1 一种单晶硅片清洗剂及其应用
简介：本技术提供了一种单晶硅片清洗剂及其应用，本技术的单晶硅片清洗剂包括以下原料：醇类化合物、过氧化氢、烷基氢氧化铵水合物、氨水和含氟表面活性剂；其实现了高效去除单晶硅片表面的聚合物颗粒、光致抗蚀剂、人皮油脂、硅基真空脂、机械油、金属污染物等加工杂质并去除硅片表面的机械损伤层；同时，本技术避免了以无机强碱作为传统单晶硅片清洗剂主要成分的技术缺陷，提高了有机污染物的去除效果，改善了强碱对硅片5.5％的减薄损失，降低了后续制绒过程的破片率。
2 一种清洗剂及应用清洗剂清洗半导体硅片的方法
简介：本技术提供了一种具有良好清洗效果的清洗剂，其包括：试剂一：体积比为3:1:2:3的丙二醇或异丙醇、壬基酚聚氧乙烯醚、反‑1,2‑二氯乙烯、去离子水混合溶液；试剂二：体积比为4:1的硫酸、双氧水混合溶液；试剂三：体积比为1:1:5的氢氧化铵、双氧水、去离子水混合溶液；试剂四：体积比为3:1:1000的氢氟酸、双氧水、去离子水混合溶液，本技术同时提供了一种应用上述清洗剂清洗半导体硅片的方法。
3 一种高效环保无污染硅片清洗剂及其配方技术
简介：本技术提供了一种高效环保无污染硅片清洗剂，由以下重量份的原料制成：复配表面活性剂11～14份、金属离子络合剂8～10份、异辛醇磷酸酯2～3份、C6～C18脂肪酸3～5份、C4～C14吡啶3～4份、过氧化氢28～32份、氨水185～195份；所述复配表面活性剂为十二胺聚氧乙烯醚与椰油胺聚氧乙烯醚的复配混合物。本技术的高效环保无污染硅片清洗剂仅存在碳、氢、氧、氮四种元素，即可以有效去除有机物沾污，又可以去除金属离子沾污，同时不引入新的金属离子污染，由于配好后的清洗液PH小于10，其对硅材料表面的腐蚀速度小于3nm/min，不影响硅片表面结构，有利于提高硅片制绒后的吸光能力。
4 一种太阳能硅片清洗剂
简介：本技术提供了一种太阳能硅片清洗剂，属于电子工业用表面清洗技术领域。本技术将蚕茧与碳酸钠溶液按质量比1：10～1：20加热煮沸，漂洗，干燥，得预处理蚕丝纤维，将预处理蚕丝纤维与溴化锂溶液按质量比1：20～1：30恒温浸泡，透析除杂，离心，取上层清液，即得蛋白水解液；按重量份数计，将10～20份卡拉胶液，8～10份卡波姆，10～20份改性添加剂，10～20份改性海泡石，10～20份酸，8～10份蛋白水解液，50～60份去离子水，5～8份粘蛋白置于混料机中，搅拌混合，即得太阳能硅片清洗剂。本技术提供的太阳能硅片清洗剂具有优异的去污性能，而且可以有效避免二次污染。
5 一种环保型硅片清洗剂及配方技术
简介：本技术提供了一种环保型硅片清洗剂及配方技术，环保型硅片清洗剂由下述浓度的组分配制而成：水0‑99.9份、碱0.1‑100份、表面活性剂0‑10份、防锈剂0‑10份、螯合剂0‑10份、分散剂0‑10份、杀菌剂0‑5份和消泡剂0‑5份，所述份数为重量份数。环保型硅片清洗剂的配方技术是①将水和碱加入混合釜中，搅拌30‑60分钟，得到均匀透明溶液；②将防锈剂加入混合釜中，搅拌30‑60分钟，得到均匀透明溶液；③将表面活性剂、分散剂、杀菌剂和消泡剂加入混合釜中，混合搅拌30‑60分钟，得到均匀透明溶液。整体清洗性能优异，使用成本低，不含磷，不含氮，不含苯酚类，不含亚硝酸盐，重金属等有毒有害原料，保证工人身体不受损害，保证环境免受破坏。
6 一种太阳能硅片用高效清洗剂
简介：本技术提供了一种太阳能硅片用高效清洗剂，按重量份，包括以下组分：氢氧化钠15‑40份;防腐剂10‑34份;无水硅酸钠5‑28份;二丙二醇甲醚6‑25份;异构醇聚氧乙烯醚7‑20份;*离子表面活性剂3‑10份;柠檬酸1.5‑5.5份;脂肪醇聚氧乙烯醚3.5‑12.5份;橄榄油脂肪酸1.6‑4.8份;助剂0.8‑1.5份;十二烷基苯磺酸钠10‑30份;三乙醇胺5‑25份;去离子水50‑90份；所述太阳能硅片用高效清洗剂成分组成简单，制作成本低廉，制作工艺简单，而且有效提高硅片的清洗效果，另外还无危害、不伤手，实用性和经济效果高。
7 一种硅片清洗剂
简介：本技术提供了一种硅片清洗剂，按重量份数计，各组分重量百分比如下：氢氧化钾1‑3％、碳酸钠2‑5％、硅酸钠2‑5％、脂肪醇聚氧乙烯醚3‑10％、全氟烷基乙氧基醚醇2‑5％、四甲基氢氧化铵2‑5％、次氯酸钠5‑10%、三聚磷酸钠2‑5%、磷酸钠5‑6%、余量为去离子水。本技术提供一种硅片清洗剂，能有效去除由线切割单晶硅而产生的表面油脂及硅片内部金属杂质和粘附在硅片表面的尘埃和其它颗粒。
8 硅片清洗剂及硅片清洗方法
简介：本技术涉及一种硅片清洗剂及硅片清洗方法。该硅片清洗剂，含有螯合剂、活性剂、可溶性碱、醇类添加剂、消泡剂、基材湿润剂、抗氧化剂和去离子水。该硅片清洗方法是将待清洗的硅片依次经纯水漂洗、药剂清洗、纯水漂洗、超声漂洗、提拉烘干，得到表面洁净的硅片。上述硅片清洗剂及硅片清洗方法，能够降低硅片崩边、隐裂、脏污的比例，清洗后不出现黑边，硅片在清洗过程中不容易被氧化。同时，上述硅片清洗剂及硅片清洗方法还能够降低万片清洗剂的使用量，改善脱胶清洗员工的作业环境，提高硅片清洗速度。
9 半导体硅片中性水基清洗剂及其配方技术
简介：本技术提供了半导体硅片中性水基清洗剂及其配方技术，按重量份计，所述清洗剂包括：非离子表面活性剂12～21份、*离子表面活性剂8～19份、醇醚类溶剂25～40份、胺类化合物6～18份、抗静电剂3～12份、增溶剂1～4份、去离子水25～70份。与现有技术相比，本技术具有以下优点：(1)本技术所述半导体硅片中性水基清洗剂能够快速渗透到硅片表面，促进污染物的剥离；(2)所述清洗剂对硅片表面无腐蚀和氧化等副作用，保证硅片表面的平整度；(3)所述清洗剂对环境友好，对土壤和水体安全。
10 一种太阳能单晶硅片清洗剂
简介：本技术涉及太阳能单晶硅片技术领域，特别是一种太阳能单晶硅片清洗剂，按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾20‑50份，表面活性剂15‑20份，无水硅酸钠30‑50份，二丙二醇甲醚10‑15份，乙二胺四乙酸四钠盐13‑18份，防腐剂10‑30份，异构醇聚氧乙烯醚30‑50份，水200‑250份。采用上述配方后，本技术的太阳能单晶硅片清洗剂从而使清洗剂清洗能力优异且持久耐用。综上所述，本技术的太阳能硅片清洗剂具有清洗能力优异、生物降解性能佳和低毒低刺激的优点。
11 一种多晶硅片清洗剂及其使用方法
12 一种硅片清洗剂
13 硅片碱洗用清洗剂
14 一种太阳能电池系统中的硅片清洗剂及其制作方法
15 一种用于硅片清洗的混合型超声波清洗剂
16 一种用于硅片清洗的酸性超声波清洗剂
17 一种环保型半导体硅片清洗剂及其清洗方法
18 一种太阳能光伏电池硅片制绒后清洗用的清洗剂
19 一种硅片清洗剂及硅片清洗方法
20 一种太阳能单晶硅片清洗剂及其配方技术
21 一种用于太阳能级硅片的清洗剂及其配方技术
22 一种易降解环保型硅片清洗剂及其配方技术
23 硅片清洗剂
24 电池硅片防腐清洗剂
25 光伏电池硅片清洗剂
26 一种太阳能硅片的清洗剂配方
27 一种高效率易清洗的硅片清洗剂
28 一种太阳能硅片的清洗剂配方技术
29 硅片清洗剂及其配方技术
30 一种太阳能单晶硅片清洗剂
31 硅片预清洗剂
32 一种光伏电池硅片清洗剂及其配方技术
33 一种去除黑蜡、松香和石蜡混合物的半导体硅片清洗剂及其配方技术
34 一种环保太阳能硅片清洗剂及其配方技术
35 一种碱性光伏电池硅片清洗剂及其配方技术
36 一种太阳能级硅片水基清洗剂及其配方技术
37 太阳能级硅片水基清洗剂及其配方技术
38 一种用于集成电路衬底硅片的清洗剂及其配方技术
39 一种水基硅片清洗剂及其配方技术
40 一种去除硅片表面污斑的水基清洗剂及其配方技术
41 一种太阳能电池硅片清洗剂及其清洗工艺
42 一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂
43 一种太阳能硅片清洗剂
44 一种太阳能硅片清洗剂
45 光伏电池硅片清洗剂及其配方技术
46 一种用于单晶硅片制绒前的预清洗剂及使用方法
47 环保型太阳能级硅片水基清洗剂
48 太阳能电池硅片清洗剂及其使用方法
49 硅片清洗剂
50 一种太阳能硅片清洗剂及其配方技术
51 硅片清洗剂的配方技术
52 一种硅片清洗剂及其使用方法
53 太阳能电池硅片清洗剂及其使用方法
54 一种硅片清洗剂的配方技术
55 硅片清洗剂及其配方技术
56 单晶硅片水基清洗剂
57 多晶硅片水基清洗剂
58 一种太阳能硅片清洗剂
59 一种用于集成电路衬底硅片的清洗剂及其清洗方法
以上为本套技术的目录及部分简要介绍,完整内容都包括具体的配方配比和生产工艺制作过程。收费260元，购买或咨询更多相关技术内容可联系：13510921263
