玻璃态，同时增氧很小，最后采用真空热压或者放电等离子体烧结实现高致密烧结成形，烧结过程中不存在污染问题。采用本技术制备的硫系多元合金靶材的综合性能好，组织性能优异，密度高，氧含量低。
8、一种Fe、Al、Co、Cu、Cr、Mn合金靶材的配方技术
[简介]：一种Fe、Al、Co、Cu、Cr、Mn合金靶材的配方技术，属于粉末冶金技术领域。本技术解决了目前合金靶材加工过程中原料易氧化、原料间结合力差、浸润不良而导致靶材致密度低、机械加工及成型性能差等问题，本技术选择纯度大于99.9％的Fe、Al、Co、Cu、Cr、Mn块状金属，按照原子等摩尔比比例进行配比混合，在非自耗真空熔炼炉中，对混合后的合金原料进行熔炼、粉末化、粉末化烧结及热等静压处理，冷却出炉后获得Fe、Al、Co、Cu、Cr、Mn合金靶材。本方法可广泛用于金属?氧化物复合材料的制造，并适合进行连续性的工业化生产。
9、金属合金靶材制备含氢氧化锌铝透明导电薄膜的方法
[简介]：一种金属合金靶材制备含氢氧化锌铝透明导电保膜的方法。本技术采用磁控溅射方法，靶材为铝重量百分比2%的锌铝合金，衬底为普通钠玻璃，以氩气和水蒸气作为溅射气氛，其中水蒸气作为反应气体，密封水罐为水蒸气源，采用针阀和恒温装置控制水蒸气流量。首先将溅射真空腔体背底真空抽至8.0×10-4pa，样品台温度为室温至250℃，打开贮水罐管道上的针阀，向真空腔体中通入水蒸气。通过针阀调整水蒸气压力范围为5×10-3pa~5.0×10-2pa，再向真空腔体中通入氩气，通过调整质量流量计，调整真空腔体的真空度至0.2Pa~1Pa。开始溅射，将溅射功率调节至50W~100W。待辉光稳定后，移开挡板，开始沉积氧化锌铝膜。沉积时间为20min~40min。待样品台温度低于100℃时打开真空腔体，取出氧化锌铝膜样品。
10、整体式铝合金靶及其制造方法
[简介]：本技术提供铝或铝合金溅射靶及其制造方法。对纯的铝或铝合金进行机械加工以制造圆形坯料，然后使所述坯料进行重结晶退火以获得所需的晶粒尺寸和晶体织构。在所述退火之后，向所述坯料提供10~50%的额外应变以提高机械强度。此外，在所述靶的凸缘区中的应变大于其它靶区域中的应变，其中，所述凸缘区中的应变以约20~60%应变的比率施加。然后，对所述坯料进行精加工以形成具有所需的晶体织构和足够的机械强度的溅射靶。
11、一种带有铜合金背板的镍铂合金靶材及其配方技术
12、一种钽钌合金靶材及其配方技术
13、一种光伏反光膜用耐腐蚀铝合金靶材及其配方技术和铝合金薄膜
14、一种在金属材料表面镀膜获得耐高温涂层的铝钛钨三元合金靶材及其配方技术
15、一种长寿命铜锰合金靶材的加工方法
16、高锰含量铝锰合金靶材的制造方法
17、钨钛合金靶材、背板及钨钛合金靶材组件
18、铝系合金靶材的制造方法及用该方法得到的铝系合金靶材
19、Cu合金靶用材料、Cu合金靶、Cu合金膜及触摸面板
20、一种W-Ti合金靶材组件扩散焊接方法
21、钨钛合金靶坯及靶材的制造方法
22、一种铬铝合金靶材的生产方法
23、一种Al添加Ni?W合金靶材及其制造方法
24、一种铸造NiCrAlYSi合金靶材的工装及铸造方法
25、一种轧制加工高纯度、高致密度钼合金靶材的方法
26、一种新型的垂直磁记录介质软磁性底层用合金靶材FeCoTaZr的制造方法
27、一种铌合金靶材及其配方技术
28、铜合金靶材、其制造方法、及其制成的薄膜及太阳能电池
29、一种用四元素合金靶材制备铜锌锡硫薄膜的方法
30、铬合金靶材及具有硬质薄膜的金属材料
31、一种镍或镍合金靶材与背板的焊接方法
32、一种钨合金靶材及其配方技术
33、钨钛合金靶材加工方法和加工装置
34、从废镍铂合金靶材中分离镍铂的方法
35、一种制备CoCrAlY合金靶材的方法
36、垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的制造方法
37、一种高致密铬钨合金靶材的配方技术
38、导电薄膜用的合金靶材及制作方法
39、垂直磁记录介质中间层用镍基合金靶材及其制造方法
40、一种铝铬硼合金靶材及其配方技术
41、一种有超细晶组织的长寿命铜锰基合金靶材及其加工方法
42、采用中频反应磁控溅射铟锡合金靶制备ITO膜的方法及系统
43、一种钌及钌合金靶材的加工方法
44、钼合金靶材的制法
45、带有铜合金背板的镍铂合金靶材及其配方技术
46、溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材
47、一种钒硅合金靶材及其配方技术
48、一种铬铝合金靶材其配方技术及应用
49、铝钪合金靶材配方技术
50、一种高纯高密硅锆合金靶材及其配方技术
51、一种制备大尺寸高纯钨钛合金靶材的方法
52、一种用于大电流密度M型*极敷膜的合金靶材配方技术
53、一种磁控溅射Fe-Co合金靶的制造方法
54、一种高纯钽钌合金靶材的真空热压烧结配方技术
55、一种薄膜电池铜铟镓硒合金靶材的配方技术
56、一种钛铝镁合金靶材及其配方技术
57、锡铜合金靶生产工艺
58、铜合金靶
59、一种细晶粒铝钪合金靶材及其配方技术和应用
60、一种用于真空磁控溅射类纯金色金合金靶材及其配方技术
61、一种铬铝硅镍四元合金靶材及其配方技术
62、一种钛铝合金靶材的生产方法
63、一种溅射旋转铝铜合金靶材及其配方技术
64、一种高纯硫系相变合金靶材的焊接方法
65、镍铂合金靶材及其配方技术
66、一种钛铝合金靶材的粉末冶金配方技术
67、一种高致密度钼铌合金靶材及其制备工艺
68、一种改性钨镍合金靶材制备工方法
69、一种Al-Sc合金靶材成型方法
70、一种制备CoCrAlYSi合金靶材的方法
71、一种锗砷硒碲合金靶材及其配方技术
72、一种锰合金靶材及其制造方法
73、高纯度Ru合金靶及其制造方法以及溅射膜
74、钛铝合金靶材的真空感应熔炼方法
75、钨合金靶材铣削加工方法
76、铝钪合金靶坯及其配方技术及应用
77、钨钛合金靶材与铜合金背板扩散焊接方法
78、Ni?W?Cr合金靶材的制造方法
79、一种溅射用高纯铝铜合金靶材坯料的配方技术
80、一种磁控溅射Co-Cr-Ta合金靶的制造方法
81、一种钨镍合金靶材加工方法
82、一种铝钕合金靶材的生产方法
83、金属混合真空溅射合金靶材材料及其制作方法及用途
84、一种铝钛硅合金靶材及其配方技术
85、铝合金靶材及其配方技术
86、一种高质量钛铝合金靶材的制造方法
87、一种合金靶材的纠正装置
88、一种钨钛合金靶材结构的制作方法
89、一种采用冷等静压和液相烧结制备W-10Ti合金靶材的方法
90、钛铝铬合金靶材及其配方技术
91、一种钛铝锆三元合金靶材及其配方技术
92、锡锗砷合金靶材中锗、砷量的测定方法
93、一种银钛合金靶材防开裂轧制工艺
94、焊料接合电极以及焊料接合电极的覆膜形成用铜合金靶
95、铬铝合金靶材及其配方技术
96、钼铌合金靶材的生产工艺
97、一种新型铁基合金靶材的制造方法
98、高密度钼铌合金靶材的制备装置和方法
99、铬钼合金靶材的配方技术
100、一种钴钽锆合金靶材的配方技术及其应用
101、一种Al-Sc-X多元合金靶材及其配方技术
102、一种高纯度钽钌合金靶材及其配方技术
103、铝锰合金靶材的制造方法
104、镍铼合金靶材及其制法
105、一种耐腐蚀耐磨铜锰合金靶材及其配方技术
106、一种铝氮钪合金靶材的配方技术和应用
107、一种钛铝合金靶材快速热压烧结成型工艺
108、一种大尺寸钼基碱金属合金靶材的配方技术
109、NiTa系合金、靶材及磁记录介质
110、一种钛铝合金靶材、以及使用该靶材制备玫瑰金颜色的镀膜方法
111、铬合金靶材
112、一种含有稀土元素的合金靶材及其配方技术
113、钛铝锆合金靶材及其配方技术
114、一种高纯度、高成分均匀性的镍铬合金靶材及其配方技术
115、银合金靶材、其制造方法及应用该靶材的有机发光二极管
116、一种钨钛合金靶材焊接方法
117、一种铜合金靶材的加工方法
118、Cu电极保护膜用NiCu合金靶材以及叠层膜
119、以预合金靶进行一次溅镀方式制作半导体化合物薄膜层方法
120、铬铝合金靶材的粉末真空热压烧结配方技术
121、有机EL元件的反射电极膜形成用银合金靶和其制造方法
122、一种电致变色玻璃钨镍合金靶材及其配方技术
123、一种多元合金靶材、多元金属/氮化物复合涂层及其配方技术
124、一种钼钛合金靶材的配方技术
125、氧含量低的Cu?Ga系合金粉末、Cu?Ga系合金靶材、以及靶材的制造方法
126、一种金砷合金靶材中砷量的测定方法
127、铪合金靶及其制造方法
128、一种锆银合金靶材及其配方技术与应用
129、导电薄膜或其保护层用的合金靶材及其制造方法
130、一种改性钨镍合金靶材制备工方法
131、一种钒铝硅三元合金靶材及其配方技术
132、一种高密度、大尺寸、高均匀性钼钛合金靶材的配方技术
133、一种制备超高纯镍铂合金靶材的方法
134、一种溅射镀膜用高硅含量硅铝合金靶材及其配方技术
135、一种钽钌合金靶材及其配方技术
136、钼钛合金靶材及其生产方法
137、一种铜银合金靶材的配方技术
138、一种钛铝合金靶材的配方技术
139、Ni-Pt合金和Ni-Pt合金靶
140、一种金硼合金靶材的配方技术
141、一种铜铝合金靶坯的配方技术
142、一种铝钛铌三元合金靶材及其配方技术
143、锆钇合金靶件的配方技术
144、合金靶材磁控溅射法制备CoSi2薄膜的方法
145、铬铝合金靶材及其配方技术
146、记录层用的合金靶材、记录层、光记录媒体及蓝光光碟
147、一种含硼合金靶材及其配方技术
148、含有氩或氢的铜以及铜合金靶
149、采用真空烧结工艺制备金属钨及钒钨合金靶材
150、合金靶与硫化物靶共溅射制备铜锌锡硫薄膜吸收层的方法
151、以高熵液态合金靶材制作的手机镀膜
152、电弧喷涂工艺制备金属锌合金靶材的方法
153、一种高致密度高含量钼铌合金靶材的制备工艺
154、一种钼钾合金靶材的配方技术
155、一种在N型化合物半导体材料表面形成欧姆接触的合金靶材及其配方技术
156、一种矾铝合金靶材及其配方技术
157、钛合金覆膜及钛合金靶材
158、银合金靶材、薄膜及其配方技术
159、一种超细晶铜锰合金靶材的加工方法
160、一种多主元合金靶材及其配方技术
161、一种用于真空磁控溅射的铝银合金靶材及其配方技术
162、一种钨铌合金靶材加工方法
163、一种代铬(Ⅵ)镀层的Cr-Fe合金靶材及制备与应用
164、一种钴铁合金靶材、磁导电层、磁电容单元、磁电容器件及其配方技术
165、一种热压法制备高纯微观组织可控的钼铌合金靶材方法
166、铝锰合金靶材组件的制造方法
167、一种FeAlCoCuNiV高熵合金靶材热等静压成型的配方技术
168、一种过渡金属掺杂的碲化锑合金靶材的配方技术
169、一种改性钨铌合金靶制备工方法
170、一种金合金靶材及其配方技术
171、一种高致密铬合金靶材的生产方法
172、垂直磁记录介质中的合金靶材及其配方技术
173、一种通过大强度电流生产铝钛合金靶材的方法
174、一种钨硅合金靶材的配方技术
175、Ni?Fe?W合金靶材及其制造方法
176、一种含硅合金靶材及其配方技术
177、半导体及太阳能溅射靶材行业用钨钛合金靶材的配方技术
178、一种W?Ti合金靶材及其制造方法
179、一种钛硅合金靶材的制造方法
180、一种溅射用铜铟合金靶材的配方技术
181、一种高纯NiPt合金靶材及其配方技术
182、一种钼合金靶材的制作方法
183、一种Mo?Ta合金靶材的配方技术
184、高纯度镍或镍合金靶及其制造方法
185、一种薄壁锆合金靶件高精度切割解体装置
186、一种旋转镍铬合金靶材及其配方技术
187、一种制备NiV合金靶材的方法
188、Cu电极保护膜用NiCu合金靶材以及叠层膜
189、钛铝合金靶材及其配方技术
190、一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其配方技术
191、铝钪合金靶坯及其配方技术及应用
192、银-金合金靶材、其制造方法及应用
193、一种溅射用铜镓合金靶材及其配方技术
194、钨钛合金靶材焊接方法
195、一种W-Ti合金靶材的配方技术
196、复合钛铝合金靶及其配方技术
197、一种高致密铬钨合金靶材的配方技术
198、高纯度、高致密度、大尺寸钼合金靶材的配方技术
199、一种铀铝合金靶件芯坯配方技术
200、一种用于电致变色玻璃镀膜的钨镍合金靶材的配方技术
201、用于铜铟镓硒薄膜太阳能电池的铜镓合金靶的配方技术
202、一种钼铌合金靶材板的配方技术
203、一种高纯硫系相变合金靶材及其配方技术
204、铬铝硅合金靶材及其配方技术
205、钼合金靶材的配方技术
206、一种NiMnX合金靶材的配方技术
207、一种钛硅合金靶材的低成本配方技术
208、一种旋转硅镁合金靶材及其配方技术
209、一种铜铟镓合金靶材的配方技术
210、一种铝钪合金靶坯及其配方技术和应用
211、一种掺氮的铝钪合金靶材及其制造方法
212、一种离心成型制备NiPt合金靶材的方法
213、钛铝硅合金靶材的配方技术
214、一种银合金靶材、银合金镀层和电致变色后视镜
215、用于真空磁控溅射银基合金靶材坯料及其配方技术和应用
216、一种轧制加工钨钛合金靶材的配方技术
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